本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種用于石英坩堝氫氧化鋇涂層裝置的噴霧系統(tǒng)，包括藥液循環(huán)加熱機(jī)構(gòu)、氮?dú)獗Ｗo(hù)機(jī)構(gòu)、供液機(jī)構(gòu)和二氧化碳供應(yīng)機(jī)構(gòu)。本發(fā)明專利技術(shù)采用氮?dú)庾鳛楸Ｗo(hù)氣體，可保證氫氧化鋇溶液不與空氣中的二氧化碳反應(yīng)，不會(huì)混入其他雜質(zhì)，使噴涂時(shí)為純氫氧化鋇溶液，避免其他雜質(zhì)的污染，而且結(jié)構(gòu)簡單，易于制作，方法操作簡單，控制方便，易于掌握。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)屬于石英容器涂層領(lǐng)域，特別涉及一種用于石英坩堝氫氧化鋇涂層裝置的噴霧系統(tǒng)。
技術(shù)介紹
石英坩堝本身是非晶質(zhì)的介態(tài)能，在適當(dāng)?shù)臈l件下他會(huì)發(fā)生相變化而形成穩(wěn)定的白矽石結(jié)晶態(tài)，隨著單晶拉制時(shí)間的增加，可能使得白矽石結(jié)晶整個(gè)剝落。這些剝落的白矽石顆粒，隨著流動(dòng)而飄動(dòng)在溶液中。大部分的顆粒，在一定時(shí)間之后即可完全溶解于溶液內(nèi)。然而仍有些幾率，部分較大的顆粒在未完全溶解之前，即撞倒晶棒的表面，而導(dǎo)致位錯(cuò)的產(chǎn)生。產(chǎn)生位錯(cuò)的機(jī)率隨著石英坩堝的使用時(shí)間及溫度增加而增加。 近來研究發(fā)現(xiàn)，將石英坩堝壁涂上一層含有結(jié)晶水的氫氧化鋇(Ba(OH)2. SH2O)，這層氫氧化鋇會(huì)與空氣中的二氧化碳反應(yīng)形成碳酸鋇。而當(dāng)這種石英坩堝在單晶爐上被加熱時(shí)，碳酸鋇會(huì)分解形成氧化鋇，隨著氧化鋇與石英坩堝反應(yīng)形成矽酸鋇(BaSiO3X由于矽酸鋇的存在，使得石英坩堝壁上形成一層致密微小的白矽石結(jié)晶。這種微小的白矽石結(jié)晶很難被溶液滲入而剝落，即使剝落也很快被溶液溶解掉，因此可以大幅度的改善石英坩堝的使用壽命及長晶良率。另外在石英坩堝內(nèi)壁表面形成一層白矽石結(jié)晶的好處，是它可以增加石英坩堝的強(qiáng)度，減少高溫軟化現(xiàn)象。在本專利技術(shù)作出之前，以往石英坩堝氫氧化鋇涂層工藝一般采用人工涂層的辦法，配制好的氫氧化鋇溶液未在氮?dú)獾谋Ｗo(hù)下且一般采用的噴涂罐的載氣為壓縮空氣，且人工操作時(shí)受個(gè)人主觀因素的影響，不能實(shí)現(xiàn)涂層薄膜的均勻和穩(wěn)定性。專利技術(shù)“石英坩堝涂層機(jī)”(專利號ZL 200920014435. 6)介紹了一種用于石英坩堝氫氧化鋇涂層的設(shè)備，但是該設(shè)備中氫氧化鋇溶液采用二氧化碳直接驅(qū)動(dòng)噴涂，噴涂工藝較簡單，二氧化碳與氫氧化鋇儲液罐中的溶液容易起反應(yīng)，影響噴涂效果，且該方法中噴霧方式采用的不是二流體壓力霧化系統(tǒng)，不能形成霧化均勻的、霧化顆粒小的霧化效果。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種用于石英坩堝氫氧化鋇涂層裝置的噴霧系統(tǒng)。