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本發(fā)明提供了一種標(biāo)準(zhǔn)片及其制作方法、測(cè)試檢驗(yàn)機(jī)臺(tái)抓取缺陷能力的方法，屬于半導(dǎo)體領(lǐng)域。該標(biāo)準(zhǔn)片包括基板，所述基板包括全透光區(qū)域和半透光區(qū)域，所述全透光區(qū)域和半透光區(qū)域均設(shè)置有若干缺陷，所述缺陷包括多種形狀的針孔缺陷。本發(fā)明通過設(shè)置全透光區(qū)域和...該專利屬于合光光掩模科技（安徽）有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過合光光掩模科技（安徽）有限公司授權(quán)不得商用。