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本發(fā)明公開了用于光刻設(shè)備的支撐臺、光刻設(shè)備以及器件制造方法。所述支撐臺包括：支撐部分和調(diào)節(jié)系統(tǒng)，其中支撐部分、調(diào)節(jié)系統(tǒng)或兩者配置成使得由于調(diào)節(jié)系統(tǒng)的操作導(dǎo)致的至襯底或來自襯底的熱傳遞在鄰近襯底邊緣的襯底區(qū)域中比在襯底中心處的襯底區(qū)域中的大。...該專利屬于ASML荷蘭有限公司所有，僅供學習研究參考，未經(jīng)過ASML荷蘭有限公司授權(quán)不得商用。