處理基板的設備和方法技術

提供了處理基板的設備和方法，更具體地涉及使用超臨界流體處理基板的設備和方法。該處理基板的設備包括：處理室，在所述處理室中，余留在基板上的有機溶劑使用被提供為超臨界流體的流體溶解以干燥所述基板；和再生單元，有機溶劑在所述再生單元中與從處理室排出的流體分離以再生所述流體。

【技術實現步驟摘要】
處理基板的設備和方法
這里揭示的本專利技術涉及處理基板的設備和方法，并且更具體地，涉及使用超臨界流體（supercriticalfluid）處理基板的設備和方法。
技術介紹
半導體器件通過包括光刻工藝的各種工藝制成，光刻工藝用于在諸如硅片等的基板上形成電路圖案。當制造半導體器件時，可以產生各種外來物質，諸如微粒、有機污染物、金屬雜質等等。外來物質可導致基板缺陷而對半導體器件的產量直接造成不良的影響。由此，在半導體制造工藝中可能必需包括用于移除雜質的清洗工藝。一般來說，在典型的清洗工藝中，余留在基板上的外來物質用洗滌劑去除，然后使用去離子水（DI-水）清洗基板，使用異丙醇（IPA）干燥清洗后的基板。然而，在半導體器件具有精細的電路圖案的情況中，干燥工藝可具有低效率。另外，由于電路圖案的損傷，即在干燥工藝中經常發生的圖案皺縮(collapse)，干燥工藝不適合于具有約30nm或更小的線寬的半導體器件。由此，為解決上述的局限，關于使用超臨界流體來干燥基板的技術的研究正在積極地進行。
技術實現思路
本專利技術提供了使用超臨界流體處理基板的設備和使用超臨界流體處理基板的方法。本專利技術還提供了用于處理基板的設備，其中用來干燥基板的超臨界流體被再生(recycled)，并且提供了使用超臨界流體處理基板的方法。本專利技術的特征不限于前述內容，本領域技術人員根據說明書和附圖將清楚理解未在這里描述的其它特征。本專利技術提供了一種處理基板的設備。本專利技術的實施方式提供了處理基板的設備，所述設備包括：處理室，在處理室中使用被提供為超臨界流體的流體溶解余留在基板上的有機溶劑以干燥基板；和再生單元(recyclingunit)，在所述再生單元中所述有機溶劑與從處理室排出的所述流體分離以再生所述流體。在一些實施方式中，再生單元可包括分離模塊，所述分離模塊用于冷卻溶解有有機溶劑的流體以將有機溶劑從所述流體中分離。在其它的實施方式中，分離模塊可以被提供多個，并且該多個分離模塊可以彼此串聯連接。在又一個實施方式中，分離模塊可包括：分離罐，從處理室排出的液體被引入到分離罐中；冷卻構件，用于冷卻分離罐；放出管，所述放出管設置在分離罐的下部中用以排出液化的且從流體分離的有機溶劑；和第一排氣管，所述第一排氣管設置在分離罐的上部以排出與有機溶劑分離的所述流體。在另外的實施方式中，分離模塊可進一步包括流入管，用于將從處理室排出的流體供應到分離罐的下部中。在又一實施方式中，分離模塊可進一步包括反向壓力調整器，所述反向壓力調整器設置在第一排氣管中以不斷地保持分離罐的內部壓力。在另外的實施方式中，再生單元可進一步包括柱模塊，所述柱模塊將用于吸收有機模塊的吸收材料提供到從分離模塊排出的流體中以將有機溶劑從流體分離，柱模塊可以被提供多個，并且該多個柱模塊可以彼此串聯連接。在又一實施方式中，柱模塊可以被提供多個，并且該多個柱模塊可以彼此并聯連接。在另外的實施方式中，柱模塊可包括：吸收柱，用于將吸收材料提供到從分離模塊排出的流體中；溫度保持構件，用于不斷地保持吸收柱的內部溫度；和第二排氣管，用于排出流體，所述吸收材料已將所述有機溶劑從所述流體中分離。