一種基板清洗設備及基板清洗系統技術方案

本發明專利技術實施例提供一種基板清洗設備及基板清洗系統，涉及顯示器制造領域，能夠適應性通過補液單元向清洗單元補給清洗液，節省清洗液，縮短基板清洗設備重置的時間，避免流水線上由于兩臺基板清洗設備同時重置而引起的死機問題。該基板清洗設備包括相互連通的清洗單元和補液單元；設置于清洗單元和補液單元之間的，用于控制液體流動的補液控制裝置；與補液控制裝置連接，控制補液控制裝置動作的控制器。其中，清洗單元，用于存儲清洗液對所述基板進行清洗；補液單元，用于存儲清洗液向所述清洗單元補充清洗液；控制器，通過控制補液控制裝置的動作，控制清洗液在所述補液單元和所述清洗單元之間的流動。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及顯示器制造領域，尤其涉及一種基板清洗設備及基板清洗系統。
技術介紹
在TFT-LCD (Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶體管液晶顯示器)的制造過程中，清洗設備需要對進行光刻技術前的基板(即涂覆光刻膠之前的基板)進行清洗，以去除基板表面的雜質。當前基板清洗的過程中，往往采用兩臺基板清洗設備交替工作的方式進行基板清洗。在兩臺基板清洗設備上分別設定好清洗周期、清洗數量后，兩臺設備輪流定時進行重 置。其中，“重置”是指基板清洗設備排出廢液，重新向清洗箱加入清洗液并加熱的過程。清洗液由洗滌劑和水混合而成，清洗液溫度通常需要達到43°C。但是，在實際的基板清洗過程中，第一臺基板清洗設備先進行清洗，基板位于基板清洗設備上面的流水線上，基板清洗設備通過內部設置的抽水裝置將清洗液抽上去，再由基板清洗設備的噴灑裝置向流水線上的基板噴灑清洗液，以清洗基板。隨著流片的進行(“流片”是指基板通過流水線的運輸經過基板清洗設備清洗的過程)，基板會帶走部分清洗液，導致在清洗基板的數量還沒有達到第一臺基板清洗設備預設數量時，清洗液就已經低于液位底線。這時，第一臺基板清洗設備需要將清洗液補充滿并且重新重置。第一臺基板清洗設備進行重置時，第二臺基板清洗設備進行基板清洗。當第一臺基板清洗設備重置完成后，再切換回第一臺基板清洗設備進行基板清洗。這時，由于第一臺基板清洗設備已經清洗了一定數量的基板，因此，當第一臺基板清洗設備達到設定好的清洗數量后，第一臺基板清洗設備會排掉所有的清洗液，補充新的清洗液，這一過程造成了清洗液的極大浪費，同時重置會浪費大量時間。此外，若第一臺基板清洗設備和第二臺基板清洗設備同時重置，就會導致死機，則流水線上沒有基板清洗設備進行工作，影響清洗效率。
技術實現思路
本專利技術的實施例提供一種基板清洗設備及基板清洗系統，能夠適應性通過補液單元向清洗單元補給清洗液，節省清洗液，縮短基板清洗設備重置的時間，避免流水線上由于兩臺基板清洗設備同時重置而引起的死機問題。為達到上述目的，本專利技術的實施例采用如下技術方案—方面，本專利技術實施例提供一種基板清洗設備，包括相互連通的清洗單元和補液單元；設置于所述清洗單元和所述補液單元之間的，用于控制液體流動的補液控制裝置；與所述補液控制裝置連接，控制所述補液控制裝置動作的控制器；其中，所述清洗單元，用于存儲清洗液對所述基板進行清洗；所述補液單元，用于存儲所述清洗液向所述清洗單元補充清洗液；所述控制器，通過控制所述補液控制裝置的動作，控制所述清洗液在所述補液單元和所述清洗單元之間的流動。所述控制器，具體用于當所述清洗單元中所述清洗液的液面高度低于預設高度時，調節所述補液控制裝置，以使得所述補液單元向所述清洗單元補給所述清洗液。所述控制器，具體用于當所述清洗單元中所述清洗液的液面高度低于預設高度時，根據已清洗的基板的數量和預設數量的差值，調節所述補液控制裝置，以使得所述補液單元向所述清洗單元補給相應的所述清洗液。所述控制器還用于，控制所述補液控制裝置，隔斷清洗液在所述清洗單元與補液單元之間的流動。所述清洗單元和所述補液單元腔體相通；所述補液控制裝置包括設置在所述清洗單元和所述補液單元之間的可移動的隔 液門。所述隔液門，具體用于通過所述隔液門的上升或下降，控制所述清洗液在所述補液單元和所述清洗單元之間的流動。所述清洗液是由洗滌劑和水混合而成的。