一種彩膜基板及其制備方法、顯示裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術提供了一種彩膜基板及其制備方法、顯示裝置，涉及顯示技術領域，在原本BM的區域形成色阻的材料和/或透明絕緣材料，通過對其進行黑化處理，以使其變為不透光材料，從而實現防止相鄰色阻發出的光串擾的效果；由于在彩膜基板的原有制程工序中去除了BM工序，可有效解決產品由于彩膜基板中BM剝離而引起的不良問題，提高了產品良品率。該制備方法包括，提供一基板，基板劃分有多個間隔開來的色阻區域和位于相鄰兩個色阻區域之間的間隔區域；在色阻區域內形成色阻圖案，在間隔區域內形成絕緣圖案；絕緣圖案由色阻圖案的材料和/或透明絕緣材料構成；對位于間隔區域內的絕緣材料進行黑化處理，以使間隔區域不透光。

Color film substrate and preparation method and display device thereof

The invention provides a color film substrate and preparation method thereof, display device, relates to the technical field of display, formed in the original color resistance region of BM material and / or transparent insulation material, through the blackening treatment so that it becomes opaque material, thus preventing adjacent color blocking out optical crosstalk effect; the original processes in the color film substrate removal in BM process, which can effectively solve the problem of bad products caused by the colored film substrate BM stripping, improve product yield. The preparation method comprises providing a substrate, the substrate divided into a plurality of spaced apart color resistance region and is located in the interval between two adjacent color resistance region; the formation of color in the color region of resist pattern resistance, insulation pattern is formed on the spacer region; an insulating pattern by color resistance patterns and / or transparent materials made of insulation material; the insulating material is located within the interval blackening treatment so that the interval is not transparent.