在再一個實施方式中，柱模塊可進一步包括濃度傳感器，該濃度傳感器設置在第二排氣管中以探測從第二排氣管排出的流體中包含的有機溶劑的濃度。在更進一步的實施方式中，吸收材料可包括沸石。在更進一步的實施方式中，再生單元可包括柱模塊，該柱模塊將用于吸收有機模塊的吸收材料提供到從處理室排出的流體中以將有機溶劑從流體中分離。在本專利技術的其它實施方式中，用于處理基板的方法包括：使用被提供為超臨界流體的流體溶解余留在基板上的有機溶劑以干燥基板；和將有機溶劑從流體中分離以再生所述流體。在一些實施方式中，流體的再生可包括將溶解有有機溶劑的流體冷卻以將有機溶劑從流體分離。在其它的實施方式中，流體的再生可進一步包括將用于吸收有機溶劑的吸收材料提供到流體中以將有機溶劑從流體中分離。在本專利技術的其它實施方式中，處理基板的設備包括：處理室，在處理室中使用被提供為超臨界流體的流體溶解余留在基板上的有機溶劑以干燥基板；存儲罐，流體以液態儲存在存儲罐中；水供應罐，所述水供應罐接收來自存儲罐的流體以產生超臨界流體并且將超臨界流體提供到處理室中；和再生單元，在再生單元中有機溶劑被從處理室排出的流體中分離以再生所述流體并且將再生的流體供應到存儲罐中。在一些實施方式中，再生單元可包括分離模塊，所述分離模塊用于冷卻溶解有有機溶劑的流體以將有機溶劑從流體中分離。在其它的實施方式中，再生單元可進一步包括柱模塊，該柱模塊將用于吸收有機模塊的吸收材料提供到從分離模塊排出的流體中以將有機溶劑從流體中分離。在其它的實施方式中，設備可進一步包括第一冷凝器，用于將從再生單元排出的氣態流體轉變成為液體流體以將液體流體供應到存儲罐內。在其它的實施方式中，設備可進一步包括：第二冷凝器，用于將從所述存儲罐排出的氣態流體轉變成為液體流體；和泵，所述泵從所述第二冷凝器接收所述液體流體以將所述液體流體供應到所述水供應罐內，并且其中，在所述水供應罐中，被所述泵以大于臨界壓力的壓力壓縮的所述流體以大于臨界溫度的溫度加熱以產生超臨界流體。在本專利技術的其它實施方式中，處理基板的方法包括：將液體流體儲存在存儲罐中；將儲存的流體轉變成為超臨界流體；使用被提供為超臨界流體的流體溶解余留在所述基板上的有機溶劑以干燥所述基板；從溶解有所述有機溶劑的所述流體中將所述有機溶劑分離以再生所述流體；并且將所述再生的流體轉變成為液體流體以將所述液體流體供應到所述存儲罐內。在一些實施方式中，流體的再生可包括將溶解有有機溶劑的流體冷卻以將有機溶劑從所述流體中分離的第一再生工藝。在其它的實施方式中，流體的再生可進一步包括將用于吸收有機溶劑的吸收材料提供到流體中以將有機溶劑從流體中分離的第二再生工藝。附圖說明附圖被包括以提供對于本專利技術的進一步理解，并且被包括在本說明書中并構成本說明書的一部分。附圖示出了本專利技術的示例性實施方式并且與說明書一起用以說明本專利技術的原理。