清洗方法技術(shù)

清洗方法包括清洗工序，該清洗工序中通過(guò)在從配置于工件（10）上側(cè)及下側(cè)的上噴霧噴嘴（2）及下噴霧噴嘴（4）分別噴射上清洗液（3）及下清洗液（5）的狀態(tài)下，使工件（10）相對(duì)于上下兩噴嘴（2、4）相對(duì)地在水平方向上移動(dòng)，從而用上清洗液（3）清洗工件（10）的上表面（10a）及外周面（10b）中的至少上表面（10a），并且用下清洗液（5）清洗工件（10）的下表面（10c）。在清洗工序中，從上噴嘴（2）及下噴嘴（4）分別噴射上清洗液（3）及下清洗液（5），以使在下清洗液（5）噴到工件（10）的下表面（10c）時(shí)上清洗液（3）必定噴到工件（10）的由上表面（10a）及外周面（10c）構(gòu)成的區(qū)域的至少一部分。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】
本專利技術(shù)涉及清洗感光鼓基體等工件的及清洗裝置。
技術(shù)介紹
在復(fù)印機(jī)、打印機(jī)、傳真裝置等電子照片裝置的感光鼓中使用的筒狀基體、即感光鼓基體是鋁或其合金等金屬制，在其外周面形成有機(jī)感光體層。在基體的軸向各端面的周緣部通過(guò)切削而施行了倒角加工。在該基體中，為了能夠形成良好的有機(jī)感光體層，在有機(jī)感光體層形成前清洗基體的整個(gè)面。通過(guò)該清洗，來(lái)去除在基體上附著的切削屑、油等附著物。作為公開了基體的公知文獻(xiàn)，有例如特開2006-106380號(hào)公報(bào)(專利文·獻(xiàn)I )。在該公報(bào)中，作為基體，采用用從噴霧噴嘴噴射出的清洗液來(lái)清洗基體的噴霧清洗。作為其他的公知文獻(xiàn)，有特開2003-262964號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)2)等。而且，通常在用噴霧來(lái)清洗感光鼓基體等工件的下表面的情況下，用工件支撐部件支撐著工件，從配置于工件下側(cè)的噴霧噴嘴向上噴射清洗液。由此，用下清洗液來(lái)清洗工件的下表面。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :特開2006-106380號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 :特開2003-262964號(hào)公報(bào)
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)要解決的問(wèn)題然而，根據(jù)該，在清洗工件的下表面時(shí)，從下噴嘴噴射出的下清洗液碰到工件的下表面，導(dǎo)致使工件有時(shí)會(huì)從工件支撐部件上浮。于是，難以充分清洗工件的下表面，再有，如果下清洗液沒(méi)有碰到上浮了的工件的下表面則工件因自重而下降并與工件支撐部件碰撞，有可能在工件的下表面造成損傷。本專利技術(shù)鑒于上述
技術(shù)介紹
而研制，其目的在于提供能夠防止在噴霧清洗感光鼓基體等工件的下表面時(shí)工件上浮的情況的及該所使用的清洗裝置。本專利技術(shù)的其他目的及優(yōu)點(diǎn)可從以下的優(yōu)選實(shí)施方式加以明確。用于解決問(wèn)題的技術(shù)方案本專利技術(shù)提供以下的技術(shù)方案。( I) 一種，其特征在于，包括清洗工序，該清洗工序中，通過(guò)在從配置于工件上側(cè)的上噴霧噴嘴向下噴射上清洗液且從配置于工件下側(cè)的下噴霧噴嘴向上噴射下清洗液的狀態(tài)下，使工件相對(duì)于所述上下兩噴嘴相對(duì)地在水平方向上移動(dòng)，從而用所述上清洗液清洗工件的上表面及外周面中的至少上表面，并且用所述下清洗液清洗工件的下表面，在所述清洗工序中，從所述上噴嘴及所述下噴嘴分別噴射所述上清洗液及所述下清洗液，以使在下清洗液噴到工件的下表面時(shí)上清洗液必定噴到工件的由上表面及外周面構(gòu)成的區(qū)域的至少一部分。(2)上述(I)記載的，在俯視時(shí)，所述上噴嘴的配置位置和所述下噴嘴的配置位置錯(cuò)開，在所述清洗工序中，從所述上噴嘴及所述下噴嘴分別噴射所述上清洗液及所述下清洗液，以使上清洗液和下清洗液互不干涉。(3)上述(I)或(2)記載的，從所述上噴嘴噴射的所述上清洗液的平均單位時(shí)間的噴射流量比從所述下噴嘴噴射的所述下清洗液的平均單位時(shí)間的噴射流量大。(4)上述(I廣(3)中任一項(xiàng)記載的，工件是筒狀的且配置為使其軸鉛垂，在所述清洗工序中，用所述上清洗液清洗工件的上表面、外周面及內(nèi)周面，并且用所述下清洗液清洗工件的下表面及內(nèi)周面。 (5)上述(I) (4)中任一項(xiàng)記載的，所述上噴嘴及所述下噴嘴分別包括扁平噴霧噴嘴，在所述清洗工序中，從所述上噴嘴及所述下噴嘴分別扇形膜狀地噴射所述上清洗液及所述下清洗液。(6)上述(5)記載的，在所述清洗工序中，在俯視時(shí)，從所述上噴嘴及所述下噴嘴分別噴射所述上清洗液及所述下清洗液，以使所述上清洗液的噴射擴(kuò)散方向與所述下清洗液的噴射擴(kuò)散方向互相平行。