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本發(fā)明提供一種基于清洗工藝制備銅襯底的方法，包括步驟：步驟1），提供制備石墨烯用的銅襯底；步驟2），將所述銅襯底置于有氧環(huán)境中處理，使所述銅襯底表面氧化，形成氧化銅層；以及步驟3），將氧化后的銅襯底放入氧化銅的反應溶液中，以腐蝕去除包含雜質(zhì)...該專利屬于中國科學院上海微系統(tǒng)與信息技術研究所所有，僅供學習研究參考，未經(jīng)過中國科學院上海微系統(tǒng)與信息技術研究所授權不得商用。