本發(fā)明專利技術(shù)公開(kāi)了一種雙自由度旋轉(zhuǎn)控制裝置及應(yīng)用系統(tǒng)，包括：轉(zhuǎn)動(dòng)體(1)，具有磨擦球面，其頂部或內(nèi)部設(shè)有負(fù)載安裝平臺(tái)；固定支撐結(jié)構(gòu)，保持所述轉(zhuǎn)動(dòng)體(1)，使其僅具有旋轉(zhuǎn)自由度；驅(qū)動(dòng)電機(jī)(7)，為駐波型壓電陶瓷電機(jī)，各所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)(7)縱向布置于所述轉(zhuǎn)動(dòng)體(1)周圍，其驅(qū)動(dòng)端與所述轉(zhuǎn)動(dòng)體(1)的摩擦球面直接接觸，形成與所述摩擦球面相切的縱向磨擦傳動(dòng)副；控制單元，根據(jù)檢測(cè)單元測(cè)量的姿態(tài)數(shù)據(jù)，對(duì)所述轉(zhuǎn)動(dòng)體(1)在兩個(gè)旋轉(zhuǎn)自由度上的旋轉(zhuǎn)進(jìn)行控制和調(diào)整。該裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、成本低、性能穩(wěn)定，且易于小型化、動(dòng)態(tài)響應(yīng)更寬、功耗更小，可廣泛應(yīng)用于各種動(dòng)態(tài)穩(wěn)定平臺(tái)和自動(dòng)靜態(tài)定向/調(diào)平裝置。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及旋轉(zhuǎn)裝置
，特別是雙自由度旋轉(zhuǎn)控制裝置。本專利技術(shù)還涉及設(shè)有該裝置的應(yīng)用系統(tǒng)。
技術(shù)介紹
雙自由度旋轉(zhuǎn)的裝置和應(yīng)用系統(tǒng)，常用于實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定平臺(tái)、自動(dòng)調(diào)平裝置等，是實(shí)現(xiàn)三旋轉(zhuǎn)自由度驅(qū)動(dòng)、穩(wěn)定裝置和方法的核心。目前，雙自由度旋轉(zhuǎn)裝置大都采用兩個(gè)相互正交的轉(zhuǎn)動(dòng)框架實(shí)現(xiàn)，在每個(gè)框架旋轉(zhuǎn)軸的兩端安裝電機(jī)和傳感器實(shí)現(xiàn)驅(qū)動(dòng)和旋轉(zhuǎn)角度測(cè)量，外部采用框架進(jìn)行支撐和固定。請(qǐng)參考圖1，圖1為框架式雙自由度旋轉(zhuǎn)控制裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖所示，兩個(gè)矩形轉(zhuǎn)動(dòng)框架I’(也可采用球形框架)相互正交，各轉(zhuǎn)動(dòng)框架I’的兩個(gè)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)軸的兩端分別安裝驅(qū)動(dòng)電機(jī)2’和角度傳感器3’，根據(jù)角度傳感器3’的測(cè)量數(shù)據(jù)對(duì)兩個(gè)旋轉(zhuǎn)軸進(jìn)行控制和調(diào)整，從而實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定平臺(tái)4’的穩(wěn)定控制，驅(qū)動(dòng)電機(jī)2’為常規(guī)電磁感應(yīng)電機(jī)。這種雙自由度旋轉(zhuǎn)控制裝置，由于兩個(gè)旋轉(zhuǎn)軸要求相互垂直正交，而且驅(qū)動(dòng)電機(jī)需要安裝在兩個(gè)軸端。因此，存在以下不足:首先，框架形式和疊套結(jié)構(gòu)會(huì)導(dǎo)致整個(gè)裝置體積過(guò)大，不利于向小型化方向發(fā)展，會(huì)占用過(guò)大的空間，布置與組裝的難度較大。其次，雖然從原理圖來(lái)看，其結(jié)構(gòu)較為簡(jiǎn)單，但在實(shí)際制造過(guò)程中，為保證兩個(gè)旋轉(zhuǎn)軸精確地相互垂直正交，其機(jī)械結(jié)構(gòu)會(huì)十分復(fù)雜，而且加工、裝調(diào)精度要求很高，導(dǎo)致設(shè)備成本較高。再者，框架式結(jié)構(gòu)導(dǎo)致整個(gè)裝置剛度較差，性能不夠穩(wěn)定。