所述基板清洗設備，還包括與所述清洗單元均連接的洗滌劑管道、注水管道、排水管道以及洗液回流管道，其中，所述洗滌劑管道，用于向所述清洗單元和補液單元內注入所述洗滌劑；所述注水管道，用于向所述清洗單元和補液單元內注入所述水；所述排水管道，用于排出所述清洗單元內的所述清洗液；所述洗液回流管道，用于使得進行基板清洗后的所述清洗液回流入所述清洗單J Li ο所述基板清洗設備，還包括設置于所述清洗單元中的第一加熱裝置和第一液位傳感器，其中，所述第一加熱裝置，用于加熱所述清洗單元內的所述清洗液；所述第一液位傳感器，用于檢測所述清洗單元內的所述清洗液的液面高度。所述基板清洗設備，還包括設置于所述補液單元的第二加熱裝置和第二液位傳感器，其中，所述第二加熱裝置，用于加熱所述補液單元內的所述清洗液；所述第二液位傳感器，用于檢測所述補液單元內的所述清洗液的液面高度。一方面，本專利技術實施例提供一種基板清洗系統，包括至少兩臺具有上述任意特征的基板清洗設備。本專利技術實施例所提供的基板清洗設備及基板清洗系統，通過設置相互連通的清洗單元和補液單元，設置于清洗單元和補液單元之間的，用于控制液體流動的補液控制裝置，與補液控制裝置連接，控制補液控制裝置動作的控制器，其中，清洗單元，用于存儲清洗液，補液單元，用于存儲清洗液，控制器，通過控制補液控制裝置的動作，控制清洗液由補液單元流入清洗單元內。通過該方案，由于在清洗單元與補液單元之間設置了補液控制裝置，能夠適應性通過補液單元向清洗單元補給清洗液，節省清洗液，縮短基板清洗設備重置的時間，同時，由于兩臺基板清洗設備都是在清洗完預設數目的基板之后才進行重置，重置時間可控，防止由于補充清洗液發生多次重置，造成兩臺基板清洗設備可能會同時進行重置導致死機，影響設備正常工作。附圖說明為了更清楚地說明本專利技術實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本專利技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。圖I為本專利技術實施例提供的基板清洗設備結構示意圖；圖2為本專利技術實施例提供的基板清洗設備工作流程圖一；圖3為本專利技術實施例提供的基板清洗設備工作流程圖二 ；圖4為本專利技術實施例提供的基板清洗設備工作流程圖三。具體實施例方式下面將結合本專利技術實施例中的附圖，對本專利技術實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本專利技術一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本專利技術中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本專利技術保護的范圍。本專利技術實施例提供一種基板清洗設備，包括相互連通的清洗單元和補液單元；設置于所述清洗單元和所述補液單元之間的，用于控制液體流動的補液控制裝置； 與所述補液控制裝置連接，控制所述補液控制裝置動作的控制器；其中，所述清洗單元，用于存儲清洗液對所述基板進行清洗；所述補液單元，用于存儲所述清洗液向所述清洗單元補充清洗液；所述控制器，通過控制所述補液控制裝置的動作，控制所述清洗液在所述補液單元和所述清洗單元之間的流動。示例性的，本專利技術實施例提供一種基板清洗設備1，如圖I所示，包括相互連通的清洗單元10、補液單元11，設置于清洗單元10與補液單元11之間的，用于控制液體流動的補液控制裝置12，以及與補液控制裝置12連接，控制補液控制裝置動作的控制器13;清洗單元10，用于存儲清洗液對基板進行清洗。進一步地，基板清洗設備1，還包括與該清洗單元10均連接的洗滌劑管道14、注水管道15、排水管道16以及洗液回流管道17，其中，洗滌劑管道14，用于向清洗單元10和補液單元11內注入洗滌劑；注水管道15，用于向清洗單元10本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種基板清洗設備，其特征在于，包括：相互連通的清洗單元和補液單元；設置于所述清洗單元和所述補液單元之間的，用于控制液體流動的補液控制裝置；與所述補液控制裝置連接，控制所述補液控制裝置動作的控制器；其中，所述清洗單元，用于存儲清洗液對所述基板進行清洗；所述補液單元，用于存儲所述清洗液向所述清洗單元補充清洗液；所述控制器，通過控制所述補液控制裝置的動作，控制所述清洗液在所述補液單元和所述清洗單元之間的流動。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：劉聰聰，金相旭，張建政，徐濤，程晉燕，朱建濤，
申請(專利權)人：京東方科技集團股份有限公司，合肥京東方光電科技有限公司，
類型：發明
國別省市：