顯影設備制造技術

本發明專利技術提供了一種顯影設備，用于基板的顯影制程，所述顯影設備包括機臺，所述機臺上設有顯影液室和多個可轉動的支撐體，多個所述支撐體貫穿所述顯影液室排布，多個所述支撐體上承載有所述基板，多個所述支撐體將所述基板傳送至所述顯影液室內；所述顯影液室的出口處的多個所述支撐體的高度依次增加，使得傳送到所述出口處的所述基板呈傾斜狀態。本發明專利技術的顯影設備，能夠保證PR顯影制程中玻璃基板前后端的顯影液濃度均勻，從而很好地消除基板前后端的CD差異，提升液晶顯示器的亮度均勻性。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及液晶顯示器制造領域，尤其涉及一種顯影設備。
技術介紹
液晶顯示器的制造工藝包括陣列工藝，陣列工藝是在玻璃基板上有規則的做成TFT(薄膜晶體管)器件、像素等圖案(Pattern)的過程。陣列工藝中又包括對光刻膠(Photoresist，簡稱PR)進行處理的PR工藝。PR工藝需要在玻璃基板上涂布光刻膠，進行曝光，再在玻璃基板上由前端到后端依次噴涂顯影液。顯影液與曝光的光刻膠化學反應，從而在玻璃基板上形成相應的光刻膠圖案。現有技術中，玻璃基板的前端先于后端開始進行化學反應，前端的顯影液濃度隨著化學反應的進行而逐漸降低。此時玻璃基板后端較高濃度的顯影液將向前端擴散，導致后端尚未充分化學反應顯影液的濃度已經開始下降。前后端的顯影液濃度出現差異，將導致最終形成的圖案的間距——即前后端圖案的臨界尺寸(Critical Dimension，簡稱CD)存在差異，使得液晶顯示器的亮度顯示不均。
技術實現思路
有鑒于此，本專利技術提供了一種顯影設備，能夠保證PR顯影制程中玻璃基板前后端的顯影液濃度均勻。一種顯影設備，用于基板的顯影制程，所述顯影設備包括機臺，所述機臺上設有顯影液室和多個可轉動的支撐體，多個所述支撐體貫穿所述顯影液室排布，多個所述支撐體上承載有所述基板，多個所述支撐體將所述基板傳送至所述顯影液室內；所述顯影液室的出口處的多個所述支撐體的高度依次增加，使得傳送到所述出口處的所述基板呈傾斜狀態。其中，所述支撐體為滾輪或滾珠。其中，所述機臺上還設有升降機構，所述升降機構與所述出口處的所述支撐體相連。其中，所述機臺上沿所述基板的傳送方向還設有導輪，所述導輪朝所述基板的傳送方向轉動，所述導輪夾持在所述基板的相對兩邊緣以防止所述基板傾斜時滑動。其中，所述支撐體及所述導輪由抗靜電材料制成。其中，所述支撐體及所述導輪由彈性材料制成。其中，所述顯影液室的入口處設有第一氣刀，所述第一氣刀用于阻擋所述入口處的顯影液流出。其中，所述顯影液室內設有用于噴涂顯影液的噴嘴。其中，所述出口處設有顯影液去除裝置。其中，所述顯影液去除裝置包括第二氣刀和液刀。由此，本專利技術的方案，通過將機臺上顯影液室出口處的支撐體的高度設為梯次上升，基板移動到出口處時呈傾斜狀態，使得基板前端的顯影液向后端回流，由此使得基板前后端的顯影液濃度趨于一致，保證基板前后端都能充分進行顯影化學反應。進而，本專利技術的方案能夠很好地消除基板前后端的CD差異，提升液晶顯示器的亮度均勻性。附圖說明為更清楚地闡述本專利技術的構造特征和功效，下面結合附圖與具體實施例來對其進行詳細說明。圖1是本專利技術第一實施例的顯影設備的結構示意圖。圖2是本專利技術第二實施例的顯影設備中導輪夾持基板的示意圖。圖3是本專利技術第三實施例的顯影設備的結構示意圖。具體實施例下面將結合本專利技術實施例中的附圖，對本專利技術實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例是本專利技術的一部分實施例，而不是全部實施例。基于本專利技術中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都應屬于本專利技術保護的范圍。如圖1所示，本專利技術第一實施例的顯影設備10包括機臺11、設在機臺11上的多個可轉動的支撐體12和顯影液室13。顯影設備10用于對基板100進行PR顯影制程。進入顯影設備10的基板100已經預先涂布了PR并經過了曝光處理。機臺11作為顯影設備10的結構主體，提供電氣控制及機械控制的功能。如圖1所示，多個支撐體12布設在機臺11上，顯影液室13架設在支撐體12之上，多個支撐體12貫穿顯影液室13。多個支撐體12上承載有基板100，支撐體12轉動以使基板100往前傳送至顯影液室13。顯影液室13的出口132處的支撐體12的高度大于機臺11上其他位置的支撐體12的高度，且高度呈梯次逐漸上升。由此，基板100移動到出口132處時，將呈傾斜狀態。