An integrated circuit includes a first transistor, the first transistor includes a first current electrode and the second current electrode and the main connection; first conductor, the first conductor is coupled between the first current electrode and the first power supply voltage; and a second conductor, the second conductor coupled to the second electrode current. The resistance of the second wire is greater than at least 5% of the resistance of the first wire. The main body coupling is coupled to the second power supply voltage. The first supply voltage is different from the second supply voltage.
【技術實現步驟摘要】
具有省電特征的集成電路
本專利技術大體上涉及集成電路,且更具體地說,涉及具有省電特征的集成電路。
技術介紹
省電持續成為對集成電路的重要要求,包括那些具有高性能要求的集成電路,例如處理器和芯片上系統(SoC)裝置。在各種應用中會需要減小功耗,所述各種應用可以是或可以不是其中電池為功率源的情形。例如,電流的量會影響攜載電流的結構的尺寸或特性,例如導電性。熱量產生也會是重要的問題。耗散熱量會要求大量額外的結構,例如風扇和散熱片。另外,可能存在與惡劣的環境條件相關的要求,在所述環境條件下必須能夠消耗電流。所述環境條件可能形成其中會因正常操作而大大增大例如泄漏電流等不合需要的電流的情形。因此,需要另外改進控制集成電路中的電流。
技術實現思路
根據本專利技術的一個方面,提供一種集成電路,包括:第一晶體管,所述第一晶體管包括第一電流電極、第二電流電極和主體聯結;第一導線,所述第一導線耦合在所述第一電流電極與第一電源電壓之間;以及第二導線,所述第二導線耦合到所述第二電流電極,其中所述第二導線的電阻比所述第一導線的電阻至少大5%,其中所述主體聯結耦合到第二電源電壓,并且所述第一電源電壓不同于所述第二電源電壓。根據本專利技術的另一方面,提供一種方法,包括:在集成電路的有源裝置層中形成晶體管,其中所述晶體管包括第一電流電極、第二電流電極和主體聯結;在所述集成電路的互連層中形成互連結構;在所述集成電路的強力金屬層中形成第一導線,其中所述第一導線通過第一組所述互連結構耦合到所述第一電流電極;以及在所述集成電路的所述強力金屬層中形成第二導線,其中所述第二導線通過第二組所述互連結構耦合到 ...
【技術保護點】
一種集成電路,其特征在于,包括:第一晶體管,所述第一晶體管包括第一電流電極、第二電流電極和主體聯結;第一導線,所述第一導線耦合在所述第一電流電極與第一電源電壓之間;以及第二導線,所述第二導線耦合到所述第二電流電極,其中所述第二導線的電阻比所述第一導線的電阻至少大5%,其中所述主體聯結耦合到第二電源電壓,并且所述第一電源電壓不同于所述第二電源電壓。
【技術特征摘要】
2015.09.22 US 14/860,9011.一種集成電路,其特征在于,包括:第一晶體管,所述第一晶體管包括第一電流電極、第二電流電極和主體聯結;第一導線,所述第一導線耦合在所述第一電流電極與第一電源電壓之間;以及第二導線,所述第二導線耦合到所述第二電流電極,其中所述第二導線的電阻比所述第一導線的電阻至少大5%,其中所述主體聯結耦合到第二電源電壓,并且所述第一電源電壓不同于所述第二電源電壓。2.根據權利要求1所述的集成電路,其特征在于,由于所述第二導線的寬度小于所述第一導線的寬度,因此所述第二導線的所述電阻比所述第一導線的所述電阻至少大5%。3.根據權利要求1所述的集成電路,其特征在于,由于耦合到所述第二導線的傳導通孔的數目小于耦合到所述第一導線的傳導通孔的數目,因此所述第二導線的所述電阻比所述第一導線的所述電阻至少大5%。4.根據權利要求1所述的集成電路,其特征在于,所述第一晶體管為N溝道金屬氧化物半導體,所述第一電流電極為漏極電極,所述第二電流電極為源極電極,并且所述第一電源電壓的幅值大于所述第二電源電壓的幅值。5.根據權利要求1所述的集成電路,其特征在于,所述第一晶體管為P溝道金屬氧化物半導體,所述第一電流電極為源極電極,所述第二電流電極為漏極電極,并且所述第一電源電壓的幅值大于所述第二電源電壓的幅值。6.根據權利要求1所述的集成電路,其特征在于,另外包括:第二晶體管,所述第二晶體管包括第一電流電極和第二電流電極;以及第三導線,所述第三導線耦合在所述第二晶體管的所述第一電流電極與所述第一電源電壓之間,其中所述第一導線另外耦合到所述第二晶體管的所述第二電流電極。7.根據權利要求1所述的集成電路,其特征在于,所述第一導線和所述第二導線形成于所述集成電路的強力金屬層中。8.根據權利要求7所述的集成電路,其特征在于,所述第一導線和所述第二導線具有相同厚度。9.根據權利要求1所述的集成電路,其特征在于,另外包括:襯底;形成于所述襯底上的有源電子裝置結構;以及耦合到所述有源電子裝置結構的一個或多個互連層,其中所述第一導線和所述第二導線形成于所述一個或多個互連層上方。10.根據權利要求1所述的集成電路,其特征在于,耦合到所述主體聯結的導線的寬度小于所述第一導線的寬度和所述第二導線的寬度。11.一種方法,其特征在于,包括:在集成電路的有源裝置層中形成晶體管,其中所述晶體管包括第一電流電極、第二電流電極和主體聯結;在所述集成電路的互連層中形成互連結構;在所述集...
【專利技術屬性】
技術研發人員:阿尼斯·M·杰拉爾,杰夫·沃納,大衛·提普,
申請(專利權)人:飛思卡爾半導體公司,
類型:發明
國別省市:美國,US
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