用于MOCVD系統(tǒng)化學(xué)源蒸汽管路的粉塵顆粒收集器技術(shù)方案

本發(fā)明專利技術(shù)公開了用于MOCVD系統(tǒng)化學(xué)源蒸汽管路的粉塵顆粒收集器，包括收集器本體(1)，所述收集器本體(1)為上端具有進氣管口(11)、下端密封的管道，所述進氣管口(11)處密封固定有進氣管(2)，所述進氣管(2)上端伸出所述收集器本體(1)，所述進氣管(2)下端延伸至所述收集器本體(1)內(nèi)并臨近所述收集器本體(1)底部，所述進氣管(2)上端連接至蒸汽管路出口，所述進氣管(2)下端設(shè)有開口(21)，所述收集器本體(1)上端位于所述進氣管(2)周圍設(shè)有多個出氣孔(12)。本發(fā)明專利技術(shù)提供的用于MOCVD系統(tǒng)化學(xué)源蒸汽管路的粉塵顆粒收集器，可有效收集化學(xué)源蒸汽管路中產(chǎn)生的粉塵顆粒，減少粉塵顆粒對超導(dǎo)帶材的不利影響。

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

本專利技術(shù)涉及金屬有機化合物化學(xué)氣相沉淀
，特別涉及用于MOCVD系統(tǒng)化學(xué)源蒸汽管路的粉塵顆粒收集器。
技術(shù)介紹
金屬有機化學(xué)氣相沉積(MOCVD)是以III族、II族元素的有機化合物和V、VI族元素的氫化物等作為晶體生長原材料，以熱分解反應(yīng)方式在襯底上進行氣相外延，生長各種II1-V族、I1-VI族化合物半導(dǎo)體以及它們的多元固溶體的薄層單晶材料。目前，公知的半導(dǎo)體MOCVD系統(tǒng)中，通常是在化學(xué)源蒸汽管道上加入氣體過濾器以過濾粉塵顆粒，但是在重金屬化合物MOCVD系統(tǒng)中，會存在堵塞問題，不能使用類似的氣體過濾器。由于諸多原因，在此類系統(tǒng)中，化學(xué)源蒸汽管道里難免有粉塵顆粒產(chǎn)生。例如，在制備超導(dǎo)薄膜帶材的MOCVD系統(tǒng)中，管道中會有毫米數(shù)量級的粉塵顆粒掉落，它們會在超導(dǎo)帶材上造成壞點，而這樣的影響幾乎是致命的。因此迫切需要一個裝置來減少以致徹底清除這些粉塵顆粒。
技術(shù)實現(xiàn)思路
基于上述問題，本專利技術(shù)目的是提供用于MOCVD系統(tǒng)化學(xué)源蒸汽管路的粉塵顆粒收集器，安裝在蒸汽管路出口，以去除蒸汽管道內(nèi)的粉塵顆粒。為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本專利技術(shù)提供的技術(shù)方案是:用于MOCVD系統(tǒng)化學(xué)源蒸汽管路的粉塵顆粒收集器，包括收集器本體，所述收集器本體為上端具有進氣管口、下端密封的管道，所述進氣管口處密封固定有進氣管，所述進氣管上端伸出所述收集器本體，所述進氣管下端延伸至所述收集器本體內(nèi)并臨近所述收集器本體底部，所述進氣管上端連接至蒸汽管路出口，所述進氣管下端設(shè)有開口，所述收集器本體上端位于所述進氣管周圍設(shè)有多個出氣孔。在其中一個實施例中，所述收集器本體的長度為8?15cm，所述進氣管下端距所述收集器本體底部的距離為2?4cm。在其中一個實施例中，所述收集器本體的長度為10cm，所述進氣管下端距所述收集器本體底部的距離為3cm。在其中一個實施例中，所述出氣孔的孔徑為0.5?1.5mm。在其中一個實施例中，所述出氣孔的孔徑為1mm。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本專利技術(shù)的優(yōu)點是:采用本專利技術(shù)的技術(shù)方案，進氣管連接至蒸汽管的出口，蒸汽管內(nèi)氣體從進氣管進入收集器本體內(nèi)，粉塵顆粒在重力作用下沉積在收集器本體的底部，氣體則從收集器上方的出氣孔排出進入下一道工序，可清楚蒸汽管內(nèi)產(chǎn)生的粉塵顆粒，避免粉塵顆粒對沉積產(chǎn)品的影響，保證產(chǎn)品的質(zhì)量。【附圖說明】為了更清楚地說明本專利技術(shù)實施例的技術(shù)方案，下面將對實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本專利技術(shù)的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本專利技術(shù)用于MOCVD系統(tǒng)化學(xué)源蒸汽管路的粉塵顆粒收集器實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；其中:1、收集器本體；11、進氣管口 ；12、出氣孔；2、進氣管；21、開口。【具體實施方式】以下結(jié)合具體實施例對上述方案做進一步說明。應(yīng)理解，這些實施例是用于說明本專利技術(shù)而不限于限制本專利技術(shù)的范圍。實施例中采用的實施條件可以根據(jù)具體廠家的條件做進一步調(diào)整，未注明的實施條件通常為常規(guī)實驗中的條件。