應理解，支撐體12的高度變化，是適應實際制程需要的，即高度變化不會太大以至于使制程失效；又不會太小以至于達不到本專利技術的目的。本實施例中，機臺11上設有升降機構(圖未示)，所述升降機構與顯影液室13出口處132的支撐體12相連。通過升降機構，此處的支撐體12能夠向上升起，以形成梯級高度差。或者，通過升降機構此處的支撐體12能夠在需要的時候下降復位。所述升降機構，例如可以是氣缸，也可以是齒輪組加連接桿構成的機構。本領域內的技術人員可以根據實際需要具體確定。使用所述升降機構，使得支撐體12的位置調節比較靈活。當然，在其他實施例中，也可以不設所述升降機構，而是將出口處132的支撐體12固設為呈梯次上升。本實施例中，優選的，支撐體12可以為滾輪，也可以為球狀的滾珠。在其他實施例中，支撐體12可以為其他結構形式。為了避免摩擦靜電損傷基板100，支撐體12由抗靜電材料制成；和/或，支撐體12可以使用彈性材料制造，以避免對基板100造成機械損傷。顯影液室13用于對進入其中的基板100進行顯影液噴涂，基板100在顯影液室13中進行顯影液與PR的化學反應。顯影液室13內設有噴嘴(圖未示)，顯影液從所述噴嘴中噴出。當基板100進入顯影液室13的入口131時，基板的前端先噴涂到顯影液，因此所述前端先行進行化學反應。在基板100一直前移并同時進行化學反應的過程中，所述前端的顯影液被消耗，顯影液濃度將下降。此時，基板100后端的顯影液將向所述前端擴散。如此導致所述后端的顯影液尚未充分反應，濃度就已經下降。而本實施例中，通過將出口132處的支撐體12的高度升高，使得基板100傾斜放置，所述前端的顯影液會向所述后端回流，補充所述后端的顯影液的濃度。當所述前、后端的顯影液的濃度均勻一致時，所述后端的顯影液則不會再向所述前端擴散，從而保證所述后端能夠維持充分反應所需的顯影液濃度。應注意，出口132處的所述前端已經進行了充分的化學反應。此時，將出口132處的支撐體12的高度升高、使得所述前端的顯影液回流，并不會影響所述前端的顯影制程。在本專利技術第二實施例中，與上述第一實施例不同的是，如圖2所示，顯影設備20還包括設在機臺11上的導輪14，導輪14且沿基板100的傳送方向設置且朝所述傳送方向轉動。本實施例中設有兩列導輪14，兩列導輪14分別夾持在基板100的相對兩個邊緣，起到導向和限位的作用。當基板100傾斜時，由于兩列導輪14只能朝所述傳送方向轉動，因此基板100在兩列導輪14的固持下，不會向后滑動。本實施例中，為了避免摩擦靜電損傷基板100，導輪14由抗靜電材料制成；和/或，導輪14使用彈性材料制造，以此避免對基板100造成機械損傷。在本專利技術第三實施例中，與上述實施例不同的是，如圖3所示，顯影液室13的入口131處還設有第一氣刀15。第一氣刀15吹出的氣流能夠阻止入口131處的顯影液流出，從而使顯影液保持在顯影液室13內，避免顯影液浪費或者侵蝕其他設備。本實施例中，進一步的，如圖3所示，顯影液室13的出口132處還設有第二氣刀16及液刀17。第二氣刀吹出的氣流用于干燥基板100上經過顯影處理后形成的圖案。液刀17噴出的清洗液則用于清洗基板100。在其他實施例中，可以采用其他具有上述干燥和清洗功能的顯影液去除裝置。本領域的技術人員可以根據實際需要具體確定。以上所述，僅為本專利技術的具體實施方式本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種顯影設備，用于基板的顯影制程，其特征在于，所述顯影設備包括機臺，所述機臺上設有顯影液室和多個可轉動的支撐體，多個所述支撐體貫穿所述顯影液室排布，多個所述支撐體上承載有所述基板，多個所述支撐體將所述基板傳送至所述顯影液室內；所述顯影液室的出口處的多個所述支撐體的高度依次增加，使得傳送到所述出口處的所述基板呈傾斜狀態。

【技術特征摘要】
1.一種顯影設備，用于基板的顯影制程，其特征在于，所述顯影設備包括機臺，所述機臺上設有顯影液室和多個可轉動的支撐體，多個所述支撐體貫穿所述顯影液室排布，多個所述支撐體上承載有所述基板，多個所述支撐體將所述基板傳送至所述顯影液室內；所述顯影液室的出口處的多個所述支撐體的高度依次增加，使得傳送到所述出口處的所述基板呈傾斜狀態。2.根據權利要求1所述的顯影設備，其特征在于，所述支撐體為滾輪或滾珠。3.根據權利要求1或2所述的顯影設備，其特征在于，所述機臺上還設有升降機構，所述升降機構與所述出口處的所述支撐體相連。4.根據權利要求1或2所述的顯影設備，其特征在于，所述機臺上沿所述基板的傳送方向還設有導輪，所述導輪朝所述基...

【專利技術屬性】
技術研發人員：郭開超，歐陽志華，
申請(專利權)人：武漢華星光電技術有限公司，
類型：發明
國別省市：湖北;42