吸附裝置和真空處理裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術提供一種使在與吸附對象物接觸的面的吸附力降低來抑制吸附對象物的吸附和剝離時的灰塵的產生并且能夠以使吸附裝置的吸附力均勻的方式進行控制的技術。本發明專利技術的吸附裝置具有：在電介質中具有用于對基板10進行吸附保持的逆極性的一對吸附電極11、12的主體部50、以及相對于一對吸附電極11、12在主體部50的吸附側的部分以跨越一對吸附電極11的陽極11a和陰極11b以及一對吸附電極12的陽極12a和陰極12b的方式分別配置的導電性膜51。

Adsorption device and vacuum treatment device

The present invention provides a reduced dust adsorption and adsorption stripping to suppress the object when the surface adsorption capacity and adsorption contact of the object and can make the adsorption force uniform adsorption device to control technology. The adsorption device of the present invention includes: in the dielectric has a conductive film on the substrate 10 to maintain the inverse adsorption on adsorption electrodes 11 and 12 of the body 50, and with respect to a pair of electrodes 11 and 12 adsorption adsorption on the side of the main body part 50 part to across a pair of electrodes of 11 adsorption 11a and 11b and a cathode anode on the adsorption electrode 12 and cathode anode 12a 12b configuration 51 respectively.

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】吸附裝置和真空處理裝置
本專利技術涉及在真空中對基板進行吸附保持的吸附裝置，特別是涉及對在背面具有絕緣性的膜的基板以及絕緣性的基板進行吸附保持的吸附裝置的技術。
技術介紹
歷來，在濺射裝置等中，為了精密地進行基板的溫度控制而廣泛地使用靜電吸附裝置。在真空中在玻璃等的絕緣性基板上進行成膜等處理的裝置中，廣泛地使用利用梯度力對絕緣性基板進行吸附保持的吸附裝置。此外，在對在背面具有絕緣性的膜的基板進行靜電吸附的情況下，采取使吸附電壓變高來使吸附力變強的方法等。歷來，在此種類的吸附裝置中，由于在其吸附面的接觸而發生基板背面或吸附裝置的吸附面的材料的剝離，產生了由于灰塵的產生導致的工藝不良。因此，成為制造工序中的成品率降低等那樣的使裝置的可靠性變低的主要原因。此外，在現有技術中，進行為了降低基板與吸附面的接觸部分（界面）處的熱阻而增大吸附力的情況，但是，在該情況下，為了確保接觸部分處的緊貼性（接觸面積），對基板表面或吸附裝置的吸附面進行研磨，其結果是，由磨耗造成的灰塵增大，因此，需要使接觸部分處的吸附力降低。另一方面，作為吸附裝置整體，需要降低與基板的熱阻，需要一邊在接觸部分使吸附力降低一邊在非接觸部分提高吸附力并且通過利用氣體的助推器等的熱傳導來降低熱阻的手法。進而，關于在吸附結束后的殘留吸附力的降低技術，歷來，通過單純地使吸附面積變小或使施加電壓降低等那樣的面內吸附力的相對的降低來進行。可是，在這樣的方法中，基板與吸附裝置之間的熱傳遞能力降低，因此，不能最大限度發揮本來的吸附能力。此外，由于裝置的吞吐時間縮短等產生由于殘留吸附殘存造成的輸送錯誤或者每個基板的成品率等問題，期望吸附裝置的均勻的吸附力控制。進而，由于與基板的接觸部分處的吸附力，發生基板背面或吸附裝置表面的剝離，與吸附力的均勻性一起期望降低接觸部分處的吸附力來抑制磨耗、剝離。另一方面，當想要使吸附力均勻時，存在在多個吸附電極之中的一部分的吸附電極間發生短路的情況，為了避免這樣的事態，也期望能夠降低一部分的吸附電極中的吸附力。現有技術文獻專利文獻專利文獻1：日本特許第4342691號。
技術實現思路
專利技術要解決的課題本專利技術是為了解決上述現有技術的課題而完成的，其目的在于提供一種使與吸附對象物接觸的面處的吸附力降低來抑制吸附對象物的吸附和剝離時的灰塵的產生并且能夠以使吸附裝置的吸附力作為整體均勻的方式此外以部分地降低吸附力的方式控制的技術。此外，本專利技術的另一目的在于提供一種能夠作為吸附裝置整體來降低吸附裝置與吸附對象物之間的熱阻的技術。用于解決課題的方案為了解決上述課題而完成的本專利技術是，一種吸附裝置，其中，具有：主體部，在電介質中具有用于對吸附對象物進行吸附保持的多個逆極性的一對吸附電極；以及多個導電性膜，相對于所述多個一對吸附電極在所述主體部的吸附側的部分以跨越所述多個一對吸附電極的陽極和陰極的方式配置。在本專利技術中，在所述多個導電性膜被配置為針對所述多個一對吸附電極的陽極和陰極對由該一對吸附電極產生的電場進行遮蔽的面積分別為均等的情況下也是有效的。