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本發明公開了一種制備嵌入式微納通道的方法，涉及微納加工技術，其包括步驟：(1)清理基底；(2)制備橫截面尺寸在納米量級的支撐犧牲層；(3)將步驟(2)中加工好的樣品放置與固定在設備中；(4)圖形觀測，找到支撐犧牲層納米結構所在的位置；(5)...
該專利屬于中國科學院物理研究所所有，僅供學習研究參考，未經過中國科學院物理研究所授權不得商用。

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