一種表面清潔裝置、溫控臺(tái)系統(tǒng)及表面清潔方法制造方法及圖紙

本發(fā)明專利技術(shù)實(shí)施例提供一種表面清潔裝置、溫控臺(tái)系統(tǒng)及表面清潔方法。該裝置包括：可沿溫控臺(tái)的表面移動(dòng)的支架，連接在所述支架上的噴頭，以及向所述噴頭輸送氣體的氣體輸入單元；所述噴頭設(shè)置在所述溫控臺(tái)上方，所述噴頭包括相對(duì)設(shè)置的第一表面和第二表面，所述噴頭的第一表面上設(shè)置至少一個(gè)第一出風(fēng)口；所述噴頭的第二表面上設(shè)置至少一個(gè)第二出風(fēng)口；所述第一出風(fēng)口沿噴頭移動(dòng)方向向所述溫控臺(tái)的表面出風(fēng)；所述第二出風(fēng)口沿噴頭移動(dòng)方向向基板的表面出風(fēng)。本發(fā)明專利技術(shù)實(shí)施例通過(guò)在噴頭的第一表面上設(shè)置第一出風(fēng)口，在噴頭的第二表面上設(shè)置第二出風(fēng)口，可同時(shí)去除溫控臺(tái)和基板的整個(gè)表面上的顆粒物，以便提高產(chǎn)線稼動(dòng)率以及產(chǎn)品良率。

Surface cleaning device, temperature control table system and surface cleaning method

The embodiment of the invention provides a surface cleaning device, a temperature control table system and a surface cleaning method. The device comprises a bracket that can move along the surface temperature, the spray head is connected on the bracket, the gas input unit and to the gas nozzle; the nozzle is arranged in the temperature control, the nozzle includes opposite first surface and a second surface, at least one first the air outlet is arranged on the first surface of the nozzle; the second surface of the nozzle is provided with at least one second outlet; the first air outlet temperature to the nozzle along the moving direction of the surface; the second outlet nozzle along the movement direction of the wind to the surface of the substrate. The embodiment of the invention, by setting the first outlet nozzle on the first surface on the second surface of the nozzle is provided with second air outlet, can simultaneously remove the temperature control and the entire surface of the substrate particles, so as to improve the production line utilization rate and product yield.

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
一種表面清潔裝置、溫控臺(tái)系統(tǒng)及表面清潔方法
本專利技術(shù)涉及表面清潔
，特別是涉及一種表面清潔裝置、溫控臺(tái)系統(tǒng)及表面清潔方法。
技術(shù)介紹
