導電性高分子、導電性高分子的質量管理方法以及導電性高分子的提純方法技術

一種導電性高分子的質量管理方法，選擇所述面積比（Y／X）在0.60以下的導電性高分子，該導電性高分子在作成涂膜時，即使經過一段時間也不易產生異物，具有下述式（1）表示的重復單元。式（1）中，R1~R4各自獨立地為-H、碳原子數1~24的直鏈或者含支鏈的烷基、碳原子數1~24的直鏈或者含支鏈的烷氧基、酸性基團、羥基、硝基、-F、-Cl、-Br或-I，R1~R4中的至少一個為酸性基團或其鹽。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及。 本申請基于2010年3月24日在日本申請的日本專利特愿2010 — 068159號、2010年3月31日在日本申請的日本專利特愿2010 - 080734號、2010年5月20日在日本申請的 日本專利特愿2010 — 116483號、2010年11月11日在日本申請的日本專利特愿2010 —252717號、2011年2月16日在日本申請的日本專利特愿2011 — 031388號主張優先權，在此引用這些內容。
技術介紹
作為導電性高分子，大家熟知的有摻雜的聚苯胺。作為聚苯胺的制造法，提出的有使被磺酸基或羧基等酸性基團取代的苯胺(酸性基團取代的苯胺)在包含堿性化合物的溶液中聚合的方法(例如參考專利文獻3、4)。 以前，酸性基團取代的苯胺較難自聚，高分子量化困難，但通過在包含堿性化合物的溶液中聚合的方法，可制造高分子量的聚合物。用該方法得到的聚苯胺為高分子量，在酸性或堿性任一水溶液中都顯示出優異的溶解性。 可是，使酸性基團取代的苯胺在含有堿性化合物的溶液中聚合的方法，不能完全抑制副反應的并發或被認為是基于該副反應的并發的低聚物成分的產生等，這是雜質混入導電性高分子中的要因及會妨礙導電性提高。 作為解決這些課題點的方法，例如專利文獻I公開了這樣的方法，對得到的導電性聚合物用含有質子酸的溶液進行酸處理，或者酸處理后，用甲醇或丙酮等的有機溶劑進行洗滌，來提純雜質。 又，專利文獻2公開了這樣的方法，使酸性基團取代的苯胺在含有堿性化合物的溶液中聚合時，通過在作為聚合催化劑的氧化劑溶液中滴加含有酸性基團取代的苯胺和堿性化合物的溶液，來抑制雜質。
技術介紹
文獻 專利文獻 專利文獻I :日本專利特開平10 - 110030號公報 專利文獻2 :日本專利特開2000 - 219739號公報 專利文獻3 :日本專利特開平7 - 196791號公報 專利文獻4 :日本專利特開平7 - 324132號公報
技術實現思路
專利技術要解決的課題 然而，將專利文獻1、2記載的方法所得到的導電性高分子涂覆于基材等而形成涂膜時，隨著時間流逝涂膜上產生異物，存在導電性降低的問題。 又，專利文獻I記載的方法繁雜，導電性高分子的提純也不充分。因此，特別是硫酸根、低聚物、未反應的單體等作為雜質殘留，存在導電性或溶解性降低的問題。 本專利技術是鑒于上述情況而作成的，目的在于提供制作涂膜時，即使時間流逝也不易產 生異物的導電性高分子、導電性高分子的質量管理方法以及用于得到具有高導電性和溶解性的導電性高分子的提純方法。 解決課題的手段本專利技術如下。 一種導電性高分子，其具有下述通式(I)表示的重復單元，且采用含有下述工序(I) (VI)的評價方法算出的面積比Y/X在O. 60以下， (I)工序制備pH在10以上的洗脫液，使導電性高分子溶解于該洗脫液中，使其固體成分濃度為O. I質量％，來制備試驗溶液； (II)工序對于試驗溶液，使用具備凝膠滲透色譜儀的高分子材料評價裝置測定其分子量分布，得到色譜 (III)工序對于由工序(II)得到的色譜圖，將保留時間換算為聚苯乙烯磺酸鈉換算的分子量M ； (IV)工序求出聚苯乙烯磺酸鈉換算的分子量M中，分子量M為5000Da以上的區域的面積X ; (V)工序求出聚苯乙烯磺酸鈉換算的分子量M中，分子量M小于5000Da的區域的面積Y; (VI)工序求出面積X與面積Y的面積比Y/X， 權利要求1.