參見圖1，為本專利技術(shù)實施例的結(jié)構(gòu)示意圖，提供一種用于MOCVD系統(tǒng)化學(xué)源蒸汽管路的粉塵顆粒收集器，其包括收集器本體I，收集器本體I為上端具有進氣管口 11、下端密封的管道，在進氣管口 11密封固定有進氣管2，進氣管2的上端伸出收集器本體1，進氣管2的下端延伸至收集器本體I內(nèi)鄰近其底部的位置，進氣管2的上端連接至蒸汽管路出口，進氣管2下端設(shè)有開口 21，收集器本體I上端位于進氣管2周圍設(shè)有多個出氣孔12，優(yōu)選的，收集器本體I的長度為8?15cm，優(yōu)選為10cm，進氣管2下端距收集器本體I底部的距離為2?4cm，優(yōu)選為3cm，出氣孔12的孔徑為0.5?1.5mm，優(yōu)選為1mm，這樣化學(xué)源蒸汽管路內(nèi)混有粉塵顆粒的氣體進入進氣管2，并經(jīng)進氣管2下端開口 21進入到收集器本體1，粉塵顆粒在重力作用下沉降至收集器本體I底部，而氣體則從收集器本體I上端的出氣口12進入后續(xù)設(shè)備，本專利技術(shù)的收集器能有效收集化學(xué)源蒸汽管路中的粉塵顆粒，減少粉塵顆粒對超導(dǎo)帶材的不利影響，提尚廣品的品質(zhì)。上述實例只為說明本專利技術(shù)的技術(shù)構(gòu)思及特點，其目的在于讓熟悉此項技術(shù)的人員能夠了解本專利技術(shù)的內(nèi)容并據(jù)以實施，并不能以此限制本專利技術(shù)的保護范圍。凡根據(jù)本專利技術(shù)精神實質(zhì)所做的等效變換或修飾，都應(yīng)涵蓋在本專利技術(shù)的保護范圍之內(nèi)。【主權(quán)項】1.用于MOCVD系統(tǒng)化學(xué)源蒸汽管路的粉塵顆粒收集器，其特征在于:包括收集器本體(I)，所述收集器本體(I)為上端具有進氣管口(11)、下端密封的管道，所述進氣管口(11)處密封固定有進氣管(2)，所述進氣管(2)上端伸出所述收集器本體(I)，所述進氣管(2)下端延伸至所述收集器本體(I)內(nèi)并臨近所述收集器本體(I)底部，所述進氣管(2)上端連接至蒸汽管路出口，所述進氣管(2)下端設(shè)有開口(21)，所述收集器本體(I)上端位于所述進氣管(2)周圍設(shè)有多個出氣孔(12)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于MOCVD系統(tǒng)化學(xué)源蒸汽管路的粉塵顆粒收集器，其特征在于:所述收集器本體(I)的長度為8?15cm，所述進氣管(2)下端距所述收集器本體(I)底部的距離為2?4cm。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于MOCVD系統(tǒng)化學(xué)源蒸汽管路的粉塵顆粒收集器，其特征在于:所述收集器本體(I)的長度為10cm，所述進氣管(2)下端距所述收集器本體(I)底部的距離為3cm。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于MOCVD系統(tǒng)化學(xué)源蒸汽管路的粉塵顆粒收集器，其特征在于:所述出氣孔(12)的孔徑為0.5?1.5mm。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于MOCVD系統(tǒng)化學(xué)源蒸汽管路的粉塵顆粒收集器，其特征在于:所述出氣孔(12)的孔徑為Imm0【專利摘要】本專利技術(shù)公開了用于MOCVD系統(tǒng)化學(xué)源蒸汽管路的粉塵顆粒收集器，包括收集器本體(1)，所述收集器本體(1)為上端具有進氣管口(11)、下端密封的管道，所述進氣管口(11)處密封固定有進氣管(2)，所述進氣管(2)上端伸出所述收集器本體(1)，所述進氣管(2)下端延伸至所述收集器本體(1)內(nèi)并臨近所述收集器本體(1)底部，所述進氣管(2)上端連接至蒸汽管路出口，所述進氣管(2)下端設(shè)有開口(21)，所述收集器本體(1)上端位于所述進氣管(2)周圍設(shè)有多個出氣孔(12)。本專利技術(shù)提供的用于MOCVD系統(tǒng)化學(xué)源蒸汽管路的粉塵顆粒收集器，可有效收集化學(xué)源蒸汽管路中產(chǎn)生的粉塵顆粒，減少粉塵顆粒對超導(dǎo)帶材的不利影響。【IPC分類】C30B25/00, B01D45/02, C23C16/44【公開號】CN105063574【申請?zhí)枴緾N201510466016【專利技術(shù)人】喬唐, 陳一民, 蔡淵, 夏佑科, 章曙東, 姜平, 甘新式, 章鵬, 陳加林, 莊維偉, 謝義元, 孫山, 其他專利技術(shù)人請求不公開姓名 【申請人】蘇州新材料研究所有限公司【公開日】2015年11月18日【申請日】2015年8月3日本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】
用于MOCVD系統(tǒng)化學(xué)源蒸汽管路的粉塵顆粒收集器，其特征在于：包括收集器本體(1)，所述收集器本體(1)為上端具有進氣管口(11)、下端密封的管道，所述進氣管口(11)處密封固定有進氣管(2)，所述進氣管(2)上端伸出所述收集器本體(1)，所述進氣管(2)下端延伸至所述收集器本體(1)內(nèi)并臨近所述收集器本體(1)底部，所述進氣管(2)上端連接至蒸汽管路出口，所述進氣管(2)下端設(shè)有開口(21)，所述收集器本體(1)上端位于所述進氣管(2)周圍設(shè)有多個出氣孔(12)。

【技術(shù)特征摘要】

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：喬唐，陳一民，蔡淵，夏佑科，章曙東，姜平，甘新式，章鵬，陳加林，莊維偉，謝義元，孫山，其他發(fā)明人請求不公開姓名，
申請(專利權(quán))人：蘇州新材料研究所有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：江蘇;32