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本發(fā)明提供一種銅膜蝕刻工序控制方法及銅膜蝕刻液組合物的再生方法。本發(fā)明提供的利用近紅外分光儀的銅膜蝕刻工序控制方法,包括:(a)步驟,利用近紅外分光儀,同時(shí)分析液晶顯示裝置或半導(dǎo)體裝置制造工序中的銅膜蝕刻工序所用的銅膜蝕刻液組合物的至少1種...該專利屬于株式會(huì)社東進(jìn)世美肯所有,僅供學(xué)習(xí)研究參考,未經(jīng)過(guò)株式會(huì)社東進(jìn)世美肯授權(quán)不得商用。