一種導電性高分子，其具有下述通式(I)表示的重復單元，且采用含有下述工序(I) (VI)的評價方法算出的面積比Y/X在O. 60以下， (I)工序制備PH在10以上的洗脫液，使導電性高分子溶解于該洗脫液中，使其固體成分濃度為O. I質量％，來制備試驗溶液； (II)工序對于試驗溶液，使用具備凝膠滲透色譜儀的高分子材料評價裝置測定其分子量分布，得到色譜圖； (III)工序對于由工序(II)得到的色譜圖，將保留時間換算為聚苯乙烯磺酸鈉換算的分子量M ； (IV)工序求出聚苯乙烯磺酸鈉換算的分子量M中，分子量M為5000Da以上的區域的面積X ; (V)工序求出聚苯乙烯磺酸鈉換算的分子量M中，分子量M小于5000Da的區域的面積Y; (VI)工序求出面積X與面積Y的面積比Y/X， 2.一種導電性高分子的質量管理方法，所述導電性高分子具有下述通式(I)表示的重復單元，其中， 選擇采用含有下述工序(I) (VI)的評價方法算出的面積比Y/X在O. 60以下的導電性高分子， (I)工序制備PH在10以上的洗脫液，使導電性高分子溶解于該洗脫液中，使其固體成分濃度為O. I質量％，來制備試驗溶液； (II)工序對于試驗溶液，使用具備凝膠滲透色譜儀的高分子材料評價裝置測定其分子量分布，得到色譜圖； (III)工序對于由工序(II)得到的色譜圖，將保留時間換算為聚苯乙烯磺酸鈉換算的分子量M ； (IV)工序求出聚苯乙烯磺酸鈉換算的分子量M中，分子量M為5000Da以上的區域的面積X ; (V)工序求出聚苯乙烯磺酸鈉換算的分子量M中，分子量M小于5000Da的區域的面積Y; (VI)工序求出面積X與面積Y的面積比Y/X，3.一種導電性高分子的提純方法，其是通過選自下述(I) (III)中的至少一個工序提純具有下述通式(I)表示的重復單元的導電性高分子的方法， (I)工序將所述導電性高分子進行膜過濾； (II)工序將所述導電性高分子分散或者溶解于溶劑中，然后，使含有所述導電性高分子的溶劑與強堿性陰離子交換樹脂接觸； (III)工序使含有所述導電性高分子的溶劑與碳材料接觸，全文摘要一種導電性高分子的質量管理方法，選擇所述面積比(Y／X)在0.60以下的導電性高分子，該導電性高分子在作成涂膜時，即使經過一段時間也不易產生異物，具有下述式(1)表示的重復單元。式(1)中，R1~R4各自獨立地為-H、碳原子數1~24的直鏈或者含支鏈的烷基、碳原子數1~24的直鏈或者含支鏈的烷氧基、酸性基團、羥基、硝基、-F、-Cl、-Br或-I，R1~R4中的至少一個為酸性基團或其鹽。文檔編號C08G73/00GK102869702SQ201180015600公開日2013年1月9日 申請日期2011年3月23日 優先權日2010年3月24日專利技術者酒井隆宏, 高木珠衣, 山嵜明, 堀內康司, 高原麻實子, 中山將輝, 星野學, 入山浩彰, 百瀨扶實乃 申請人:三菱麗陽株式會社本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...

【專利技術屬性】
技術研發人員：酒井隆宏，高木珠衣，山嵜明，堀內康司，高原麻實子，中山將輝，星野學，入山浩彰，百瀨扶實乃，
申請(專利權)人：三菱麗陽株式會社，
類型：
國別省市：