【技術實現(xiàn)步驟摘要】
本技術屬于真空鍍膜
，涉及一種快速沉積的摻鎢類金剛石碳膜的沉積設備。
技術介紹
類金剛石碳膜(DLC)硬度高、表面光滑、摩擦系數(shù)低、耐磨性好,具有優(yōu)異的化學惰性、生物相容性、電學性能、光學性能,且在低溫容易實現(xiàn)大面積沉積,可以顯著改善零件的耐磨抗蝕性能、使用壽命和減少摩擦能耗,在航空航天、精密機械、微型機電系統(tǒng)、工模具、光學、聲學、生物醫(yī)學等領域具有廣闊的應用前景。但DLC膜存在內(nèi)應力高,脆性大,膜/基結合強度低及熱穩(wěn)定性差等不足,這些缺陷在很大程度上成為DLC膜研究和產(chǎn)業(yè)化應用的“瓶頸”。如何避免DLC膜的上述缺陷是DLC膜研究的主要方向。降低DLC膜內(nèi)應力和改善膜基結合強度的方法包括基體表面改性、過渡層制備、DLC膜的合金化、復合化和多層化等。在DLC膜中摻雜金屬元素可在降低DLC膜內(nèi)應力和改善膜/基結合強度的同時還改善DLC膜的硬度、韌性、熱穩(wěn)定性和耐磨性是DLC膜的研究熱點。之前，我公司已經(jīng)成功開發(fā)了DLC膜層，申請了專利CN204714891U（一種離子束快速沉積類金剛石薄膜設備），并成功應用于智能電子產(chǎn)品上，取得了良好的效果。為擴大我司制備的DLC膜層應用范圍，我司正在對DLC鍍層進行改進，以適應不同的應用領域。在DLC膜中摻雜鎢可以形成碳化鎢和非晶碳組成的復相結構，明顯提高DLC膜的硬度、膜/基結合力、韌性，緩解DLC膜的內(nèi)應力，從而大大降低DLC膜的磨損率，這使得摻鎢DLC膜具有廣泛的應用前景。
技術實現(xiàn)思路
為克服現(xiàn)有技術的缺點，本技術提供一種摻鎢類金剛石碳膜的沉積設備，它能夠提高硬度和膜基結合力。本技術解決其技術問題所采用的技術方案...
【技術保護點】
一種摻鎢類金剛石碳膜的沉積設備，包括一個密封的真空腔體，其特征是：該真空腔體采用左右對稱的結構，在真空腔體30°及150°位置處設置有小凸腔，小凸腔內(nèi)放置有兩個對稱的高能離子源，在真空腔體0°及180°位置處設置有凸腔，凸腔內(nèi)放置有一對鉻靶及一對純鎢靶，在該真空腔體內(nèi)設置有呈圓環(huán)形的工件轉(zhuǎn)架，在該工件轉(zhuǎn)架上則均設有若干個等距排列的工件，在由工件圍成的內(nèi)圓內(nèi)設置有上下兩排呈弧形對稱的加熱管。
【技術特征摘要】
1.一種摻鎢類金剛石碳膜的沉積設備，包括一個密封的真空腔體，其特征是：該真空腔體采用左右對稱的結構，在真空腔體30°及150°位置處設置有小凸腔，小凸腔內(nèi)放置有兩個對稱的高能離子源，在真空腔體0°及180°位置處設置有凸腔，凸腔內(nèi)放置有一對鉻靶及一對純鎢靶，在該真空腔體內(nèi)設置有呈圓環(huán)形的工件轉(zhuǎn)架，在該工件轉(zhuǎn)架上則均設有若干個等距排列的工件，在由工件圍成的內(nèi)圓內(nèi)設置有上下兩排呈弧形對稱的加熱管。2....
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：杜旭穎，阮志明，曾德強，廖生，王大洪，陳明勝，黃李平，潘旋，聶海天，胡靜云，
申請(專利權)人：深圳市正和忠信股份有限公司，
類型：新型
國別省市：廣東;44
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