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本發明公開了一種襯底臺組件、浸沒光刻設備以及器件制造方法。所述襯底臺組件包括：襯底臺，用以支撐襯底；和氣體處理系統，用以將氣體提供至襯底臺與安裝在襯底臺上的襯底之間的區域，其中由氣體處理系統提供的氣體的熱導率在298K的條件下大于或等于10...
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