本發明專利技術提供一種顯示面板，包括圖像顯示區和圍繞在所述圖像顯示區域外圍的空白區，在所述圖像顯示區和空白區之間，沿所述圖像顯示區的外圍邊緣設有無顯示功能的啞圖案區。本發明專利技術還提供一種顯示面板的制造方法和平板顯示裝置。本發明專利技術由于在圖像顯示區的外圍邊緣增設了啞圖案區，由啞圖案區來承受LoadingEffect的影響，保證圖像顯示區免受LoadingEffect的影響，所顯示的圖案均正常、均一。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及圖像顯示領域，尤其涉及一種顯示面板及其制造方法、平板顯示裝置。
技術介紹
光刻制程在平板顯示器的制造中至關重要，主要步驟為“薄膜沉積一光阻涂布一曝光一光阻顯影一薄膜蝕刻一光阻剝離”。一般情況下，“光阻顯影”是使用液態的顯影液進行，而金屬(合金)層的“薄膜蝕刻”是使用液態的蝕刻液進行，均為所謂的“濕制程”。在“濕制程”中，基板表面的薄膜圖案會影響溶液中藥劑的局部濃度，即如果某處需要顯影的光阻面積或需要蝕刻的金屬(合金)面積大，則該處消耗的藥劑多；反之，如果某處需要顯影的光阻面積或需要蝕刻的金屬(合金)面積小，則該處消耗的藥劑少。溶液普遍存在擴散作用，自發地傾向于保持各處濃度相等。因此當基板表面的薄膜圖案差異很大時，顯影或蝕刻時會出現藥劑從高濃度區向低濃度區的擴散，從而導致圖案邊界區的顯影或蝕刻效果與中心區明顯不同。這種效應被稱為“負載效應”(Loading Effect)。下面以液晶面板的像素電極層的光阻顯影制程為例，說明Loading Effect對普通液晶面板的圖像顯示區域(AA區)邊緣的不利影響。圖I所示為現有普通液晶面板的像素電極層的設計，面板中心為AA區1，需要顯影的光阻面積小；AA區外大部分為空白區2，需要顯影的光阻面積大。從圖I中選取AA區I的邊緣區域A’處放大來看，內側設計為正常像素區3，具有整齊的ITO (銦錫氧化物)電極陣列，外側設計為空白區(無ITO電極陣列)4。然而由于Loading Effect的影響，實際光阻顯影制程不能實現上述理想設計，實際結果如圖2所示。同樣，從圖2中選取AA區I的邊緣區域A’處放大來看，靠近空白區4的邊緣區5將會由于光阻顯影不充分而出現圖案異常，但越靠內側的像素異常程度將越輕，足夠靠內的正常像素區3就能實現理想設計。LoadingEffect影響光阻顯影的具體過程為在顯影制程開始時刻，AA區I緩慢消耗了少量的顯影齊U，而空白區2迅速消耗了大量的顯影劑，濃度差導致AA區I的顯影劑整體向空白區2擴散。從AA區I的邊緣區域A’處看，邊緣區5的顯影液濃度呈明顯的梯度衰減，越靠近空白區4的顯影液濃度越低；在顯影制程的后續時間里，邊緣區5的顯影能力呈梯度降低，越靠近空白區4的像素的光阻顯影程度越弱。Loading Effect使邊緣區5的光阻顯影程度減弱，必然導致其蝕刻制程后圖案異常(主要表現為不能蝕刻出圖案或者圖案粗大)。邊緣區5由于出現圖案異常，會造成圖像顯示缺陷，不僅其亮度、視角、響應時間等重要指標均有別于正常像素區3，而且還會影響正常像素區3的充放電特性，因此必須設法消除。
技術實現思路
本專利技術所要解決的技術問題在于，提供一種顯示區域所顯示圖案保持正常、均一的一種顯示面板及其制造方法、平板顯示裝置。為了解決上述技術問題，本專利技術提供一種顯示面板，包括圖像顯示區和圍繞在所述圖像顯示區域外圍的空白區，在所述圖像顯示區和空白區之間，沿所述圖像顯示區的外圍邊緣設有無顯示功能的啞圖案區。進一步地，在所述顯示面板的濕制程中，所述啞圖案區與所述圖像顯示區相接處的溶液濃度和所述圖像顯示區的溶液濃度大致相同，所述啞圖案區的溶液濃度自所述相接處向所述空白區遞減。進一步地，所述圖像顯示區域的溶液濃度維持不變。進一步地，所述圖像顯示區、空白區和啞圖案區設于所述顯示面板中使用濕制程進行顯影或蝕刻的圖層，所述圖層包括像素電極層、第一金屬層或第二金屬層。進一步地，所述圖像顯示區、空白區和啞圖案區設于所述像素電極層，所述啞圖案區包括若干啞像素。 本專利技術實施例還提供一種顯示面板的制造方法，包括步驟 設置圖像顯示區和圍繞在所述圖像顯示區域外圍的空白區； 在所述圖像顯示區和空白區之間，沿所述圖像顯示區的外圍邊緣設置無顯示功能的啞圖案區。進一步地，設直所述啞圖案區滿足以下條件 在所述顯示面板的濕制程中，所述啞圖案區與所述圖像顯示區相接處的溶液濃度和所述圖像顯示區的溶液濃度大致相同，而所述啞圖案區上的溶液濃度自所述相接處向所述空白區遞減。進一步地，所述圖像顯示區、空白區和啞圖案區設于所述顯示面板中使用濕制程進行顯影或蝕刻的圖層，所述圖層包括像素電極層、第一金屬層或第二金屬層。進一步地，所述圖像顯示區、空白區和啞圖案區設于所述像素電極層，所述啞圖案區包括若干啞像素。