一種投影光刻機的硅片臺微旋轉機構制造技術

本發明專利技術是一種投影光刻機中的硅片臺微旋轉機構，它包括拉簧、硅片臺、止推軸承、基座、調節螺栓、螺紋副；調節螺栓被固定在位于基座的螺紋副上，調節螺栓的前端為球型，拉簧的左端套在硅片臺上，拉簧的右端掛在基座上，硅片臺始終與調節螺栓保持接觸。本發明專利技術能夠對投影光刻機中的硅片臺進行精確的角度調整，以滿足光刻機的套刻精度要求。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種投影光刻機的硅片臺微旋轉機構。
技術介紹
投影光刻機的硅片臺微旋轉機構所用螺紋副為一般螺紋副，精度相對較低，當采 用細牙差動螺紋副可提高硅片臺旋轉定位精度。以前投影光刻機的硅片臺擁有的微旋轉機構，校正硅片臺的角度誤差精度不夠 高，直接影響投影光刻機的套刻精度。所以這使高精度硅片臺微旋轉機構顯得十分必要，且 該機構可以保證光刻機長期穩定工作。
技術實現思路
為了克服因角度誤差對光刻機所能實現的套刻精度的不良影響，本專利技術的目的是 提供一種投影光刻機中的硅片臺微旋轉機構，使得現場高精度硅片臺微旋轉調整成為可 能，提高光刻機的套刻精度，保證了投影光刻機長期穩定可靠的工作。為達到上述目的，本專利技術提供投影光刻機中的硅片臺微旋轉機構解決技術解決問 題所采用的技術方案包括拉簧、硅片臺、基座、調節螺栓和螺紋副；硅片臺位于止推軸承 上，調節螺栓被固定在基座的螺紋副內，拉簧的左端套在硅片臺的彈簧拉桿上，拉簧的右端 掛在基座上，調節螺栓的前端頂在硅片臺的手輪頂桿上。本專利技術的優點是，本專利技術能夠對投影光刻機中的硅片臺進行精確的角度調整，當 投影光刻機的硅片臺存在角度誤差時，本專利技術通過調整基座上的調節螺栓，使調節螺栓帶 動硅片臺做微旋轉運動，同時拉簧又使調節螺栓頂在硅片臺上，從而硅片臺保持與調節螺 栓的接觸，消除硅片臺與調節螺栓之間的間隙，增加預緊力。校正硅片臺的角度誤差，保證 了投影光刻機長期穩定可靠的工作，提高了光刻機的套刻精度；并且本專利技術具有機構簡單、 安裝調整方便、經濟、安全、可靠等優點。附圖說明圖1為本專利技術的系統原理圖；附圖標記1、拉簧；2、硅片臺；3、止推軸承；4、基座；5、調節螺栓；6、螺紋副。具體實施例方式為使本專利技術的目的、技術方案和優點更加清楚明白，以下結合具體實施例，并參照 附圖，對本專利技術進一步詳細說明。如圖1所示，本專利技術由拉簧1、硅片臺2、止推軸承3、基座4、調節螺栓5、螺紋副6 組成。此硅片臺2的微旋轉機構被安裝在止推軸承3上。調節螺栓5被固定在基座4的螺 紋副6內，調節螺栓2的前端為球形；拉簧1的左端套在硅片臺2上，拉簧1的右端掛在基 座4上，調節螺栓5的前端頂在硅片臺2的手輪頂桿上。在光刻機曝光過程中，當硅片臺2 存在角度誤差時，可旋轉調節螺栓5向前或向后位移，使硅片臺2做微旋轉移動，同時拉簧1 使硅片臺2保持與調節螺栓5的接觸。最終使得硅片臺2做不同角度的旋轉，克服了因硅 片臺2的角度誤差產生對投影光刻機套刻的影響，提高了投影光刻機套刻的質量。本專利技術中的硅片臺2與基座4之間為拉簧1，調節螺栓5的前端為球形，拉簧1可 以保證硅片臺2的手輪頂桿始終與調節螺栓5前端的球形的接觸，這樣調節螺栓5向前或 向后位移都能微調硅片臺2的轉角。螺紋副6將調節螺栓5的旋轉運動變為向前或向后的微位移。所述的螺紋副6為 細牙差動螺紋副。調節螺栓5的前端為球形并始終與硅片臺2保持點接觸，保證硅片臺2與調節螺 栓5之間沒有間隙，增加預緊力，提高了硅片臺2的轉角精度。本專利技術能夠對投影光刻機中的硅片臺進行高精度微旋轉調整，以達到校正硅片臺 的轉角誤差要求，克服了因硅片臺旋轉誤差對投影光刻機套刻的影響，提高了套刻質量。上述實施例僅為說明本專利技術的原理及其功效，而非用于限制本專利技術，熟知本領域 的技術人員均可在不違背本專利技術的精神及范疇下，對上述實施例進行修改或者等同替換， 其均應涵蓋在本專利技術的權利要求范圍當中。權利要求1.一種投影光刻機中的硅片臺微旋轉機構，其特征在于包括拉簧(1)、硅片臺O)、基 座G)、調節螺栓(5)和螺紋副(6)；硅片臺⑵位于止推軸承⑶上，調節螺栓(5)被固定 在基座(4)的螺紋副(6)內，拉簧(1)的左端套在硅片臺(2)的彈簧拉桿上，拉簧(1)的右 端掛在基座(4)上，調節螺栓(5)的前端頂在硅片臺( 的手輪頂桿上。2.根據權利要求1所述的投影光刻機的硅片臺微旋轉機構，其特征在于所述的調節 螺栓(5)的前端為球形，調節螺栓( 前端的球形始終保持與硅片臺( 的手輪頂桿相接 觸。3.根據權利要求1所述的投影光刻機的硅片臺微旋轉機構，其特征在于所述的螺紋 副(6)為細牙差動螺紋副。全文摘要本專利技術是一種投影光刻機中的硅片臺微旋轉機構，它包括拉簧、硅片臺、止推軸承、基座、調節螺栓、螺紋副；調節螺栓被固定在位于基座的螺紋副上，調節螺栓的前端為球型，拉簧的左端套在硅片臺上，拉簧的右端掛在基座上，硅片臺始終與調節螺栓保持接觸。本專利技術能夠對投影光刻機中的硅片臺進行精確的角度調整，以滿足光刻機的套刻精度要求。文檔編號G03F7/20GK102087485SQ20101061375公開日2011年6月8日 申請日期2010年12月30日 優先權日2010年12月30日專利技術者徐文祥, 胡松, 胡淘, 邢薇 申請人:中國科學院光電技術研究所本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種投影光刻機中的硅片臺微旋轉機構，其特征在于包括：拉簧（１）、硅片臺（２）、基座（４）、調節螺栓（５）和螺紋副（６）；硅片臺（２）位于止推軸承（３）上，調節螺栓（５）被固定在基座（４）的螺紋副（６）內，拉簧（１）的左端套在硅片臺（２）的彈簧拉桿上，拉簧（１）的右端掛在基座（４）上，調節螺栓（５）的前端頂在硅片臺（２）的手輪頂桿上。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：胡淘，胡松，邢薇，徐文祥，
申請(專利權)人：中國科學院光電技術研究所，
類型：發明
國別省市：90