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提供了處理基板的設(shè)備和方法，更具體地涉及使用超臨界流體處理基板的設(shè)備和方法。該處理基板的設(shè)備包括：處理室，在所述處理室中，余留在基板上的有機溶劑使用被提供為超臨界流體的流體溶解以干燥所述基板；和再生單元，有機溶劑在所述再生單元中與從處理室排...該專利屬于細(xì)美事有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過細(xì)美事有限公司授權(quán)不得商用。