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本發明公開了一種用于石英坩堝氫氧化鋇涂層裝置的噴霧系統，包括藥液循環加熱機構、氮氣保護機構、供液機構和二氧化碳供應機構。本發明采用氮氣作為保護氣體，可保證氫氧化鋇溶液不與空氣中的二氧化碳反應，不會混入其他雜質，使噴涂時為純氫氧化鋇溶液，避免...該專利屬于江蘇華爾光電材料股份有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過江蘇華爾光電材料股份有限公司授權不得商用。
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