在附圖中：圖1是根據本專利技術的一個實施方式的處理基板的設備的平面圖；圖2是圖1的第一處理室的截面圖；圖3是示出二氧化碳的相變的圖；圖4是圖1的第二處理室的截面圖；圖5是根據本專利技術的另一個的實施方式的圖1的第二處理室的截面圖；圖6是示出超臨界流體的流通路徑的圖；圖7是根據本專利技術的一個實施方式的圖6的再生單元的圖；圖8是根據本專利技術的另一個實施方式的圖6的再生單元的圖；圖9是圖7的分離模塊的截面圖；圖10是圖6的柱模塊的截面圖；圖11是示出根據本專利技術的一個實施方式的處理基板的工藝的流程圖；圖12是示出根據本專利技術的一個實施方式的第一工藝的流程圖；圖13是示出根據本專利技術的一個實施方式的第二工藝的流程圖；圖14是示出超臨界流體的供應和排出的圖；圖15是示出根據本專利技術的另一個實施方式的處理基板的工藝的流程圖；圖16是示出分離單元的效率的曲線圖；和圖17是示出分離單元的效率的表格。具體實施方式提供了本專利技術的優選實施方式，以使本公開透徹并且完整，并且充分地將本專利技術的范圍傳達給本領域的技術人員。然而，本專利技術可以不同的形式實施并且其構造不應局限于本文闡述的實施方式。由此，對于本領域技術人員顯而易見的是，在不偏離本本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種處理基板的設備，所述設備包括：處理室，在所述處理室中使用被提供為超臨界流體的流體溶解余留在基板上的有機溶劑以干燥所述基板；和再生單元，在所述再生單元中所述有機溶劑與從所述處理室排出的流體分離以再生所述流體。

【技術特征摘要】
2011.06.30 KR 10-2011-0064987;2011.10.13 KR 10-201.一種處理基板的設備，所述設備包括：處理室，在所述處理室中交替使用惰性氣體和被提供為超臨界流體的流體以溶解余留在基板上的有機溶劑以干燥所述基板；和再生單元，在所述再生單元中所述有機溶劑與從所述處理室排出的流體分離以再生所述流體；其中，所述再生單元包括：分離模塊，所述分離模塊用于冷卻溶解有所述有機溶劑的流體以將所述有機溶劑從所述流體中分離；柱模塊，所述柱模塊用于將用于吸收所述有機溶劑的吸收材料提供到從所述分離模塊排出的所述流體中，以將所述有機溶劑從所述流體中分離。2.根據權利要求1所述的設備，其中所述分離模塊被提供多個，并且所述多個分離模塊彼此串聯連接。3.根據權利要求1所述的設備，其中所述分離模塊包括：分離罐，從所述處理室排出的所述流體被引入到所述分離罐中；冷卻構件，所述冷卻構件用于冷卻所述分離罐；放出管，所述放出管設置在所述分離罐的下部中以排出液化的并且與所述流體分離的所述有機溶劑；和第一排氣管，所述第一排氣管設置在所述分離罐的上部以排出與所述有機溶劑分離的所述流體。4.根據權利要求3所述的設備，其中所述分離模塊進一步包括流入管，用于將從所述處理室排出的所述流體供應到所述分離罐的下部中。5.根據權利要求3所述的設備，其中所述分離模塊進一步包括反向壓力調整器，所述反向壓力調整器設置在所述第一排氣管中以不斷地保持所述分離罐的內部壓力。6.根據權利要求1所述的設備，其中所述柱模塊被提供多個，并且所述多個柱模塊彼此串聯連接。7.根據權利要求1所述的設備，其中所述柱模塊被提供多個，并且所述多個柱模塊彼此并聯連接。8.根據權利要求1所述的設備，其中所述柱模塊包括：吸收柱，用于將所述吸收材料提供到從所述分離模塊排出的所述流體中；溫度保持構件，用于不斷地保持所述吸收柱的內部溫度；和第二排氣管，用于排出通過所述吸收材料將所述有機溶劑分離的流體。9.根據權利要求8所述的設備，其中所述柱模塊進一步包括濃...

【專利技術屬性】
技術研發人員：鄭恩先，金禹永，許瓚寧，樸正善，
申請(專利權)人：細美事有限公司，
類型：發明
國別省市：