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本發明公開了一種SiC結勢壘肖特基二極管及其制作方法,該SiC結勢壘肖特基二極管包括:N+-SiC襯底;形成于該N+-SiC襯底之上的同型N--SiC外延層;形成于該N--SiC外延層上的肖特基金屬接觸;形成于該肖特基金屬接觸之下N-區域中...該專利屬于中國科學院微電子研究所;株洲南車時代電氣股份有限公司所有,僅供學習研究參考,未經過中國科學院微電子研究所;株洲南車時代電氣股份有限公司授權不得商用。