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一種導(dǎo)電性高分子的質(zhì)量管理方法，選擇所述面積比（Y／X）在0.60以下的導(dǎo)電性高分子，該導(dǎo)電性高分子在作成涂膜時(shí)，即使經(jīng)過一段時(shí)間也不易產(chǎn)生異物，具有下述式（1）表示的重復(fù)單元。式（1）中，R1~R4各自獨(dú)立地為-H、碳原子數(shù)1~24的直鏈...該專利屬于三菱麗陽株式會(huì)社所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過三菱麗陽株式會(huì)社授權(quán)不得商用。