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提供一種掩模基板信息生成方法和掩模基板的制造方法，可以解決在將掩模基板吸附到晶片曝光裝置的掩模臺(tái)后掩模基板的平整度惡化而引起晶片曝光裝置制品成品率低的問題。該掩模基板信息生成方法，包括：取得表示掩模基板的主面的平整性的第一信息的工序；取得表...該專利屬于株式會(huì)社東芝所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過株式會(huì)社東芝授權(quán)不得商用。