本專利技術(shù)采用的技術(shù)方案是一種用于石英坩堝氫氧化鋇涂層裝置的噴霧系統(tǒng)，包括藥液循環(huán)加熱機(jī)構(gòu)、氮?dú)獗Ｗo(hù)機(jī)構(gòu)、供液機(jī)構(gòu)和二氧化碳供應(yīng)機(jī)構(gòu)；所述循環(huán)加熱機(jī)構(gòu)包括氣動(dòng)隔膜泵、藥液箱、溫度傳感器和U型加熱管，所述氣動(dòng)隔膜泵通過管道分別與藥液箱的上、下方連接，藥液箱內(nèi)設(shè)有測量藥液箱內(nèi)液體溫度的溫度傳感器和U型加熱管；所述氮?dú)獗Ｗo(hù)機(jī)構(gòu)包括第一進(jìn)氮?dú)夤艿?、排空氣管道、氮?dú)饬髁空{(diào)節(jié)閥、水箱、藥液箱上方手動(dòng)閥、水箱上方手動(dòng)閥和排氣閥，所述第一進(jìn)氮?dú)夤艿婪謩e與水箱和藥液箱連接，第一進(jìn)氮?dú)夤艿郎显O(shè)有氮?dú)饬髁空{(diào)節(jié)閥，所述排空氣管道分別與水箱和藥液箱連接，排空氣管道上設(shè)有藥液箱上方手動(dòng)閥、水箱上方手動(dòng)閥和排氣閥； 所述供液機(jī)構(gòu)包括第二進(jìn)氮?dú)夤艿?、氮?dú)鈮毫φ{(diào)節(jié)閥、氮?dú)膺M(jìn)氣電磁閥、噴液電磁閥、噴水電磁閥、帶刻度透明藥液管、帶刻度透明水管、藥液箱下方手動(dòng)閥、水箱下方手動(dòng)閥和霧化噴嘴，所述藥液箱下方手動(dòng)閥和水箱下方手動(dòng)閥分別與第二進(jìn)氮?dú)夤艿肋B接，第二進(jìn)氮?dú)夤艿郎显O(shè)有氮?dú)鈮毫φ{(diào)節(jié)閥和氮?dú)膺M(jìn)氣電磁閥，所述藥液箱下方手動(dòng)閥通過帶刻度透明藥液管與噴液電磁閥連接，水箱下方手動(dòng)閥通過帶刻度透明水管與噴水電磁閥連接，噴液電磁閥和噴水電磁閥通過管道與霧化噴嘴連接； 所述二氧化碳供應(yīng)機(jī)構(gòu)包括進(jìn)二氧化碳管道、二氧化碳壓力調(diào)節(jié)閥和二氧化碳進(jìn)氣電磁閥，所述進(jìn)二氧化碳管道與霧化噴嘴連接，進(jìn)二氧化碳管道上設(shè)有二氧化碳壓力調(diào)節(jié)閥和二氧化碳進(jìn)氣電磁閥。 有益效果1、本專利技術(shù)采用氮?dú)庾鳛楸Ｗo(hù)氣體，可保證氫氧化鋇溶液不與空氣中的二氧化碳反應(yīng)，不會(huì)混入其他雜質(zhì)，使噴涂時(shí)為純氫氧化鋇溶液，避免其他雜質(zhì)的污染。2、本專利技術(shù)噴涂時(shí)采用二流體壓力噴霧系統(tǒng)，采用高純二氧化碳與液體摩擦，能夠得到微粒更小，更均勻的噴霧效果。附圖說明圖1為本專利技術(shù)的結(jié)構(gòu)示意圖。具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對本專利技術(shù)作進(jìn)一步說明 如圖1所示一種用于石英坩堝氫氧化鋇涂層裝置的噴霧系統(tǒng)，包括藥液循環(huán)加熱機(jī)構(gòu)、氮?dú)獗Ｗo(hù)機(jī)構(gòu)、供液機(jī)構(gòu)和二氧化碳供應(yīng)機(jī)構(gòu)； 所述循環(huán)加熱機(jī)構(gòu)包括氣動(dòng)隔膜泵6、藥液箱8、溫度傳感器9和U型加熱管10，所述氣動(dòng)隔膜泵6通過管道分別與藥液箱8的上、下方連接，實(shí)現(xiàn)藥液循環(huán)，藥液箱8內(nèi)設(shè)有測量藥液箱內(nèi)液體溫度的溫度傳感器9和U型加熱管10，溫度傳感器9反饋給溫控儀控制U型加熱管10進(jìn)行加熱； 所述氮?dú)獗Ｗo(hù)機(jī)構(gòu)包括第一進(jìn)氮?dú)夤艿?