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本發明涉及一種氯堿工業用低電阻高強度離子交換膜及其制備方法。該膜是由全氟磺酸離子交換樹脂層、全氟羧酸離子交換樹脂層、增強網布和氣體釋放涂層組成的多層復合膜；其中，厚度80-150微米的全氟磺酸樹脂層和厚度8-12微米的全氟羧酸樹脂層構成全氟...該專利屬于山東東岳高分子材料有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過山東東岳高分子材料有限公司授權不得商用。
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