本實用新型專利技術涉及一種具有紋理的抗污染中空纖維膜，包括中空纖維膜絲，所述中空纖維膜絲的外壁上印刻有規則紋理凹槽，規則紋理凹槽的深度為0.02-0.5mm。本實用新型專利技術的具有紋理的抗污染中空纖維膜結構簡單，通過在中空纖維膜絲的外壁上設置規則紋理凹槽可以增加膜絲外壁的粗糙度，增強膜絲的抗污染性能，延長了中空纖維膜使用壽命。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）
【技術實現步驟摘要】
本技術涉及ー種具有紋理的抗污染中空纖維膜。
技術介紹
隨著膜分離技術的廣泛應用，膜污染成為亟待解決的問題。膜污染是由處理物料中的粒子吸附沉積在膜表面堵塞膜孔造成的。研究人員在改善有機高分子分離膜的抗污染性能方面做了大量的工作。其中絕大部分工作的研究方向是改善膜材料的親水性，而通過改變膜表面形態增強抗污染性能的研究很少，在實際研究過程中專家發現通過增大膜絲 的粗糙度，可以增強物料在膜表面的擾動，粒子不易發生吸附沉積，從而可以增強膜絲的抗污染性能。基于上述研究成果，本技術提供ー種具有紋理的中空纖維膜，通過規則紋理増加膜絲外壁的粗糙度，從而達到抗污染的目的。
技術實現思路
為解決上述技術問題，本技術提供ー種結構簡單、使用方便的具有紋理的抗污染中空纖維膜，具有很好的抗污染性能。本技術的具有紋理的抗污染中空纖維膜，包括中空纖維膜絲，所述中空纖維膜絲的外壁上印刻有規則紋理凹槽，規則紋理凹槽的深度為O. 02-0. 5mm。本技術的具有紋理的抗污染中空纖維膜，所述中空纖維膜絲為聚砜、聚醚砜、聚偏氟こ烯、聚氯こ烯或聚丙烯腈中空纖維膜絲。本技術的具有紋理的抗污染中空纖維膜，所述規則紋理凹槽為左旋或右旋的單向螺紋，單向螺紋的導程為2-40mm。本技術的具有紋理的抗污染中空纖維膜，所述規則紋理凹槽由左旋螺紋和右旋螺紋相互交叉構成，左旋螺紋和右旋螺紋的導程均為2-40mm。本技術的具有紋理的抗污染中空纖維膜，所述規則紋理凹槽為均勻分別在中空纖維膜絲外壁上的若干環形凹槽，相鄰兩個環形凹槽之間的間距為O. 5-40mm。本技術的具有紋理的抗污染中空纖維膜，所述規則紋理凹槽由相互交叉的左旋螺紋和右旋螺紋以及均勻設置在中空纖維膜絲外壁上的若干豎直凹槽構成，左旋螺紋和右旋螺紋的導程均為2-40mm，相鄰兩個豎直凹槽之間的間距為O. 5_3mm。與現有技術相比本技術的有益效果為本技術的具有紋理的抗污染中空纖維膜結構簡單，通過在中空纖維膜絲的外壁上設置規則紋理凹槽可以増加膜絲外壁的粗糙度，增強膜絲的抗污染性能，延長了中空纖維膜使用壽命。附圖說明圖I是本技術實施例I所述的ー種具有紋理的抗污染中空纖維膜的結構示意圖；圖2是本技術實施例2所述的ー種具有紋理的抗污染中空纖維膜的結構示意圖；圖3是本技術實施例3所述的ー種具有紋理的抗污染中空纖維膜的結構示意圖；圖4是本技術實施例4所述的ー種具有紋理的抗污染中空纖維膜的結構示意圖。圖中I、中空纖維膜絲；2、規則紋理凹槽。具體實施方式以下結合附圖和實施例，對本技術的具體實施方式作進ー步詳細描述。以下實施例用于說明本技術，但不用來限制本技術的范圍。實施例I如圖I所示，ー種具有紋理的抗污染中空纖維膜，包括中空纖維膜絲1，所述中空纖維膜絲I的外壁上印刻有規則紋理凹槽2，規則紋理凹槽2的深度為O. 02-0. 5mm。本技術的具有紋理的抗污染中空纖維膜，所述中空纖維膜絲I為聚砜、聚醚砜、聚偏氟こ烯、聚氯こ烯或聚丙烯腈中空纖維膜絲，中空纖維膜絲I可以是微濾膜或者超濾膜。本技術的具有紋理的抗污染中空纖維膜，所述規則紋理凹槽2為左旋或右旋的單向螺紋，單向螺紋的導程為2-40mm。