曝光機(jī)的溫控臺(tái)的表面上往往會(huì)殘留顆粒物。這些顆粒物如果沒(méi)有及時(shí)清理掉，則基板與溫控臺(tái)的表面在多次擠壓后，可能會(huì)使顆粒物嵌入到溫控臺(tái)的表面的涂層中，使得基板與溫控臺(tái)的表面接觸造成基板表面也產(chǎn)生凹點(diǎn)?，F(xiàn)有技術(shù)中，為了解決該問(wèn)題，定期清潔溫控臺(tái)的表面。但是，由于基板的表面也會(huì)有顆粒物，該清潔過(guò)程沒(méi)有清潔基板的表面，并且在清潔的過(guò)程中又會(huì)引入新的顆粒物，從而使得清潔的效率較低，影響產(chǎn)能。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)實(shí)施例提供一種表面清潔裝置、溫控臺(tái)系統(tǒng)及表面清潔方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)不能同時(shí)清潔溫控臺(tái)和基板表面的顆粒物的問(wèn)題。第一方面，提供一種表面清潔裝置，包括：可沿溫控臺(tái)的表面移動(dòng)的支架，連接在所述支架上的噴頭，以及向所述噴頭輸送氣體的氣體輸入單元；所述噴頭設(shè)置在所述溫控臺(tái)上方，所述噴頭包括相對(duì)設(shè)置的第一表面和第二表面，所述噴頭的第一表面上設(shè)置至少一個(gè)第一出風(fēng)口；所述噴頭的第二表面上設(shè)置至少一個(gè)第二出風(fēng)口；所述第一出風(fēng)口沿噴頭移動(dòng)方向向所述溫控臺(tái)的表面出風(fēng)；所述第二出風(fēng)口沿噴頭移動(dòng)方向向基板的表面出風(fēng)。進(jìn)一步，還包括：設(shè)置在所述噴頭內(nèi)部的高壓放電單元，所述高壓放電單元將所述氣體輸入單元輸入的氣體離子化后輸入第一出風(fēng)口和第二出風(fēng)口。進(jìn)一步：所述噴頭的第一表面上設(shè)置至少一個(gè)第一吸附口；所述噴頭的第二表面上設(shè)置至少一個(gè)第二吸附口。進(jìn)一步，還包括：至少一個(gè)吸附單元，至少一個(gè)所述吸附單元用于設(shè)置在所述溫控臺(tái)的與所述噴頭的移動(dòng)方向同向的一側(cè)，吸附所述第一出風(fēng)口和所述第二出風(fēng)口去除的顆粒物。進(jìn)一步：所述第一出風(fēng)口與所述噴頭的第一表面的自由端之間隔有第一距離，所述噴頭的第一表面的自由端為與所述噴頭的移動(dòng)方向同向的一端；所述第二出風(fēng)口與所述噴頭的第二表面的自由端之間隔有第二距離，所述噴頭的第二表面的自由端為與所述噴頭的移動(dòng)方向同向的一端。進(jìn)一步：所述噴頭的第一表面上設(shè)置有至少一條與所述噴頭的移動(dòng)方向平行的第一導(dǎo)流槽，所述第一導(dǎo)流槽的一端延伸到所述第一出風(fēng)口處，所述第一導(dǎo)流槽的另一端延伸到所述溫控臺(tái)的第一表面的自由端；所述噴頭的第二表面上設(shè)置有至少一條與所述噴頭的移動(dòng)方向平行的第二導(dǎo)流槽，所述第二導(dǎo)流槽的一端延伸到所述第二出風(fēng)口處，所述第二導(dǎo)流槽的另一端延伸到所述溫控臺(tái)的第二表面的自由端。進(jìn)一步，還包括：控制單元，所述控制單元與所述噴頭電連接，用于控制所述噴頭的第一出風(fēng)口和第二出風(fēng)口的風(fēng)力和/或所述第一出風(fēng)口的出風(fēng)溫度。進(jìn)一步，還包括：顆粒物檢測(cè)單元和/或溫度測(cè)量單元，其中，所述顆粒物檢測(cè)單元與所述控制單元電連接，用于檢測(cè)所述溫控臺(tái)的表面的顆粒物，并將所述溫控臺(tái)的表面的顆粒物的位置發(fā)送到所述控制單元；所述控制單元用于根據(jù)所述顆粒物的位置，控制所述噴頭移動(dòng)到所述顆粒物的位置處時(shí)，增大第一出風(fēng)口的風(fēng)力；所述溫度測(cè)量單元與所述控制單元電連接，用于檢測(cè)所述溫控臺(tái)的表面的溫度，并將所述溫控臺(tái)的表面的溫度發(fā)送到所述控制單元；所述控制單元用于根據(jù)所述溫控臺(tái)的表面的溫度和所述溫控臺(tái)的表面的設(shè)定溫度，調(diào)節(jié)所述第一出風(fēng)口的出風(fēng)溫度。第二方面，提供一種溫控臺(tái)系統(tǒng)，包括：溫控臺(tái)和上述的表面清潔裝置；所述溫控臺(tái)包括多個(gè)可升降的支撐針，所述多個(gè)可升降的支撐針與所述溫控臺(tái)的表面平行，所述多個(gè)可升降的支撐針用于支撐基板；所述表面清潔裝置的噴頭的第一表面正對(duì)所述溫控臺(tái)的表面。第三方面，一種表面清潔方法，用于上述的溫控臺(tái)系統(tǒng)，所述方法包括：將所述溫控臺(tái)的多個(gè)可升降的支撐針升高，使所述支撐針與所述溫控臺(tái)的表面分離，并使所述支撐針的高度高于表面清潔裝置的噴頭的高度；將基板放置在所述支撐針上；開(kāi)啟所述表面清潔裝置的氣體輸入單元、所述噴頭的第一出風(fēng)口和所述噴頭的第二出風(fēng)口，使所述氣體輸入單元向所述噴頭輸送氣體；開(kāi)啟表面清潔裝置的支架，使所述支架帶動(dòng)所述支架上的噴頭沿所述溫控臺(tái)的表面移動(dòng)，所述第一出風(fēng)口沿噴頭移動(dòng)方向向所述溫控臺(tái)的表面出風(fēng)，所述第二出風(fēng)口沿噴頭移動(dòng)方向向基板的表面出風(fēng)。