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一種膜層圖形的制備方法、薄膜晶體管、陣列基板及顯示裝置,包括:在襯底上形成光刻膠層;對光刻膠進行曝光顯影,形成光刻膠圖形;形成第一膜層,第一膜層包括設置在光刻膠圖形上面的第一部分和設置在光刻膠圖形之間的縫隙的第二部分;在第一膜層的第一部分上...該專利屬于京東方科技集團股份有限公司所有,僅供學習研究參考,未經(jīng)過京東方科技集團股份有限公司授權不得商用。
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