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本技術涉及氫氣痕量雜質(zhì)檢測技術領域，且公開了一種用于燃料氫的采樣裝置，包括殼體，所述殼體的內(nèi)部設置有氣源受氣口模塊、壓力監(jiān)測模塊、氣瓶采樣模塊和氣體泄壓模塊，所述氣源受氣口模塊包括固定安裝于殼體左側(cè)壁上的第一受氣管、第二受氣管和第三受氣管，...該專利屬于氫跡技術(上海)有限公司所有，僅供學習研究參考，未經(jīng)過氫跡技術(上海)有限公司授權不得商用。