溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。
本申請涉及一種鈍化層及外延片的制作方法、外延片、發光芯片和顯示器，其中在鈍化層的制作方法中，在外延主體上形成氧化鋁層，對氧化鋁層進行第一退火處理，使得氧化鋁層表面中鋁?氧化學鍵發生斷裂，產生了游離的鋁離子和游離的氧離子，為后續硅離子注入做好...該專利屬于重慶康佳光電技術研究院有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過重慶康佳光電技術研究院有限公司授權不得商用。
溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。
本申請涉及一種鈍化層及外延片的制作方法、外延片、發光芯片和顯示器，其中在鈍化層的制作方法中，在外延主體上形成氧化鋁層，對氧化鋁層進行第一退火處理，使得氧化鋁層表面中鋁?氧化學鍵發生斷裂，產生了游離的鋁離子和游離的氧離子，為后續硅離子注入做好...