這樣，本專利技術(shù)實(shí)施例中，通過(guò)在噴頭的第一表面上設(shè)置第一出風(fēng)口，以便去除溫控臺(tái)的表面上的顆粒物；在噴頭的第二表面上設(shè)置第二出風(fēng)口，以便去除基板的表面上的顆粒物；通過(guò)移動(dòng)的支架帶動(dòng)噴頭移動(dòng)，可同時(shí)去除溫控臺(tái)和基板的整個(gè)表面上的顆粒物，以便提高產(chǎn)線稼動(dòng)率以及產(chǎn)品良率。附圖說(shuō)明為了更清楚地說(shuō)明本專利技術(shù)實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對(duì)本專利技術(shù)實(shí)施例的描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本專利技術(shù)的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1是本專利技術(shù)第一實(shí)施例的表面清潔裝置與溫控臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖一；圖2是本專利技術(shù)第一實(shí)施例的表面清潔裝置與溫控臺(tái)的結(jié)構(gòu)示意圖二；圖3是本專利技術(shù)第一實(shí)施例的表面清潔裝置與溫控臺(tái)的俯視圖；圖4是本專利技術(shù)第一實(shí)施例的表面清潔裝置的噴頭的第一表面的示意圖；圖5是本專利技術(shù)第一實(shí)施例的表面清潔裝置的一端的端面的示意圖；圖6是本專利技術(shù)第一實(shí)施例的表面清潔裝置的噴頭的第一表面的局部結(jié)構(gòu)示意圖；圖7是本專利技術(shù)第一實(shí)施例的表面清潔裝置的第一導(dǎo)流槽的結(jié)構(gòu)示意圖一；圖8是本專利技術(shù)第一實(shí)施例的表面清潔裝置的第一導(dǎo)流槽的結(jié)構(gòu)示意圖二；圖9是本專利技術(shù)第一實(shí)施例的表面清潔裝置的顆粒物檢測(cè)單元的一種結(jié)構(gòu)示意圖；圖10是本專利技術(shù)第一實(shí)施例的表面清潔裝置的顆粒物檢測(cè)單元的另一種結(jié)構(gòu)示意圖；圖11是本專利技術(shù)第二實(shí)施例的溫控臺(tái)系統(tǒng)的溫控臺(tái)的輔助支撐針支撐基板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖12是本專利技術(shù)第二實(shí)施例的溫控臺(tái)系統(tǒng)的溫控臺(tái)的支撐針支撐基板的結(jié)構(gòu)示意圖；圖13是本專利技術(shù)第二實(shí)施例的溫控臺(tái)系統(tǒng)的溫控臺(tái)溫度測(cè)量單元的分布示意圖；圖14是本專利技術(shù)第二實(shí)施例的溫控臺(tái)系統(tǒng)的溫控臺(tái)溫度測(cè)量單元和溫度調(diào)節(jié)單元的分布是有圖；圖15是本專利技術(shù)第三實(shí)施例的表面清潔方法的流程圖。具體實(shí)施方式下面將結(jié)合本專利技術(shù)實(shí)施例中的附圖，對(duì)本專利技術(shù)實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本專利技術(shù)一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本專利技術(shù)中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲取的所有其他實(shí)施例，都屬于本專利技術(shù)保護(hù)的范圍。第一實(shí)施例本專利技術(shù)第一實(shí)施例公開(kāi)了一種表面清潔裝置。如圖1～10所示，該表面清潔裝置包括：可沿溫控臺(tái)8的表面移動(dòng)的支架1，連接在支架1上的噴頭2，以及向噴頭2輸送氣體的氣體輸入單元。例如，該支架1具體可由兩個(gè)支撐桿組成。每一支撐桿設(shè)置在溫控臺(tái)8的兩端。本實(shí)施例中，該溫控臺(tái)8的兩端為垂直于支架1的移動(dòng)方向的兩端。噴頭2的兩端分別與兩個(gè)支撐桿連接，則噴頭2的兩端所在的平面平行于噴頭2的移動(dòng)方向。支架1可在軌道3上進(jìn)行移動(dòng)。