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本實用新型涉及一種用于磁材加工的真空熔煉爐，包括熔煉爐以及模殼室，所述模殼室包括模殼以及蓋板，所述模殼的頂部設(shè)置有密封環(huán)，所述密封環(huán)的頂部設(shè)置有導(dǎo)向斜面，所述蓋板的頂部開設(shè)有密封環(huán)嵌入的定位凹槽，所述定位凹槽的底部設(shè)置有卡接斜面，所述模殼的...該專利屬于桐廬科立磁材有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過桐廬科立磁材有限公司授權(quán)不得商用。