、排空氣管道、氮?dú)饬髁空{(diào)節(jié)閥18、水箱15、藥液箱上方手動(dòng)閥11、水箱上方手動(dòng)閥14和排氣閥13，所述第一進(jìn)氮?dú)夤艿婪謩e與水箱15和藥液箱8連接，第一進(jìn)氮?dú)夤艿郎显O(shè)有氮?dú)饬髁空{(diào)節(jié)閥18，所述排空氣管道分別與水箱15和藥液箱8連接，排空氣管道上設(shè)有藥液箱上方手動(dòng)閥11、水箱上方手動(dòng)閥14和排氣閥13 ； 所述供液機(jī)構(gòu)包括第二進(jìn)氮?dú)夤艿?、氮?dú)鈮毫φ{(diào)節(jié)閥20、氮?dú)膺M(jìn)氣電磁閥16、噴液電磁閥4、噴水電磁閥22、帶刻度透明藥液管5、帶刻度透明水管19、藥液箱下方手動(dòng)閥7、水箱下方手動(dòng)閥17和霧化噴嘴I，所述藥液箱下方手動(dòng)閥7和水箱下方手動(dòng)閥17分別與第二進(jìn)氮?dú)夤艿肋B接，第二進(jìn)氮?dú)夤艿郎显O(shè)有氮?dú)鈮毫φ{(diào)節(jié)閥20和氮?dú)膺M(jìn)氣電磁閥16，所述藥液箱下方手動(dòng)閥7通過帶刻度透明藥液管5與噴液電磁閥4連接，水箱下方手動(dòng)閥17通過帶刻度透明水管19與噴水電磁閥22連接，噴液電磁閥4和噴水電磁閥22通過管道與霧化噴嘴I連接；開始供液前將藥液箱下方手動(dòng)閥7和水箱下方手動(dòng)閥17打開，使帶刻度透明藥液管5和帶刻度透明水管19內(nèi)充滿液體，供液時(shí)通過氮?dú)鈮毫φ{(diào)節(jié)閥20控制氮?dú)鈮毫Α⒂傻獨(dú)馓峁┑膭?dòng)力實(shí)現(xiàn)藥液和水的輸送，通過噴液電磁閥4和噴水電磁閥22的開合實(shí)現(xiàn)藥液和水輸送的切換，氮?dú)饪赏瑫r(shí)保證對藥液的保護(hù)。所述二氧化碳供應(yīng)機(jī)構(gòu)包括進(jìn)二氧化碳管道、二氧化碳壓力調(diào)節(jié)閥3和二氧化碳 進(jìn)氣電磁閥2，所述進(jìn)二氧化碳管道與霧化噴嘴I連接，進(jìn)二氧化碳管道上設(shè)有二氧化碳壓力調(diào)節(jié)閥3和二氧化碳進(jìn)氣電磁閥2，二氧化碳壓力調(diào)節(jié)閥3控制進(jìn)入霧化噴嘴的二氧化碳的壓力，二氧化碳進(jìn)氣電磁閥2控制二氧化碳供應(yīng)的開合。權(quán)利要求1.一種用于石英坩堝氫氧化鋇涂層裝置的噴霧系統(tǒng)，包括藥液循環(huán)加熱機(jī)構(gòu)、氮?dú)獗Ｗo(hù)機(jī)構(gòu)、供液機(jī)構(gòu)和二氧化碳供應(yīng)機(jī)構(gòu)；所述循環(huán)加熱機(jī)構(gòu)包括氣動(dòng)隔膜泵、藥液箱、溫度傳感器和U型加熱管，所述氣動(dòng)隔膜泵通過管道分別與藥液箱的上、下方連接，藥液箱內(nèi)設(shè)有測量藥液箱內(nèi)液體溫度的溫度傳感器和U型加熱管；所述氮?dú)獗Ｗo(hù)機(jī)構(gòu)包括第一進(jìn)氮?dú)夤艿?、排空氣管道、氮?dú)饬髁空{(diào)節(jié)閥、水箱、藥液箱上方手動(dòng)閥、水箱上方手動(dòng)閥和排氣閥，所述第一進(jìn)氮?dú)夤艿婪謩e與水箱和藥液箱連接，第一進(jìn)氮?dú)夤艿郎显O(shè)有氮?dú)饬髁空{(diào)節(jié)閥，所述排空氣管道分別與水箱和藥液箱連接，排空氣管道上設(shè)有藥液箱上方手動(dòng)閥、水箱上方手動(dòng)閥和排氣閥；所述供液機(jī)構(gòu)包括第二進(jìn)氮?dú)夤艿馈⒌獨(dú)鈮毫φ{(diào)節(jié)閥、氮?dú)膺M(jìn)氣電磁閥、噴液電磁閥、 