實施例2如圖2所示，與實施例I不同之處在于所述規則紋理凹槽2由左旋螺紋和右旋螺紋相互交叉構成，左旋螺紋和右旋螺紋的導程均為2-40mm。實施例3如圖3所示，與實施例I不同之處在于所述規則紋理凹槽2為均勻分別在中空纖維膜絲外壁上的若干環形凹槽，相鄰兩個環形凹槽之間的間距為O. 5-40mm。實施例4如圖4所示，與實施例I不同之處在于所述規則紋理凹槽2由相互交叉的左旋螺紋和右旋螺紋以及均勻設置在中空纖維膜絲外壁上的若干豎直凹槽構成，左旋螺紋和右旋螺紋的導程均為2-40mm，相鄰兩個豎直凹槽之間的間距為O. 5_3mm。本技術的具有紋理的抗污染中空纖維膜結構簡單，通過在中空纖維膜絲的外壁上設置規則紋理凹槽可以増加膜絲外壁的粗糙度，增強膜絲的抗污染性能，延長了中空纖維膜使用壽命。以上所述僅是本技術的優選實施方式，應當指出，對于本
的普通技術人員來說，在不脫離本技術技術原理的前提下，還可以做出若干改進和變型，這些改進和變型也應視為本技術的保護范圍。權利要求1.ー種具有紋理的抗污染中空纖維膜，包括中空纖維膜絲(1)，其特征在于所述中空纖維膜絲(I)的外壁上印刻有規則紋理凹槽(2)，規則紋理凹槽(2)的深度為O. 02-0. 5mm,。2.根據權利要求I所述的具有紋理的抗污染中空纖維膜，其特征在于所述中空纖維膜絲(I)為聚砜、聚醚砜、聚偏氟こ烯、聚氯こ烯或聚丙烯腈中空纖維膜絲。3.根據權利要求I所述的具有紋理的抗污染中空纖維膜，其特征在于所述規則紋理凹槽(2)為左旋或右旋的單向螺紋，單向螺紋的導程為2-40mm。4.根據權利要求I所述的具有紋理的抗污染中空纖維膜，其特征在于所述規則紋理凹槽(2)由左旋螺紋和右旋螺紋相互交叉構成，左旋螺紋和右旋螺紋的導程均為2-40mm。5.根據權利要求I所述的具有紋理的抗污染中空纖維膜，其特征在于所述規則紋理凹槽(2)為均勻分別在中空纖維膜絲外壁上的若干環形凹槽，相鄰兩個環形凹槽之間的間距為 O. 5_40mm。6.根據權利要求I所述的具有紋理的抗污染中空纖維膜，其特征在于所述規則紋理凹槽(2)所述規則紋理凹槽由相互交叉的左旋螺紋和右旋螺紋以及均勻設置在中空纖維膜絲外壁上的若干豎直凹槽構成，左旋螺紋和右旋螺紋的導程均為2-40mm，相鄰兩個豎直凹槽之間的間距為O. 5-3mm。專利摘要本技術涉及一種具有紋理的抗污染中空纖維膜，包括中空纖維膜絲，所述中空纖維膜絲的外壁上印刻有規則紋理凹槽，規則紋理凹槽的深度為0.02-0.5mm。本技術的具有紋理的抗污染中空纖維膜結構簡單，通過在中空纖維膜絲的外壁上設置規則紋理凹槽可以增加膜絲外壁的粗糙度，增強膜絲的抗污染性能，延長了中空纖維膜使用壽命。文檔編號B01D71/68GK202638291SQ20122031682公開日2013年1月2日 申請日期2012年6月29日 優先權日2012年6月29日專利技術者陳亦力, 孟莎莎, 薛濤, 代攀, 李鎖定, 胡海霞 申請人:北京碧水源膜科技有限公司本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種具有紋理的抗污染中空纖維膜，包括中空纖維膜絲（1），其特征在于：所述中空纖維膜絲（1）的外壁上印刻有規則紋理凹槽（2），規則紋理凹槽（2）的深度為0.02？0.5mm，。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：陳亦力，孟莎莎，薛濤，代攀，李鎖定，胡海霞，
申請(專利權)人：北京碧水源膜科技有限公司，
類型：實用新型
國別省市：
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