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本發(fā)明公開了用于操作工件的一腔室或一系列腔室，其被形成為一系列嵌套殼層的多層形式。所述殼層具有外部結(jié)構(gòu)殼體和圍繞超導(dǎo)殼層的電磁屏蔽。超導(dǎo)殼層或處于室溫下或浸入容納于貯槽中的低溫冷卻劑中。所述工件也可用動(dòng)能操縱，使它運(yùn)動(dòng)通過電磁場放大器，并可...該專利屬于斯蒂芬.B.凱斯勒所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過斯蒂芬.B.凱斯勒授權(quán)不得商用。