噴水電磁閥、帶刻度透明藥液管、帶刻度透明水管、藥液箱下方手動(dòng)閥、水箱下方手動(dòng)閥和霧化噴嘴，所述藥液箱下方手動(dòng)閥和水箱下方手動(dòng)閥分別與第二進(jìn)氮?dú)夤艿肋B接，第二進(jìn)氮?dú)夤艿郎显O(shè)有氮?dú)鈮毫φ{(diào)節(jié)閥和氮?dú)膺M(jìn)氣電磁閥，所述藥液箱下方手動(dòng)閥通過帶刻度透明藥液管與噴液電磁閥連接，水箱下方手動(dòng)閥通過帶刻度透明水管與噴水電磁閥連接，噴液電磁閥和噴水電磁閥通過管道與霧化噴嘴連接；所述二氧化碳供應(yīng)機(jī)構(gòu)包括進(jìn)二本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種用于石英坩堝氫氧化鋇涂層裝置的噴霧系統(tǒng)，包括藥液循環(huán)加熱機(jī)構(gòu)、氮?dú)獗Ｗo(hù)機(jī)構(gòu)、供液機(jī)構(gòu)和二氧化碳供應(yīng)機(jī)構(gòu)；所述循環(huán)加熱機(jī)構(gòu)包括氣動(dòng)隔膜泵、藥液箱、溫度傳感器和U型加熱管，所述氣動(dòng)隔膜泵通過管道分別與藥液箱的上、下方連接，藥液箱內(nèi)設(shè)有測量藥液箱內(nèi)液體溫度的溫度傳感器和U型加熱管；所述氮?dú)獗Ｗo(hù)機(jī)構(gòu)包括第一進(jìn)氮?dú)夤艿?、排空氣管道、氮?dú)饬髁空{(diào)節(jié)閥、水箱、藥液箱上方手動(dòng)閥、水箱上方手動(dòng)閥和排氣閥，所述第一進(jìn)氮?dú)夤艿婪謩e與水箱和藥液箱連接，第一進(jìn)氮?dú)夤艿郎显O(shè)有氮?dú)饬髁空{(diào)節(jié)閥，所述排空氣管道分別與水箱和藥液箱連接，排空氣管道上設(shè)有藥液箱上方手動(dòng)閥、水箱上方手動(dòng)閥和排氣閥；所述供液機(jī)構(gòu)包括第二進(jìn)氮?dú)夤艿?、氮?dú)鈮毫φ{(diào)節(jié)閥、氮?dú)膺M(jìn)氣電磁閥、噴液電磁閥、噴水電磁閥、帶刻度透明藥液管、帶刻度透明水管、藥液箱下方手動(dòng)閥、水箱下方手動(dòng)閥和霧化噴嘴，所述藥液箱下方手動(dòng)閥和水箱下方手動(dòng)閥分別與第二進(jìn)氮?dú)夤艿肋B接，第二進(jìn)氮?dú)夤艿郎显O(shè)有氮?dú)鈮毫φ{(diào)節(jié)閥和氮?dú)膺M(jìn)氣電磁閥，所述藥液箱下方手動(dòng)閥通過帶刻度透明藥液管與噴液電磁閥連接，水箱下方手動(dòng)閥通過帶刻度透明水管與噴水電磁閥連接，噴液電磁閥和噴水電磁閥通過管道與霧化噴嘴連接；所述二氧化碳供應(yīng)機(jī)構(gòu)包括進(jìn)二氧化碳管道、二氧化碳壓力調(diào)節(jié)閥和二氧化碳進(jìn)氣電磁閥，所述進(jìn)二氧化碳管道與霧化噴嘴連接，進(jìn)二氧化碳管道上設(shè)有二氧化碳壓力調(diào)節(jié)閥和二氧化碳進(jìn)氣電磁閥。...
【技術(shù)特征摘要】
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：陳寶昌，劉愛軍，金軍，李鵬飛，邵天聰，馮濤，
申請(專利權(quán))人：江蘇華爾光電材料股份有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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