(7)上述(5)或(6)記載的，在俯視時(shí)，工件在所述工件的相對(duì)移動(dòng)方向的正交方向上排列配置多個(gè)，并且在俯視時(shí)，所述上噴嘴和所述下噴嘴在所述工件的相對(duì)移動(dòng)方向的正交方向上交替排列配置多個(gè)。(8)上述(5廣(7)中任一項(xiàng)記載的，在俯視時(shí)，所述上噴嘴配置于所述工件的相對(duì)移動(dòng)區(qū)域的外側(cè)，另一方面，所述下噴嘴配置于所述工件的相對(duì)移動(dòng)區(qū)域的內(nèi)側(cè)。(9)上述(5廣(8)中任一項(xiàng)記載的，在所述清洗工序中，在俯視時(shí)，從所述上噴嘴及所述下噴嘴分別噴射所述上清洗液及所述下清洗液，以使上清洗液及下清洗液的噴射擴(kuò)散方向皆相對(duì)于所述工件的相對(duì)移動(dòng)方向成為傾斜方向。(10)上述(5) (9)中任一項(xiàng)記載的，在俯視時(shí)，工件在所述工件的相對(duì)移動(dòng)方向及其正交方向上排列配置為多行及多列，在所述清洗工序中，噴射所述上清洗液，以使所述上清洗液噴到互相相鄰的兩個(gè)工件行中的一個(gè)工件行的至少一個(gè)工件和另一工件行的至少一個(gè)工件。(11)上述(5) (10)中任一項(xiàng)記載的，工件配置位置處的從所述上噴嘴噴射的所述上清洗液的噴射擴(kuò)散寬度比工件配置位置處的從所述下噴嘴噴射的所述下清洗液的噴射擴(kuò)散寬度大。(12)上述(I) (11)中任一項(xiàng)記載的，所述下噴嘴與工件之間的鉛垂方向的距離比所述上噴嘴與工件之間的鉛垂方向的距離短。(13)上述(I) (12)中任一項(xiàng)記載的，所述工件是感光鼓基體。(14) 一種清洗裝置，其特征在于，具備上噴霧噴嘴，其配置于工件的上側(cè)且向下噴射上清洗液；下噴霧噴嘴，其配置于工件的下側(cè)且向上噴射下清洗液；和驅(qū)動(dòng)單元，其使工件相對(duì)于所述上下兩噴嘴相對(duì)地在水平方向上移動(dòng)，該清洗裝置構(gòu)成為，通過(guò)在從所述上噴嘴及所述下噴嘴分別噴射所述上清洗液及所述下清洗液的狀態(tài)下，由所述驅(qū)動(dòng)單元使工件相對(duì)移動(dòng)，從而用所述上清洗液清洗工件的上表面及外周面中的至少上表面并且用所述下清洗液清洗工件的下表面，從所述上噴嘴及所述下噴嘴分別噴射所述上清洗液及所述下清洗液，以使在下清洗液噴到工件的下表面時(shí)上清洗液必定噴到工件的由上表面及外周面構(gòu)成的區(qū)域的至少一部分。此外，上述(14)的清洗裝置也能夠采用以下的結(jié)構(gòu)。(15)上述(14)記載的清洗裝置，在俯視時(shí)，所述上噴嘴的配置位置與所述下噴嘴的配置位置錯(cuò)開，從所述上噴嘴及所述下噴嘴分別噴射所述上清洗液及所述下清洗液，以使上清洗液與下清洗液互不干涉。(16)上述(14)或(15)記載的清洗裝置，從所述上噴嘴噴射的所述上清洗液的平均單位時(shí)間的噴射流量比從所述下噴嘴噴射的所述下清洗液的平均單位時(shí)間的噴射流量大。 (17)上述(14) (16)中任一項(xiàng)記載的清洗裝置，工件是筒狀，且其軸鉛垂地配置，用所述上清洗液清洗工件的上表面、外周面及內(nèi)周面，并且用所述下清洗液清洗工件的下表面及內(nèi)周面。(18)上述(14) (17)中任一項(xiàng)記載的清洗裝置，所述上噴嘴及所述下噴嘴分別包括扁平噴霧噴嘴，從所述上噴嘴及所述下噴嘴分別扇形膜狀地噴射所述上清洗液及所述下清洗液。(19)上述(18)記載的清洗裝置，在俯視時(shí)，從所述上噴嘴及所述下噴嘴分別噴射所述上清洗液及所述下清洗液，以使所述上清洗液的噴射擴(kuò)散方向和所述下清洗液的噴射擴(kuò)散方向互相平行。(20)上述(18)或(19)記載的清洗裝置，在俯視時(shí)，工件在所述工件的相對(duì)移動(dòng)方向的正交方向上排列配置多個(gè)，并且在俯視時(shí)，所述上噴嘴和所述下噴嘴在所述工件的相對(duì)移動(dòng)方向的正交方向上交替排列配置多個(gè)。(21)上述(18) (20)中任一項(xiàng)記載的清洗裝置，在俯視時(shí)，所述上噴嘴配置于所述工件的相對(duì)移動(dòng)區(qū)域的外側(cè)，另一方面，所述下噴嘴配置于所述工件的相對(duì)移動(dòng)區(qū)域的內(nèi)側(cè)。(22)上述(18) (21)中任一項(xiàng)記載的清洗裝置，在俯視時(shí)，從所述上噴嘴及所述下噴嘴分別噴射所述上清洗液及所述下清洗液，以使上清洗液及下清洗液的噴射擴(kuò)散方向皆相對(duì)于所述工件的相對(duì)移動(dòng)方向成為傾斜方向。(23)上述(18) (22)中任一項(xiàng)記載的清洗本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：渡邊朋宏，砂冢路哉，柳川勉，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：昭和電工株式會(huì)社，
類型：
國(guó)別省市：