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的第一目的是提供一種雙自由度旋轉(zhuǎn)控制裝置。該裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、成本低、性能穩(wěn)定，且易于小型化、動(dòng)態(tài)響應(yīng)更寬、功耗更小，可廣泛應(yīng)用于各種動(dòng)態(tài)穩(wěn)定平臺(tái)和自動(dòng)靜態(tài)定向/調(diào)平裝置。本專利技術(shù)的第二目的是提供一種設(shè)有該裝置的應(yīng)用系統(tǒng)。為實(shí)現(xiàn)上述第一目的，本專利技術(shù)提供一種雙自由度旋轉(zhuǎn)控制裝置，包括:轉(zhuǎn)動(dòng)體，具有磨擦球面，其頂部或內(nèi)部設(shè)有負(fù)載安裝平臺(tái)；固定支撐結(jié)構(gòu)，保持所述轉(zhuǎn)動(dòng)體，使其僅具有旋轉(zhuǎn)自由度；驅(qū)動(dòng)電機(jī)，其驅(qū)動(dòng)端與所述轉(zhuǎn)動(dòng)體的摩擦球面直接接觸，形成與所述摩擦球面相切的磨擦傳動(dòng)副。優(yōu)選地，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)的數(shù)量為四個(gè)，以90度相位角均勻分布于所述轉(zhuǎn)動(dòng)體外圍，其中相對(duì)的兩個(gè)所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)的磨擦傳動(dòng)副的回轉(zhuǎn)力矩方向相反。優(yōu)選地，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)的數(shù)量為兩個(gè)，兩者的相位角為90度，各所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)在所述轉(zhuǎn)動(dòng)體的另一側(cè)均設(shè)有與之相對(duì)的轉(zhuǎn)動(dòng)支撐件。優(yōu)選地，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)為駐波型壓電陶瓷電機(jī)。優(yōu)選地，各所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)縱向布置于所述轉(zhuǎn)動(dòng)體周圍。優(yōu)選地，還包括:檢測(cè)單元，用于獲取并向控制單元傳輸所述轉(zhuǎn)動(dòng)體的姿態(tài)數(shù)據(jù)；控制單元，用于接收所述檢測(cè)單元測(cè)量的姿態(tài)數(shù)據(jù)，并根據(jù)包括所述姿態(tài)數(shù)據(jù)在內(nèi)的數(shù)據(jù)對(duì)所述轉(zhuǎn)動(dòng)體在兩個(gè)旋轉(zhuǎn)自由度上的旋轉(zhuǎn)進(jìn)行控制和調(diào)整。優(yōu)選地，所述轉(zhuǎn)動(dòng)體為完整球形轉(zhuǎn)動(dòng)體、部分球形轉(zhuǎn)動(dòng)體或者具有多個(gè)局部球面的虛擬球形轉(zhuǎn)動(dòng)體。優(yōu)選地，所述轉(zhuǎn)動(dòng)體為陶瓷或金屬轉(zhuǎn)動(dòng)體。優(yōu)選地，所述固定支撐結(jié)構(gòu)包括:底座，其上設(shè)有容納所述轉(zhuǎn)動(dòng)體的球形凹座；下支撐件，設(shè)于所述球形凹座球形空間的底部，其支撐所述轉(zhuǎn)動(dòng)體具有旋轉(zhuǎn)自由度；上壓塊，分布于所述球形凹座頂部，其將所述轉(zhuǎn)動(dòng)體向下保持在所述下支撐件上。優(yōu)選地，所述下支撐件為下支撐環(huán)，其通過(guò)環(huán)帶形內(nèi)球面支撐所述轉(zhuǎn)動(dòng)體；或者，所述下支撐件為環(huán)形分布的若干支撐塊，其通過(guò)局部?jī)?nèi)球面支撐所述轉(zhuǎn)動(dòng)體。優(yōu)選地，所述下支撐環(huán)或支撐塊為采用固體潤(rùn)滑材料制成的支撐環(huán)或支撐塊。優(yōu)選地，所述上壓塊為采用固體潤(rùn)滑材料制成的上壓塊。優(yōu)選地，所述球形凹座呈開(kāi)口向上的空心半球形，其外側(cè)設(shè)有局部平面，并在局部平面上開(kāi)設(shè)槽口，形成驅(qū)動(dòng)電機(jī)安裝位，相鄰的所述槽口之間形成異形支柱，所述上壓塊安裝于所述異形支柱頂部。