在本專利技術中，在所述主體部具有被設置于其吸附側的表面并且與所述吸附對象物接觸來進行支承的凸狀的接觸支承部、所述導電性膜僅配置于該接觸支承部的區域的情況下也是有效的。在本專利技術中，在所述接觸支承部與所述主體部以相同的材料整體地形成的情況下也是有效的。在本專利技術中，在具有帶有導電性膜的片材、所述帶有導電性膜的片材在絕緣性的片材內部設置有所述導電性膜、該帶有導電性膜的片材在配置于所述主體部的表面的情況下以具有所述接觸支承部的方式形成、并且相對于所述主體部拆裝自由地構成的情況下也是有效的。另一方面，本專利技術是一種真空處理裝置，所述真空處理裝置具有真空槽、以及被設置在所述真空槽內的上述任一個吸附裝置，所述真空處理裝置被構成為對由所述吸附裝置吸附保持的吸附對象物進行規定的處理。專利技術效果在本專利技術的吸附裝置中，由于具有：主體部，在電介質中具有用于對吸附對象物進行吸附保持的多個逆極性的一對吸附電極；以及多個導電性膜，相對于多個一對吸附電極在主體部的吸附側的部分以跨越多個一對吸附電極的陽極和陰極的方式配置，所以在多個導電性膜的區域中分別遮蔽在多個一對吸附電極的陽極與陰極間產生的電場，并且，成為不會使各導電性膜本身帶有電位的狀況發生的狀態，由此，不會在主體部的吸附側的多個導電性膜的部分分別產生吸附力。其結果是，根據本專利技術，能夠抑制在與吸附對象物的接觸部分起因于摩擦等的吸附對象物和吸附裝置表面的剝離的發生，其結果是，能夠防止灰塵的產生，并且，延長吸附裝置本身的壽命。此外，根據本專利技術，能夠構成為使吸附裝置的吸附力在各區域中均勻，此外，也能夠控制并調整在吸附面內的吸附力的分布狀態，因此，能夠防止吸附對象物的輸送錯誤，并且，能夠避免成品率的降低。進而，根據本專利技術，即使為在多個一對吸附電極之中的一部分的一對吸附電極間發生了短路的情況，也能夠通過控制為使由該一對吸附電極產生的吸附力降低來避免和防止在各一對吸附電極間的短路的發生。在本專利技術中，在多個導電性膜被配置為針對多個一對吸附電極的陽極和陰極對由該一對吸附電極產生的電場進行遮蔽的面積分別為均等的情況下，能夠控制為在吸附裝置的主體部中的配置有多個一對吸附電極的區域中吸附力更均勻。進而，以在主體部表面具有分布的方式配置橫跨多個一對吸附電極的陽極和陰極的多個導電性膜的吸附電極上的面積，由此，也能夠控制吸附力以及作為其結果而產生的殘留吸附力。在本專利技術中，在主體部具有被設置于其吸附側的表面并且與吸附對象物接觸來進行支承的凸狀的接觸支承部并且橫跨上述的主體部的吸附電極的陽極和陰極兩者的導電性膜僅配置于接觸支承部的區域的情況下，能夠在接觸支承部中不產生吸附力，因此，能夠降低主體部與吸附對象物的接觸部分處的起因于熱等的摩擦力，進而，在主體部與吸附對象物的非接觸部分提高吸附力，由此，能夠在不使作為吸附裝置整體的吸附力降低的情況下通過使用利用氣體的助推器等熱傳導單元來降低吸附裝置與吸附對象物之間的熱阻。在該情況下，只要接觸支承部與主體部以相同的材料整體地形成，則能夠謀求制造工序的簡化，并且，由于為利用整體成型的結構，所以與通過貼合來制造的情況相比，能夠使剛性等機械的強度變高。進而此外，具有帶有導電性膜的片材，所述帶有導電性膜的片材在絕緣性的片材內部設置有導電性膜，該帶有導電性膜的片材被配置于主體部的表面，進而以橫跨主體部的吸附電極的陽極和陰極兩者的方式形成接觸支承部，并且，相對于主體部拆裝自由地構成，在此情況下，能夠容易地進行導電性膜的交換，由此，維護是容易的，并且，能夠提供能夠與各種吸附對象物對應的通用性廣泛的吸附裝置。此外，根據具有被設置在真空槽內的上述任一個吸附裝置并且被構成為對由該吸附裝置吸附保持的吸附對象物進行規定的處理的真空處理裝置，能夠提供能夠進行高品質的真空處理的真空處理裝置。附圖說明圖1是作為本專利技術的真空處理裝置的一個實施方式的濺射裝置的概略結構圖。圖2（a）：示出整個表面吸附型的吸附裝置的剖面的概略結構圖，（b）：示出基板吸附的原理的等效電路圖。圖3（a）（b）：示意性地示出本專利技術的吸附裝置的結構例，圖3（a）是剖面結構圖，圖3（b）是平面結構圖。圖4是示意性地示出本專利技術的吸附裝置的另一結本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種吸附裝置，其中，具有：主體部，在電介質中具有用于對吸附對象物進行吸附保持的多個逆極性的一對吸附電極；以及多個導電性膜，相對于所述多個一對吸附電極在所述主體部的吸附側的部分以跨越所述多個一對吸附電極的陽極和陰極的方式配置。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2015.04.02 JP 2015-0759391.一種吸附裝置，其中，具有：主體部，在電介質中具有用于對吸附對象物進行吸附保持的多個逆極性的一對吸附電極；以及多個導電性膜，相對于所述多個一對吸附電極在所述主體部的吸附側的部分以跨越所述多個一對吸附電極的陽極和陰極的方式配置。2.根據權利要求1所述的吸附裝置，其中，所述多個導電性膜被配置為針對所述多個一對吸附電極的陽極和陰極對由該一對吸附電極產生的電場進行遮蔽的面積分別為均等。3.根據權利要求1或2的任一項所述的吸附裝置，其中，所述主體部具有被設置于其吸附側的表面并且與所述吸附對象物接觸來進行支承的凸狀的接觸支承部，所述導電性膜僅配置于該接觸支承部的區域。4.根據權利要求3所...

【專利技術屬性】
技術研發人員：前平謙，不破耕，早坂智洋，
申請(專利權)人：株式會社愛發科，
類型：發明
國別省市：日本,JP