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本實(shí)用新型公開了以后總酸蝕系統(tǒng)裝置，其包括機(jī)架、安裝在機(jī)架中部且上端敞口的酸蝕槽、將酸蝕槽密封的槽蓋以及夾具，夾具穿過槽蓋后伸入酸蝕槽內(nèi)，酸蝕槽上方還安裝有酸液添加裝置和與酸蝕槽內(nèi)部連通的酸蒸汽處理器，酸蝕槽下方安裝有廢液收集裝置，酸蝕槽內(nèi)...該專利屬于廣州中國科學(xué)院先進(jìn)技術(shù)研究所所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過廣州中國科學(xué)院先進(jìn)技術(shù)研究所授權(quán)不得商用。