優(yōu)選地，所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)的驅(qū)動(dòng)端與所述轉(zhuǎn)動(dòng)體的摩擦球面在赤道面或者任意水平截面位置直接接觸。為實(shí)現(xiàn)上述第二目的，本專利技術(shù)提供一種應(yīng)用系統(tǒng)，包括旋轉(zhuǎn)裝置及其上的工作單元，所述旋轉(zhuǎn)裝置為上述任一項(xiàng)所述的雙自由度旋轉(zhuǎn)控制裝置，所述工作單元設(shè)于所述轉(zhuǎn)動(dòng)體的負(fù)載安裝平臺(tái)。本專利技術(shù)采用駐波型壓電陶瓷電機(jī)作為驅(qū)動(dòng)電機(jī)，并使其驅(qū)動(dòng)端與轉(zhuǎn)動(dòng)體磨擦球面直接接觸傳遞力和力矩，工作時(shí)，駐波型壓電陶瓷電機(jī)的驅(qū)動(dòng)端能夠以超聲工作頻率和納米的振幅以摩擦的形式將力直接傳遞到轉(zhuǎn)動(dòng)體，從而形成使轉(zhuǎn)動(dòng)體在不同方向上旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動(dòng)力矩，每一個(gè)或每一組驅(qū)動(dòng)電機(jī)對(duì)應(yīng)一個(gè)方向上的旋轉(zhuǎn)自由度，通過(guò)角度檢測(cè)單元和控制單元，最終可實(shí)現(xiàn)對(duì)轉(zhuǎn)動(dòng)體在兩個(gè)旋轉(zhuǎn)自由度上的定向、穩(wěn)定進(jìn)行控制和調(diào)整。基于上述技術(shù)方案，本專利技術(shù)具有如下有益效果:I)使用一個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)體即可實(shí)現(xiàn)兩個(gè)自由度的旋轉(zhuǎn)，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，很容易通過(guò)壓電陶瓷電機(jī)安裝位置調(diào)整實(shí)現(xiàn)兩個(gè)旋轉(zhuǎn)軸的正交，成本將大幅降低。2)通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)體摩擦球面的表面精加工，較低的成本即可保證良好的球度和轉(zhuǎn)動(dòng)體表面的粗糙度(納米級(jí)別)，而壓電陶瓷電機(jī)的超聲激勵(lì)頻率、納米級(jí)振幅，可在兩個(gè)旋轉(zhuǎn)自由度上均獲得非常高的旋轉(zhuǎn)精度。3)壓電陶瓷電機(jī)直接將驅(qū)動(dòng)力矩作用于轉(zhuǎn)動(dòng)體表面，轉(zhuǎn)動(dòng)體的球形結(jié)構(gòu)或類球形結(jié)構(gòu)具有極高的剛度，因此可獲得極高的動(dòng)態(tài)性能，在不需要驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)體轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，駐波型壓電陶瓷電機(jī)的自鎖特性，能夠使轉(zhuǎn)動(dòng)體的姿態(tài)保持穩(wěn)定而不需要消耗能量，從而使得整套裝置具有極尚的能效。4)轉(zhuǎn)動(dòng)體容易實(shí)現(xiàn)和底座等構(gòu)件的精密耦合加工，固定支撐結(jié)構(gòu)與轉(zhuǎn)動(dòng)體接觸的部位使用固體潤(rùn)滑材料，其配合精度可保證在0.5um以內(nèi)，加上壓電陶瓷電機(jī)的納米級(jí)高頻小步進(jìn)給運(yùn)動(dòng)，可以實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)動(dòng)體的高速精準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。5)采用壓電陶瓷電機(jī)、轉(zhuǎn)動(dòng)體的雙自由度旋轉(zhuǎn)控制裝置，可在滿足高精度、大負(fù)載要求的情況下實(shí)現(xiàn)小尺寸，有利于最終產(chǎn)品向小型化方向發(fā)展。