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    一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法技術

    技術編號:15629987 閱讀:187 留言:0更新日期:2017-06-14 14:03
    本發明專利技術公開一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法,包括以下步驟:在基片架底部設置旋轉底座,使基片架能夠在旋轉底座上水平自由旋轉;對基片架的正面進行正面玻璃基片的上片操作,然后將基片架在旋轉底座上旋轉180°,再對基片架的反面進行反面玻璃基片的上片操作;雙面磁控濺射鍍膜機進行正反面鍍膜;鍍完膜的基片架回轉運送到上下片區,對基片架正面的玻璃基片進行下片操作,然后將基片架在旋轉底座上旋轉180°,再對基片架反面的玻璃基片進行下片操作;重復步驟b~d,實現在真空鍍膜工藝中對玻璃基片的上下片;安排一名操作工即可對基片架反面進行上下片,無需再繞行到基片架反面,節省了人力的同時,能夠保證上下片的速度,降低勞動強度。

    【技術實現步驟摘要】
    一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法
    本專利技術涉及觸摸屏玻璃制造
    ,具體是一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法。
    技術介紹
    在觸摸屏玻璃制造領域,常常使用磁控濺射鍍膜機對玻璃基片真空鍍膜,而雙面磁控濺射鍍膜機由于同時能夠對兩片玻璃基片進行鍍膜,受到廣泛的應用。在鍍膜時,一般由兩名操作工分別站在基片架的正反兩面,位于基片架正面的操作工負責正面基片的上下片,位于基片架反面的操作工負責反面基片的上下片,這樣無疑造成了人力資源的浪費;而如果只安排一名操作工,那在對正面玻璃基片上下片之后,需要繞行到基片架的反面,再對反面玻璃基片上下片,如此反復,一方面勞動強度大,另一方面上下片的速度跟不上鍍膜的節拍,影響生產效率。
    技術實現思路
    本專利技術的目的在于提供一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法,該方法能夠使一名操作工對兩面玻璃基片進行上下片操作,同時能夠保證上下片的速度,提高人員的利用率。本專利技術解決其技術問題所采用的技術方案是:一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法,包括以下步驟:a、在基片架底部設置旋轉底座,使基片架能夠在旋轉底座上水平自由旋轉;b、對基片架的正面進行正面玻璃基片的上片操作,然后將基片架在旋轉底座上旋轉180°,再對基片架的反面進行反面玻璃基片的上片操作;c、將上片后的基片架送入雙面磁控濺射鍍膜機進行正反面鍍膜;d、鍍完膜的基片架由雙面磁控濺射鍍膜機出口回轉運送到上下片區,對基片架正面的玻璃基片進行下片操作,然后將基片架在旋轉底座上旋轉180°,再對基片架反面的玻璃基片進行下片操作;e、重復步驟b~d,實現在真空鍍膜工藝中對玻璃基片的上下片。本專利技術的有益效果是,安排一名操作工位于上下片區,在對基片架的正面上下片后,將基片架在旋轉底座上旋轉180°即可對基片架反面進行上下片,無需再繞行到基片架反面,節省了人力的同時,能夠保證上下片的速度,降低勞動強度。附圖說明下面結合附圖和實施例對本專利技術進一步說明:圖1是本專利技術的上片示意圖;圖2是本專利技術的下片示意圖;圖3是本專利技術中基片架的示意圖。具體實施方式結合圖1~圖3所示,本專利技術提供一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法,包括以下步驟:a、在基片架1底部設置旋轉底座2,使基片架1能夠在旋轉底座2上水平自由旋轉,旋轉底座2采用常規帶轉軸的底座即可;b、對基片架1的正面進行正面玻璃基片3的上片操作,然后將基片架1在旋轉底座2上旋轉180°,再對基片架1的反面進行反面玻璃基片4的上片操作;c、將上片后的基片架1送入雙面磁控濺射鍍膜機5進行正反面鍍膜;d、鍍完膜的基片架1由雙面磁控濺射鍍膜機5出口回轉運送到上下片區,對基片架1正面的玻璃基片進行下片操作,然后將基片架1在旋轉底座上旋轉180°,再對基片架1反面的玻璃基片進行下片操作;e、重復步驟b~d,實現在真空鍍膜工藝中對玻璃基片的上下片。以上所述,僅是本專利技術的較佳實施例而已,并非對本專利技術作任何形式上的限制;任何熟悉本領域的技術人員,在不脫離本專利技術技術方案范圍情況下,都可利用上述揭示的方法和
    技術實現思路
    對本專利技術技術方案做出許多可能的變動和修飾,或修改為等同變化的等效實施例。因此,凡是未脫離本專利技術技術方案的內容,依據本專利技術的技術實質對以上實施例所做的任何簡單修改、等同替換、等效變化及修飾,均仍屬于本專利技術技術方案保護的范圍內。本文檔來自技高網
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    一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法

    【技術保護點】
    一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法,其特征在于,包括以下步驟:a、在基片架底部設置旋轉底座,使基片架能夠在旋轉底座上水平自由旋轉;b、對基片架的正面進行正面玻璃基片的上片操作,然后將基片架在旋轉底座上旋轉180°,再對基片架的反面進行反面玻璃基片的上片操作;c、將上片后的基片架送入雙面磁控濺射鍍膜機進行正反面鍍膜;d、鍍完膜的基片架由雙面磁控濺射鍍膜機出口回轉運送到上下片區,對基片架正面的玻璃基片進行下片操作,然后將基片架在旋轉底座上旋轉180°,再對基片架反面的玻璃基片進行下片操作;e、重復步驟b~d,實現在真空鍍膜工藝中對玻璃基片的上下片。

    【技術特征摘要】
    1.一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法,其特征在于,包括以下步驟:a、在基片架底部設置旋轉底座,使基片架能夠在旋轉底座上水平自由旋轉;b、對基片架的正面進行正面玻璃基片的上片操作,然后將基片架在旋轉底座上旋轉180°,再對基片架的反面進行反面玻璃基片的上片操作;c、將上片后的基...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:鮑兆臣張少波樊黎虎
    申請(專利權)人:凱盛科技股份有限公司
    類型:發明
    國別省市:安徽,34

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