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一種化學氣相沉積反應器或外延層生長反應器，包括一反應腔，所述反應腔內設置至少一基片承載架和一用于支撐所述基片承載架的支撐裝置，所述基片承載架包括一第一表面和一第二表面，所述基片承載架的第二表面設置有至少一個向內凹陷的凹進部；所述支撐裝置包括...該專利屬于中微半導體設備（上海）有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過中微半導體設備（上海）有限公司授權不得商用。
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