本專利技術(shù)所提供的應(yīng)用系統(tǒng)設(shè)有上述雙自由度旋轉(zhuǎn)控制裝置，由于所述雙自由度旋轉(zhuǎn)控制裝置具有上述技術(shù)效果，設(shè)有該雙自由度旋轉(zhuǎn)控制裝置的應(yīng)用系統(tǒng)也應(yīng)具有相應(yīng)的技術(shù)效果。【附圖說(shuō)明】圖1為現(xiàn)有技術(shù)中框架式雙自由度旋轉(zhuǎn)控制裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本專利技術(shù)所提供的雙自由度旋轉(zhuǎn)控制裝置的一種【具體實(shí)施方式】的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為圖2中所示陶瓷球形轉(zhuǎn)動(dòng)體的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為圖2中所示底座及球形凹座的結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為一種虛擬球形轉(zhuǎn)動(dòng)體的示例圖。圖1 中:轉(zhuǎn)動(dòng)框架I’驅(qū)動(dòng)電機(jī)2’角度傳感器3’穩(wěn)定平臺(tái)4’圖2至圖5中:1.轉(zhuǎn)動(dòng)體1-1.局部球面2.球形凹座3.底座4.下支撐環(huán)5.上壓塊6.角度傳感器7.驅(qū)動(dòng)電機(jī)8.電機(jī)安裝板9.傳感器連接安裝板【具體實(shí)施方式】為了使本
的人員更好地理解本專利技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本專利技術(shù)作進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明。請(qǐng)參考圖2，圖2為本專利技術(shù)所提供的雙自由度旋轉(zhuǎn)控制裝置的一種【具體實(shí)施方式】的結(jié)構(gòu)示意圖。本專利技術(shù)提供的雙自由度旋轉(zhuǎn)控制裝置的一種具體實(shí)施例中，主要由轉(zhuǎn)動(dòng)體1、設(shè)有球形凹座2的底座3、下支撐環(huán)4、上壓塊5、角度傳感器6、驅(qū)動(dòng)電機(jī)7以及控制單元等構(gòu)成。轉(zhuǎn)動(dòng)體I為陶瓷或金屬材質(zhì)的部分球形轉(zhuǎn)動(dòng)體(見(jiàn)圖3)，由一個(gè)完整的球體在頂部加工出平面形成，其內(nèi)部可以是中空結(jié)構(gòu)，頂部或內(nèi)部可安裝其他組成部件，負(fù)載安裝平臺(tái)既可以位于轉(zhuǎn)動(dòng)體I內(nèi)部，也可以位于轉(zhuǎn)動(dòng)體I頂部，除頂面以外，轉(zhuǎn)動(dòng)體I的其余部分為球面，即摩擦球面，通過(guò)表面精加工，可使摩擦球面達(dá)到納米級(jí)別的粗糙度。請(qǐng)一并參考圖4，圖4為圖2中所示底座及球形凹座的結(jié)構(gòu)示意圖。底座3呈圓盤形，其中央處設(shè)有用于容納轉(zhuǎn)動(dòng)體的球形凹座2，球形凹座2呈開(kāi)口向上的空心半球形，其頂面位于赤道面以下的位置，以便于轉(zhuǎn)動(dòng)體I能夠順利的放入球形凹本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種雙自由度旋轉(zhuǎn)控制裝置，其特征在于，包括：轉(zhuǎn)動(dòng)體(1)，具有磨擦球面，其頂部或內(nèi)部設(shè)有負(fù)載安裝平臺(tái)；固定支撐結(jié)構(gòu)，保持所述轉(zhuǎn)動(dòng)體(1)，使其僅具有旋轉(zhuǎn)自由度；驅(qū)動(dòng)電機(jī)(7)，其驅(qū)動(dòng)端與所述轉(zhuǎn)動(dòng)體(1)的摩擦球面直接接觸，形成與所述摩擦球面相切的磨擦傳動(dòng)副。
【技術(shù)特征摘要】
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：唐李征，張地，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：北京合眾思?jí)芽萍脊煞萦邢薰?/a>，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：北京;11
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