能夠防止塵埃的產生。搬運裝置是將具有載置板狀的對象物的載置平面的保持構件經由框體的開口部從框體的外部的第一位置向框體的內部的第二位置搬運的搬運裝置，所述搬運裝置具備：第一軌道、第二軌道、第三軌道以及第四軌道，它們沿著水平方向設置；輥，其...

在載置板狀的對象物時，對象物等不易損傷。載置裝置是將板狀的對象物水平地載置于設置有孔的保持構件的載置平面的載置裝置，所述載置裝置具備：基臺，其以能夠沿上下方向移動的方式設置于保持部的鉛垂方向下側；第一移動部，其使基臺沿上下方向移動；以及...

提供反射型掩模坯料的制造方法，所述反射型掩模坯料具有基板和層疊于所述基板的表面且反射曝光光的反射膜，在所述反射膜形成有剖面凹槽形狀的基準標記，其中，所述反射型掩模坯料的制造方法包括：輪廓加工工序，沿著所述基準標記的預定形成區域的輪廓利用...

激光退火裝置具備射出激光束的多個光束出射部，所述激光束由連續振蕩激光構成且相對于被照射面具有長方形的光束點，所述激光退火裝置使所述激光束相對于在基板上成膜的非晶硅膜沿著掃描方向相對地進行掃描，而將所述非晶硅膜的帶狀的改性預定區域晶化，其...

提供能夠提高改性為晶化用膜為止的生產效率且實現省空間化及低成本化的激光退火裝置。所述激光退火裝置具備射出脫氫化用激光束的脫氫化用光學頭，所述脫氫化用光學頭以使所述脫氫化用激光束先于所述晶化用激光束地照射所述非晶硅膜中的至少改性預定區域來...

聚焦離子束裝置具備：射束射出部，其具備聚焦離子束光學系統，該聚焦離子束光學系統對從離子源向內部空間引出的離子束進行調整而射出所述離子束；以及開口部，其與所述內部空間連通，能夠使從所述射束射出部射出的離子束通過來對被處理基板進行射束照射，...

本發明是將電子部件轉印到轉印構件的轉印裝置，具備：第1貼附裝置部(1)，其將通過照射紫外線而粘合力下降的第1轉印構件(T1)貼附于形成有多個電子部件的光透射性基板(S1)；第1轉印裝置部(2)，其通過將電子部件經由激光剝離進行剝離而轉印...

本發明的修正裝置能夠在不提高制造成本的情況下以高精度進行定位。該修正裝置具有：第一平臺，其具有吸附基板的吸附平臺；門架，其設置在吸附平臺的上側；第二平臺，其設置在門架；頭部，其設置在第二平臺，具有修正基板的修正頭部；第一移動部，其改變第...

本發明提供一種在表面具有絕緣層的導電體與其他導電體之間簡單地制作導電部的制造方法。本發明通過設為如下導電部的制造方法來解決問題，其包括：第1工序，在表面具有絕緣層的第1導電體上層疊第2導電體；及第2工序，包括所述絕緣層在內將所述第1導電...

本發明提供一種防護膜組件把持裝置，即使防護膜組件框架變形也能夠準確地進行防護膜組件框架的把持。具有：框體(10)，其為將多個棒狀構件組合成大致矩形形狀的框狀的構件；多個防護膜組件把持構件(21)，其設置在框體(10)；以及驅動部，其設置...

提供一種提高能量束通過的處理空間的真空度而使得檢查精度或處理精度高的聚焦能量束裝置。所述聚焦能量束裝置具備頭部和聚焦能量束柱狀體，在頭部的對置面上形成有中央排氣口和圍繞所述中央排氣口的外側的至少一個以上的外側排氣槽，所述聚焦能量束柱狀體...

提供一種聚焦能量束裝置，其具備：支承部，其支承被處理基板；以及聚焦能量束柱狀體，其具備差動排氣裝置且能夠以與所述被處理基板的被處理面的任意區域對應的方式進行相對移動，其中，所述支承部在將所述被處理基板水平地配置的狀態下僅支承所述被處理基...

提供一種聚焦離子束裝置，其具備差動排氣裝置和聚焦離子束柱狀體，還具備：真空墊，其使吸入面露出以圍繞被處理基板的面方向的外側，且由多孔質材料構成；基板支承臺，其載置所述被處理基板和所述真空墊；以及真空泵，其對所述真空墊進行真空吸引，當所述...

本發明提供一種聚焦離子束裝置，其具備聚焦離子束柱狀體，所述聚焦離子束柱狀體在鏡筒中內置有聚焦離子束光學系統而將聚焦離子束從所述鏡筒的前端部射出，其中，在從所述聚焦離子束光學系統射出的所述聚焦離子束的去路的附近配置有向被處理基板的表面供給...

加工裝置具備：差動排氣裝置，其在頭部中的與被處理基板對置的面形成有多個環狀槽，該多個環狀槽圍繞所述頭部的中心，在比所述多個環狀槽中的最內側的所述環狀槽靠內側的區域設置有開口部，該開口部形成能夠對所述被處理面進行處理的處理用空間，在多個所...

差動排氣裝置將處理用空間設為高真空度，其中，所述差動排氣裝置具備：位移驅動部，其能夠使頭部或被處理基板進行位移來調整被處理面與所述頭部的對置面的平行度及距離；間隙測定部，其沿著所述頭部的所述對置面的周緣分別配置在至少三個部位以上，能夠檢...

提供一種蒸鍍掩模用框架，該蒸鍍掩模用框架輕量并具有高剛性，且抑制脫氣的產生。一個實施方式的蒸鍍掩模用框架(50)具備構成為保持蒸鍍掩模的框架主體(51)。框架主體是基材以及強化材料均由無機固體材料構成的復合材料。及強化材料均由無機固體材...

透鏡陣列(50)具備透鏡板(51)和多個透鏡(52)。透鏡板(51)具有固定有透鏡(52)的透鏡區域(53)和未固定有透鏡(52)的非透鏡區域(54)。另外，在固定有LED(25)的基板(24)上具有固定有LED(25)的LED區域(2...

本發明公開一種基板保持裝置，在將基板向基準面按壓時，能夠使基板整體朝向基準面順暢移動。將大致板狀的基板沿著大致鉛垂方向保持的基板保持裝置中，基板的配置于鉛垂方向下側的下端面所抵接的多個保持塊具有與基板的下端面抵接的上側塊和設置于上側塊的...

激光退火裝置使CW激光相對于非晶硅膜沿固定方向進行相對移動，使非晶硅膜進行橫向晶體生長來形成晶化硅膜，其中，光學系統具備：光束整形部，其將CW激光整形為形成聚光環的激光束；以及光束分割部，其具有反射面，該反射面將整形后的環狀的激光束分割...