【技術實現步驟摘要】
本技術涉及一種機械制造領域的機械結構，尤其是適用于一種可調整真空度的真空鍍膜機。
技術介紹
真空鍍膜機鍍氧化物材料時，需往真空腔體內通入適量的反應氣體，同時需要將真空腔體的真空度控制在一定水平，以達到最佳的鍍膜條件。由于真空腔體與低溫泵相連，通入的反應氣體部分被低溫泵吸收，若要降低真空度則需加大通入的反應氣體，從而導致低溫泵吸收的氣體過多，引起低溫泵冷端飽和，降低了低溫泵的使用周期。
技術實現思路
為了克服現有技術中真空鍍膜機鍍氧化物材料時低溫泵吸入氣體過多導致其使·用周期降低的問題，本技術提供一種在控制反應氣體通入量的同時能控制進入低溫泵的氣體量的可調整真空度的真空鍍膜機。本技術采用的技術方案是一種可調整真空度的真空鍍膜機，包括真空腔體和低溫泵，其特征在于還包括可控制開口度的插板閥，所述插板閥包括閥體和閥板，所述閥體和閥板密封連接，所述閥體的一端與所述真空腔體固定連接，另一端與所述低溫泵的冷端固定連接。進一步，所述真空腔體與所述插板閥之間設有冷井。將真空腔體的真空規信號通過工控機信號處理后，控制插板閥的開口度。在抽真空時，將插板閥開啟到最大位置，以使真空腔體在最快時間內達到所要求的真空度。當需要進行氧化物材料的蒸鍍時，工控機控制質量流量控制器通入適量的反應氣體；通過插板閥的開口度控制真空腔體內的真空度。既保證了反應氣體的量，又保證了真空度，而低溫泵的使用周期也沒有受到影響。本技術的有益效果體現在在保證工作效率的情況下，可以將真空腔體的真空度控制在一定范圍，而不影響低溫泵的使用周期；由于鍍膜條件一致，使鍍膜參數保持穩定。附圖說明圖I是本技術真空鍍膜機的整體結...
【技術保護點】
一種可調整真空度的真空鍍膜機，包括真空腔體和低溫泵，其特征在于：還包括可控制開口度的插板閥，所述插板閥包括閥體和閥板，所述閥體和閥板密封連接，所述閥體的一端與所述真空腔體固定連接，另一端與所述低溫泵的冷端固定連接。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：劉黎明，陳軍，關永卿，洪婧，陳虹飛，田俊杰，汪文忠，鄧鳳林，鄭棟，將衛金，趙山泉，
申請(專利權)人：杭州大和熱磁電子有限公司，
類型：實用新型
國別省市：
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