【技術實現步驟摘要】
【技術保護點】
一種光刻機投影物鏡波像差檢測的檢測標記，其特征在于，所述的檢測標記由方向不同，尺寸相同的一維圖形構成：?(1)所述圖形的方向包含0°、30°、45°、60°、90°、120°、150°中的任何一個或幾個方向；?(2)各個方向上的圖形都是軸對稱圖形，都具有相同的幾何參數；?(3)各個方向上的圖形由2～5個透射空構成，透射空的寬度最小為光刻機工作波長的1/10，最大不超過光刻機工作波長的5倍；相鄰透射空的中心位置間隔最小為光刻機工作波長的1/5，最大不超過光刻機工作波長的10倍；檢測標記的周期Pitch不超過光刻機工作波長的50倍；所述的寬度都是硅面寬度。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：閆觀勇，李思坤，王向朝，沈麗娜，劉曉雷，
申請(專利權)人：中國科學院上海光學精密機械研究所，
類型：發明
國別省市：上海;31
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