一種真空吸附裝置制造方法及圖紙

本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種真空吸附裝置，包括承載板和升降板，所述升降板位于所述承載板的上方，所述升降板與所述承載板平行，所述承載板的頂面上設(shè)置有一凹槽，所述真空吸附裝置所吸附的被吸附板設(shè)置在所述凹槽內(nèi)，所述升降板上垂直設(shè)置有兩根升降桿，所述兩根升降桿的底端均設(shè)置有吸嘴，所述升降板上還設(shè)置有驅(qū)動所述升降板進(jìn)行升降和水平運(yùn)動的驅(qū)動裝置。本發(fā)明專利技術(shù)的真空吸附裝置可以利用真空吸附來輸運(yùn)一些板形的零部件，對所輸運(yùn)零部件的表面損傷小，沒有靜電危害。

Vacuum adsorption device

The invention discloses a vacuum adsorption device comprises a bearing plate and a lifting plate, the lifting plate is positioned in the bearing plate above the lifting plate and the bearing plate is parallel to the top surface of the bearing plate is provided with a groove, adsorption of the vacuum adsorption device by adsorption plate is arranged in the groove, the lifting plate is vertically arranged on two lifting rods of the two, the bottom end of the lifting rod is provided with a suction nozzle, wherein the lifting plate is provided with a driving device drives the lifting board for lifting and horizontal movement. The vacuum adsorption device of the invention can transport some plate shaped parts by vacuum adsorption, and has little damage to the surface of the transported parts and has no electrostatic hazard.

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
一種真空吸附裝置
本專利技術(shù)涉及一種真空吸附裝置。
技術(shù)介紹
在一些生產(chǎn)設(shè)備或生產(chǎn)線上，對一些板狀零部件需要進(jìn)行運(yùn)送或移動。而真空輸運(yùn)的方法就是一種可采用的方式。有些板狀零部件如果人工用手操作會對板面造成污染或損傷，影響板的質(zhì)量，包括可能的靜電危害。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)主要解決的技術(shù)問題是提供一種真空吸附裝置，該真空吸附裝置可以利用真空吸附來輸運(yùn)一些板形的零部件，對所輸運(yùn)零部件的表面損傷小，沒有靜電危害。為解決上述技術(shù)問題，本專利技術(shù)采用的一個(gè)技術(shù)方案是：提供一種真空吸附裝置，包括承載板和升降板，所述升降板位于所述承載板的上方，所述升降板與所述承載板平行，所述承載板的頂面上設(shè)置有一凹槽，所述真空吸附裝置所吸附的被吸附板設(shè)置在所述凹槽內(nèi)，所述升降板上垂直設(shè)置有兩根升降桿，所述兩根升降桿的底端均設(shè)置有吸嘴，所述升降板上還設(shè)置有驅(qū)動所述升降板進(jìn)行升降和水平運(yùn)動的驅(qū)動裝置。在本專利技術(shù)一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述升降桿為中空的管狀，所述升降桿的頂端連接有氣管，所述氣管內(nèi)充有負(fù)壓氣體。在本專利技術(shù)一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述凹槽的深度小于所述被吸附板的深度。在本專利技術(shù)一個(gè)較佳實(shí)施例中，所述吸嘴與所述升降桿的所述中空部分連通。本專利技術(shù)的有益效果是：本專利技術(shù)的真空吸附裝置可以利用真空吸附來輸運(yùn)一些板形的零部件，對所輸運(yùn)零部件的表面損傷小，沒有靜電危害。附圖說明為了更清楚地說明本專利技術(shù)實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本專利技術(shù)的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖，其中：圖1是本專利技術(shù)的真空吸附裝置的實(shí)施例示意圖。附圖中各部件的標(biāo)記如下：1、承載板，2、凹槽，3、被吸附板，4、升降板，5、升降桿，6、吸嘴，7、驅(qū)動裝置，8、氣管。具體實(shí)施方式下面將對本專利技術(shù)實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅是本專利技術(shù)的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦＠夹g(shù)中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本專利技術(shù)保護(hù)的范圍。請參閱圖1，本專利技術(shù)實(shí)施例包括：一種真空吸附裝置，包括承載板1和升降板4，所述升降板4位于所述承載板1的上方，所述升降板4與所述承載板1平行，所述承載板1的頂面上設(shè)置有一凹槽2，所述真空吸附裝置所吸附的被吸附板3設(shè)置在所述凹槽2內(nèi)，所述升降板4上垂直設(shè)置有兩根升降桿5，所述兩根升降桿5的底端均設(shè)置有吸嘴6，所述升降板4上還設(shè)置有驅(qū)動所述升降板4進(jìn)行升降和水平運(yùn)動的驅(qū)動裝置7。優(yōu)選地，所述升降桿5為中空的管狀，所述升降桿5的頂端連接有氣管8，所述氣管8內(nèi)充有負(fù)壓氣體。優(yōu)選地，所述凹槽2的深度小于所述被吸附板3的深度。優(yōu)選地，所述吸嘴6與所述升降桿5的所述中空部分連通。驅(qū)動裝置7驅(qū)動升降板4下降，升降板4帶動升降桿5和吸嘴6下降，吸嘴6壓住被吸附板3，在氣管8內(nèi)負(fù)壓氣體的作用下吸嘴6將被吸附板3吸附住。驅(qū)動裝置7驅(qū)動升降板4上升將被吸附板3提起并可以移走。整個(gè)過程不需要人工的手接觸被吸附板3，不會對被吸附板3造成表面污染或是靜電損害。以上所述僅為本專利技術(shù)的實(shí)施例，并非因此限制本專利技術(shù)的專利范圍，凡是利用本專利技術(shù)說明書內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其它相關(guān)的
，均同理包括在本專利技術(shù)的專利保護(hù)范圍內(nèi)。本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種真空吸附裝置，其特征在于，包括承載板和升降板，所述升降板位于所述承載板的上方，所述升降板與所述承載板平行，所述承載板的頂面上設(shè)置有一凹槽，所述真空吸附裝置所吸附的被吸附板設(shè)置在所述凹槽內(nèi)，所述升降板上垂直設(shè)置有兩根升降桿，所述兩根升降桿的底端均設(shè)置有吸嘴，所述升降板上還設(shè)置有驅(qū)動所述升降板進(jìn)行升降和水平運(yùn)動的驅(qū)動裝置。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種真空吸附裝置，其特征在于，包括承載板和升降板，所述升降板位于所述承載板的上方，所述升降板與所述承載板平行，所述承載板的頂面上設(shè)置有一凹槽，所述真空吸附裝置所吸附的被吸附板設(shè)置在所述凹槽內(nèi)，所述升降板上垂直設(shè)置有兩根升降桿，所述兩根升降桿的底端均設(shè)置有吸嘴，所述升降板上還設(shè)置有驅(qū)動所述升降板進(jìn)行升降和水平運(yùn)動...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：陳學(xué)兵，王光輝，
申請(專利權(quán))人：蘇州普京真空技術(shù)有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：江蘇,32