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本發(fā)明公開一種濕蝕刻基板的方法，用以形成多個通孔以埋置多個晶片級光學(xué)透鏡模塊。由于本蝕刻方法使用雙向蝕刻工藝，故可同時蝕刻多個基板以形成多個通孔。意即，在此濕蝕刻工藝中可同時形成所有所需的通孔。此外，每一蝕刻工藝操作中可蝕刻多個基板。因此，...該專利屬于奇景光電股份有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過奇景光電股份有限公司授權(quán)不得商用。