【技術實現步驟摘要】
一種彩膜基板及其制備方法、顯示裝置
本專利技術涉及顯示
，尤其涉及一種彩膜基板及其制備方法、顯示裝置。
技術介紹
彩膜基板(ColorFilter，簡稱為CF)是顯示面板中的重要組成之一，從液晶層透過的背光或從有機電致發光器件發出的白光透過彩膜基板上陣列排布的紅、綠、藍等顏色的色阻，從而發出紅、綠、藍等各種顏色的光，以實現顯示面板的彩色顯示。為了防止從相鄰顏色的色阻透射出的光發生串擾，彩膜基板上通常設置有黑矩陣(BlackMatrix，簡稱為BM)，黑矩陣上形成有陣列排布的間隔開來的多個鏤空區域，相鄰顏色的色阻涂覆在黑矩陣的鏤空區域內，以實現防串擾的目的。然而，由于BM材料與彩膜基板的襯底之間黏附性較弱，容易發生剝離(Peeloff)問題，影響顯示面板的正常顯示。例如，在液晶顯示面板中BM材料剝離后會出現液晶盒內的氣泡不良(Bubble)。
技術實現思路
鑒于此，為解決現有技術的問題，本專利技術的實施例提供一種彩膜基板及其制備方法、顯示裝置，在原本BM的區域形成色阻的材料和/或透明絕緣材料，通過對色阻的材料和/或透明絕緣材料進行黑化處理，以使其變為不透光材料，從而實現防止相鄰色阻發出的光串擾的效果；由于在彩膜基板的原有制程工序中去除了BM工序，可有效解決產品由于彩膜基板中BM剝離而引起的不良問題，提高了產品良品率。為達到上述目的，本專利技術的實施例采用如下技術方案：第一方面、本專利技術實施例提供了一種彩膜基板的制備方法，所述制備方法包括，提供一基板，所述基板劃分有多個間隔開來的色阻區域和位于相鄰兩個色阻區域之間的間隔區域；所述制備方法包括，在所述色阻區域內形成色阻圖案，在所述間隔區域內形成絕緣圖案；其中，所述絕緣圖案由所述色阻圖案的材料和/或透明絕緣材料構成；對位于所述間隔區域內的所述絕緣材料進行黑化處理，以使所述間隔區域不透光。可選的，所述對位于所述間隔區域內的所述絕緣材料進行黑化處理，以使所述間隔區域不透光的步驟，包括，通過掩膜板，采用激光灼燒、紫外曝光、碳化處理和離子摻雜中的任一種方法對所述間隔區域內的所述色阻圖案的材料和/或所述透明絕緣材料進行處理，以使所述色阻圖案的材料和/或所述透明絕緣材料轉變為不透光材料；其中，所述掩膜板的透過區域露出所述絕緣圖案，所述掩膜板的不透過區域遮擋住所述色阻圖案。作為一種可選的方式，所述在所述色阻區域內形成色阻圖案，在所述間隔區域內形成絕緣圖案；其中，所述絕緣圖案由所述色阻圖案的材料和/或透明絕緣材料構成；對位于所述間隔區域內的所述絕緣材料進行黑化處理，以使所述間隔區域不透光的步驟，包括，在所述色阻區域內形成色阻圖案，在所述間隔區域內形成具有預設厚度的絕緣圖案；所述絕緣圖案由所述色阻圖案的材料或透明絕緣材料構成；對所述絕緣圖案進行黑化處理，以使所述色阻圖案的材料或所述透明絕緣材料轉變為不透光材料。作為一種可選的方式，所述絕緣圖案包括，層疊設置的第一絕緣圖案和第二絕緣圖案；所述在所述色阻區域內形成色阻圖案，在所述間隔區域內形成絕緣圖案；其中，所述絕緣圖案由所述色阻圖案的材料和/或透明絕緣材料構成；對位于所述間隔區域內的所述絕緣材料進行黑化處理，以使所述間隔區域不透光的步驟，包括，在所述色阻區域內形成色阻圖案，在所述間隔區域內形成具有預設厚度的第一絕緣圖案；所述第一絕緣圖案由所述色阻圖案的材料或透明絕緣材料構成；形成覆蓋所述色阻圖案和所述第一絕緣圖案的保護層；其中，所述保護層覆蓋所述第一絕緣圖案的部分為第二絕緣圖案；所述保護層由透明絕緣材料構成；對所述第二絕緣圖案進行黑化處理，以使所述保護層的材料轉變為不透光材料。作為一種可選的方式，所述絕緣圖案包括，層疊設置的第一絕緣圖案、第二絕緣圖案和隔墊物的圖案；所述在所述色阻區域內形成色阻圖案，在所述間隔區域內形成絕緣圖案；其中，所述絕緣圖案由所述色阻圖案的材料和/或透明絕緣材料構成；對位于所述間隔區域內的所述絕緣材料進行黑化處理，以使所述間隔區域不透光的步驟，包括，在所述色阻區域內形成色阻圖案，在所述間隔區域內形成具有預設厚度的第一絕緣圖案；所述第一絕緣圖案由所述色阻圖案的材料或透明絕緣材料構成；形成覆蓋所述色阻圖案和所述第一絕緣圖案的保護層；其中，所述保護層覆蓋所述第一絕緣圖案的部分為第二絕緣圖案；在所述第二絕緣圖案上形成隔墊物；所述隔墊物由透明絕緣材料構成；對所述隔墊物進行黑化處理，以使所述隔墊物的材料轉變為不透光材料。作為一種可選的方式，所述在所述色阻區域內形成色阻圖案，在所述間隔區域內形成絕緣圖案；其中，所述絕緣圖案由所述色阻圖案的材料和/或透明絕緣材料構成；對位于所述間隔區域內的所述絕緣材料進行黑化處理，以使所述間隔區域不透光的步驟，包括，將所述間隔區域空缺出來，在所述色阻區域內形成間隔設置的色阻圖案；形成覆蓋所述色阻圖案和所述間隔區域的保護層；其中，所述保護層在覆蓋所述間隔區域內的部分為絕緣圖案，所述絕緣圖案具有預設厚度；所述保護層由透明絕緣材料構成；對所述絕緣圖案進行黑化處理，以使所述保護層的材料轉變為不透光材料。作為一種可選的方式，所述絕緣圖案包括，層疊設置的第一絕緣圖案和隔墊物的圖案；所述在所述色阻區域內形成色阻圖案，在所述間隔區域內形成絕緣圖案；其中，所述絕緣圖案由所述色阻圖案的材料和/或透明絕緣材料構成；對位于所述間隔區域內的所述絕緣材料進行黑化處理，以使所述間隔區域不透光的步驟，包括，將所述間隔區域空缺出來，在所述色阻區域內形成間隔設置的色阻圖案；形成覆蓋所述色阻圖案和所述間隔區域的保護層；所述保護層在覆蓋所述間隔區域內的部分為第一絕緣圖案；在所述第一絕緣圖案上形成具有預設厚度的隔墊物；其中，所述隔墊物由透明絕緣材料構成；對所述隔墊物進行黑化處理，以使所述隔墊物的材料轉變為不透光材料。第二方面、本專利技術實施例提供了一種彩膜基板，包括基板，所述基板劃分有多個間隔開來的色阻區域和位于相鄰兩個色阻區域之間的間隔區域；所述彩膜基板還包括，設置在所述色阻區域內的間隔開來的色阻圖案；所述彩膜基板還包括，設置在所述間隔區域內的絕緣圖案；其中，所述絕緣圖案由所述色阻圖案的材料和/或透明絕緣材料經黑化處理轉變為不透光材料構成。優選的，所述彩膜基板還包括覆蓋所述基板的保護層和設置在所述保護層上的隔墊物；在所述絕緣圖案包括有由透明絕緣材料經黑化處理轉變為不透光材料構成的情況下，所述透明絕緣材料為所述保護層位于所述間隔區域內的部分和/或位于所述間隔區域上方的所述隔墊物。第三方面、本專利技術實施例提供了一種顯示裝置，包括上述的彩膜基板。基于此，通過本專利技術實施例提供的上述制備方法，通過對形成在間隔區域內的色阻圖案的材料和/或透明絕緣材料進行黑化處理，以使其變為不透光材料，從而實現防止相鄰色阻發出的光串擾的效果；由于在彩膜基板的原有制程工序中去除了BM工序，可有效解決產品由于彩膜基板中BM剝離而引起的不良問題，提高了產品良品率。附圖說明為了更清楚地說明本專利技術實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本專利技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本專利技術實施例提供的一種彩膜基板的制備方法流本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種彩膜基板的制備方法，所述制備方法包括，提供一基板，所述基板劃分有多個間隔開來的色阻區域和位于相鄰兩個色阻區域之間的間隔區域；其特征在于，所述制備方法包括，在所述色阻區域內形成色阻圖案，在所述間隔區域內形成絕緣圖案；其中，所述絕緣圖案由所述色阻圖案的材料和/或透明絕緣材料構成；對位于所述間隔區域內的所述絕緣材料進行黑化處理，以使所述間隔區域不透光。