具體的，該支架1可以向一個(gè)方向移動(dòng)，也可以向兩個(gè)相對(duì)的方向移動(dòng)，如圖3的箭頭所示。該噴頭2設(shè)置在溫控臺(tái)8上方。該噴頭2包括相對(duì)設(shè)置的第一表面和第二表面。噴頭2的第一表面上設(shè)置至少一個(gè)第一出風(fēng)口21。例如，該第一出風(fēng)口21的形狀可以為從噴頭2的一端延伸到另一端的狹長(zhǎng)的條形。該噴頭2上還設(shè)置有進(jìn)氣口25。氣體輸入單元與進(jìn)氣口25連通，通過(guò)進(jìn)氣口25將氣體輸送到噴頭2內(nèi)。例如，進(jìn)氣口25可以設(shè)置在噴頭2的兩端的表本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種表面清潔裝置，其特征在于，包括：可沿溫控臺(tái)的表面移動(dòng)的支架，連接在所述支架上的噴頭，以及向所述噴頭輸送氣體的氣體輸入單元；所述噴頭設(shè)置在所述溫控臺(tái)上方，所述噴頭包括相對(duì)設(shè)置的第一表面和第二表面，所述噴頭的第一表面上設(shè)置至少一個(gè)第一出風(fēng)口；所述噴頭的第二表面上設(shè)置至少一個(gè)第二出風(fēng)口；所述第一出風(fēng)口沿噴頭移動(dòng)方向向所述溫控臺(tái)的表面出風(fēng)；所述第二出風(fēng)口沿噴頭移動(dòng)方向向基板的表面出風(fēng)。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種表面清潔裝置，其特征在于，包括：可沿溫控臺(tái)的表面移動(dòng)的支架，連接在所述支架上的噴頭，以及向所述噴頭輸送氣體的氣體輸入單元；所述噴頭設(shè)置在所述溫控臺(tái)上方，所述噴頭包括相對(duì)設(shè)置的第一表面和第二表面，所述噴頭的第一表面上設(shè)置至少一個(gè)第一出風(fēng)口；所述噴頭的第二表面上設(shè)置至少一個(gè)第二出風(fēng)口；所述第一出風(fēng)口沿噴頭移動(dòng)方向向所述溫控臺(tái)的表面出風(fēng)；所述第二出風(fēng)口沿噴頭移動(dòng)方向向基板的表面出風(fēng)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括：設(shè)置在所述噴頭內(nèi)部的高壓放電單元，所述高壓放電單元將所述氣體輸入單元輸入的氣體離子化后輸入第一出風(fēng)口和第二出風(fēng)口。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于：所述噴頭的第一表面上設(shè)置至少一個(gè)第一吸附口；所述噴頭的第二表面上設(shè)置至少一個(gè)第二吸附口。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，還包括：至少一個(gè)吸附單元，至少一個(gè)所述吸附單元用于設(shè)置在所述溫控臺(tái)的與所述噴頭的移動(dòng)方向同向的一側(cè)，吸附所述第一出風(fēng)口和所述第二出風(fēng)口去除的顆粒物。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于：所述第一出風(fēng)口與所述噴頭的第一表面的自由端之間隔有第一距離，所述噴頭的第一表面的自由端為與所述噴頭的移動(dòng)方向同向的一端；所述第二出風(fēng)口與所述噴頭的第二表面的自由端之間隔有第二距離，所述噴頭的第二表面的自由端為與所述噴頭的移動(dòng)方向同向的一端。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的裝置，其特征在于：所述噴頭的第一表面上設(shè)置有至少一條與所述噴頭的移動(dòng)方向平行的第一導(dǎo)流槽，所述第一導(dǎo)流槽的一端延伸到所述第一出風(fēng)口處，所述第一導(dǎo)流槽的另一端延伸到所述溫控臺(tái)的第一表面的自由端；所述噴頭的第二表面上設(shè)置有至少一條與所述噴頭的移動(dòng)方向平行的第二導(dǎo)流槽，所述第二導(dǎo)流槽的一端延伸到所述第二出風(fēng)口處，所述第二導(dǎo)流槽的另一端延伸到所...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：孫全龍，李志賓，丁秀娟，鄭云蛟，林發(fā)慶，曹振洋，韓俊，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：京東方科技集團(tuán)股份有限公司，鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：北京,11