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當激光振蕩器的輸出變得更高，發展用于半導體膜激光退火工藝的更長的線形光束變成必要的。然而，如果線形光束的長度是３００－１０００ｍｍ或更長，那么用于形成線形光束的光學系統的光路長度變得非常長，從而增加了其占地面積尺寸。本發明縮短了光路長度。為...
該專利屬于株式會社半導體能源研究所所有，僅供學習研究參考，未經過株式會社半導體能源研究所授權不得商用。

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