【技術特征摘要】
1.一種彩膜基板的制備方法，所述制備方法包括，提供一基板，所述基板劃分有多個間隔開來的色阻區域和位于相鄰兩個色阻區域之間的間隔區域；其特征在于，所述制備方法包括，在所述色阻區域內形成色阻圖案，在所述間隔區域內形成絕緣圖案；其中，所述絕緣圖案由所述色阻圖案的材料和/或透明絕緣材料構成；對位于所述間隔區域內的所述絕緣材料進行黑化處理，以使所述間隔區域不透光。2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述對位于所述間隔區域內的所述絕緣材料進行黑化處理，以使所述間隔區域不透光的步驟，包括，通過掩膜板，采用激光灼燒、紫外曝光、碳化處理和離子摻雜中的任一種方法對所述間隔區域內的所述色阻圖案的材料和/或所述透明絕緣材料進行處理，以使所述色阻圖案的材料和/或所述透明絕緣材料轉變為不透光材料；其中，所述掩膜板的透過區域露出所述絕緣圖案，所述掩膜板的不透過區域遮擋住所述色阻圖案。3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述在所述色阻區域內形成色阻圖案，在所述間隔區域內形成絕緣圖案；其中，所述絕緣圖案由所述色阻圖案的材料和/或透明絕緣材料構成；對位于所述間隔區域內的所述絕緣材料進行黑化處理，以使所述間隔區域不透光的步驟，包括，在所述色阻區域內形成色阻圖案，在所述間隔區域內形成具有預設厚度的絕緣圖案；所述絕緣圖案由所述色阻圖案的材料或透明絕緣材料構成；對所述絕緣圖案進行黑化處理，以使所述色阻圖案的材料或所述透明絕緣材料轉變為不透光材料。4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述絕緣圖案包括，層疊設置的第一絕緣圖案和第二絕緣圖案；所述在所述色阻區域內形成色阻圖案，在所述間隔區域內形成絕緣圖案；其中，所述絕緣圖案由所述色阻圖案的材料和/或透明絕緣材料構成；對位于所述間隔區域內的所述絕緣材料進行黑化處理，以使所述間隔區域不透光的步驟，包括，在所述色阻區域內形成色阻圖案，在所述間隔區域內形成具有預設厚度的第一絕緣圖案；所述第一絕緣圖案由所述色阻圖案的材料或透明絕緣材料構成；形成覆蓋所述色阻圖案和所述第一絕緣圖案的保護層；其中，所述保護層覆蓋所述第一絕緣圖案的部分為第二絕緣圖案；所述保護層由透明絕緣材料構成；對所述第二絕緣圖案進行黑化處理，以使所述保護層的材料轉變為不透光材料。5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述絕緣圖案包括，層疊設置的第一絕緣圖案、第二絕緣圖案和隔墊物的圖案；所述在所述色阻區域內形成色阻圖案，在所述間隔區域內形成絕緣圖案；其中，所述絕緣圖案由所述色阻圖案的材料和/或透明絕緣材料構成；對位于所述間隔區域內的所述絕緣材料進行黑化處理，以使所述間隔區域不透...

【專利技術屬性】
技術研發人員：林海云，趙清輝，李東朝，杜楠楠，董廷澤，李京鵬，
申請(專利權)人：京東方科技集團股份有限公司，北京京東方光電科技有限公司，
類型：發明
國別省市：北京,11