超細超密空空面料制造技術

本發明專利技術涉及一種超細超密空空面料，屬于紡織面料領域。它包括面料本體（1），面料本體由經線和緯線交織而成，經線和緯線均采用20D/24F全拉伸滌綸細旦絲，且經線和緯線一上一下設置交織成平紋組織單元，所述面料本體（1）的上表面設有外層（2），所述外層（2）呈蓬松狀態，所述外層（2）上設有若干個痕跡線（3），所述痕跡線（3）固定在面料本體（1）上，呈蛇形走向，并沿縱向延伸。蓬松的外層與蛇形的痕跡線塑造了凹凸有致的表面結構，增強了空空面料的層次感，富有新意。且具有自然防水防絨功能。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種面料，屬于紡織面料領域。
技術介紹
傳統的面料表面平平的，沒有新意，層次感差，滿足不了人們的需要。
技術實現思路
本專利技術的目的在于克服上述不足，提供一種富有新意、層次感強的空空面料。·本專利技術的目的是這樣實現的一種超細超密空空面料，包括面料本體，面料本體由經線和緯線交織而成，經線和緯線均采用20D/24F全拉伸滌綸細旦絲，且經線和緯線一上一下設置交織成平紋組織單元，所述面料本體的上表面設有外層，所述外層呈蓬松狀態，所述外層上設有若干個痕跡線，所述痕跡線固定在面料本體上，呈蛇形走向，并沿縱向延伸。與現有技術相比，本專利技術的有益效果是 I、蓬松的外層與蛇形的痕跡線塑造了凹凸有致的表面結構，增強了空空面料的層次感，富有新意。2、具有自然防水防絨功能，特別適宜于運動系列、戶外服的服飾應用。附圖說明圖I為本專利技術超細超密空空面料的結構不意圖。圖2為圖I的A-A剖視圖。其中 面料本體I 外層2 痕跡線3。具體實施例方式參見圖I和圖2，本專利技術涉及一種超細超密空空面料，它包括面料本體1，面料本體由經線和緯線交織而成，經線和緯線均采用20D/24F全拉伸滌綸細旦絲，且經線和緯線一上一下設置交織成平紋組織單元，所述面料本體I的上表面設有外層2，所述外層2呈蓬松狀態。所述外層2上設有若干個痕跡線3，所述痕跡線3固定在面料本體I上，呈蛇形走向，并沿縱向延伸。蓬松的外層2與蛇形的痕跡線3塑造了空空面料表面凹凸有致的結構。權利要求1.一種超細超密空空面料，包括面料本體(I)，其特征在于面料本體由經線和緯線交織而成，經線和緯線均采用20D/24F全拉伸滌綸細旦絲，且經線和緯線一上一下設置交織成平紋組織單元，所述面料本體(I)的上表面設有外層(2 )，所述外層(2 )呈蓬松狀態，所述外層(2 )上設有若干個痕跡線(3 )，所述痕跡線(3 )固定在面料本體(I)上，呈蛇形走向，并沿縱向延伸。全文摘要本專利技術涉及一種超細超密空空面料，屬于紡織面料領域。它包括面料本體(1)，面料本體由經線和緯線交織而成，經線和緯線均采用20D/24F全拉伸滌綸細旦絲，且經線和緯線一上一下設置交織成平紋組織單元，所述面料本體(1)的上表面設有外層(2)，所述外層(2)呈蓬松狀態，所述外層(2)上設有若干個痕跡線(3)，所述痕跡線(3)固定在面料本體(1)上，呈蛇形走向，并沿縱向延伸。蓬松的外層與蛇形的痕跡線塑造了凹凸有致的表面結構，增強了空空面料的層次感，富有新意。且具有自然防水防絨功能。文檔編號D03D15/00GK102899934SQ20111021001公開日2013年1月30日 申請日期2011年7月26日 優先權日2011年7月26日專利技術者李磊, 孫波, 朱紅杰 申請人:江陰市振新毛紡有限公司本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種超細超密空空面料，包括面料本體（1），其特征在于：面料本體由經線和緯線交織而成，經線和緯線均采用20D/24F全拉伸滌綸細旦絲，且經線和緯線一上一下設置交織成平紋組織單元，所述面料本體（1）的上表面設有外層（2），所述外層（2）呈蓬松狀態，所述外層（2）上設有若干個痕跡線（3），所述痕跡線（3）固定在面料本體（1）上，呈蛇形走向，并沿縱向延伸。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：李磊，孫波，朱紅杰，
申請(專利權)人：江陰市振新毛紡有限公司，
類型：發明
國別省市：