本專利技術實施例還提供一種平板顯示裝置，包括所述的顯示面板。本專利技術所提供的顯示面板及其制造方法、平板顯示裝置，由于在圖像顯示區的外圍邊緣增設了啞圖案區，由啞圖案區來承受Loading Effect的影響,保證圖像顯示區免受Loading Effect的影響,所顯示的圖案均正常、均一。附圖說明為了更清楚地說明本專利技術實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本專利技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。圖I是現有顯示面板設計示意圖。圖2是現有顯示面板設計實際效果示意圖。圖3是本專利技術實施例的顯示面板設計示意圖。圖4是本專利技術實施例的顯示面板設計實際效果示意圖。具體實施方式下面參考附圖對本專利技術的優選實施例進行描述。本專利技術實施例提供一種顯示面板，包括圖像顯示區和圍繞在所述圖像顯示區域外圍的空白區，在所述圖像顯示區和空白區之間，沿所述圖像顯示區的外圍邊緣設有無顯示功能的啞圖案區(Dummy Pattern)。本專利技術適用于像素電極層、第一金屬層或第二金屬層等使用“濕制程”進行顯影或蝕刻的圖層。為表述方便，以下以像素電極層為例對本專利技術的主要思想進行說明。具體參照圖3-4所示，其中圖3為本專利技術實施例一的顯示面板的像素電極層設計示意圖，圖4為本專利技術實施例一的顯示面板的像素電極層設計效果示意圖。如圖3所示，本專利技術實施例一的顯示面板包括圖像顯示區域I (AA區)、圍繞在顯示區域I外圍的空白區域2，以及在圖像顯示區域I和空白區域2之間、沿圖像顯示區域I的外圍邊緣設置的無顯示功能的啞圖案區域6。從圖3中選取AA區I的邊緣區域A處放大 來看，啞圖案區6包括若干啞像素7，啞像素7的圖案設計可以和正常像素區3的像素完全相同，也可以根據情況調整。啞像素7沒有電學、光學功用，不接入驅動信號，因此不會影響正常像素區3的充放電，也不會增加驅動電路的負荷。下面以顯影制程為例說明本專利技術實施例一的顯示面板是如何實現顯示區域正常顯示圖案，不受Loading Effect影響的。在顯影制程開始時，AA區I緩慢消耗了少量的顯影劑，而空白區2迅速消耗了大量的顯影劑，濃度差導致AA區I的顯影劑整體向空白區2擴散。與圖I所示現有設計不同，由于本專利技術實施例一的顯示面板在AA區I的邊緣增設了啞圖案區6,受Loading Effect影響，啞圖案區6的顯影液濃度自內向外(自正常像素區3向空白區4呈明顯的梯度衰減，越靠近空白區4的顯影液濃度越低；也就是說，啞圖案區6與AA區I相接處的顯影液濃度大致與AA區I上的顯影液濃度相同，而啞圖案區域6的顯影液濃度自該相接處向空白區域2遞減。在顯影制程的后續時間里，啞圖案區6的顯影能力呈梯度降低，越靠近空白區4的像素的光阻顯影程度越弱。實際制備出來的面板將如圖4所示。從圖4中選取AA區I的邊緣區域A處放大本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種顯示面板，包括圖像顯示區和圍繞在所述圖像顯示區域外圍的空白區，其特征在于，在所述圖像顯示區和空白區之間，沿所述圖像顯示區的外圍邊緣設有無顯示功能的啞圖案區。
【技術特征摘要】
1.一種顯示面板，包括圖像顯示區和圍繞在所述圖像顯示區域外圍的空白區，其特征在于，在所述圖像顯示區和空白區之間，沿所述圖像顯示區的外圍邊緣設有無顯示功能的啞圖案區。2.根據權利要求I所述的顯示面板，其特征在于，在所述顯示面板的濕制程中，所述啞圖案區與所述圖像顯示區相接處的溶液濃度和所述圖像顯示區的溶液濃度大致相同，所述啞圖案區的溶液濃度自所述相接處向所述空白區遞減。3.根據權利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述圖像顯示區域的溶液濃度維持不變。4.根據權利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述圖像顯示區、空白區和啞圖案區設于所述顯示面板中使用濕制程進行顯影或蝕刻的圖層，所述圖層包括像素電極層、第一金屬層或第二金屬層。5.根據權利要求4所述的顯示面板，其特征在于，所述圖像顯示區、空白區和啞圖案區設于所述像素電極層，所述啞圖案區包括若干啞像素。6.一種顯示面板的制造...
【專利技術屬性】
技術研發人員：鄭華，陳世烽，林沛，林明文，吳良東，高攀，陳上潘，潘龍，
申請(專利權)人：深圳市華星光電技術有限公司，
類型：發明
國別省市：
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。