一種可調節的紅外線燈組及加熱裝置制造方法及圖紙

本實用新型專利技術公開了一種可調節的紅外線燈組，涉及半導體工藝技術領域。所述燈組包括：固定管、加熱器、角度調節架、縱向調節架；固定管固定在外延腔室內；加熱器設置在固定管的內部；角度調節架的中部連接加熱器，下部滑動連接縱向調節架的下部，用于調節加熱器與固定管間夾角；縱向調節架的上部滑動連接固定管，用于調節加熱器相對固定管的縱向位移。所述燈組及加熱裝置，通過角度調節架和縱向調節架，可以方便地調節加熱器與待加熱晶體間的距離和角度，從而可以方便地調節所述加熱器的加熱功率和輻射范圍，能夠作為雙面燈的補償熱源，使晶體受熱更加均勻，從而得到性質均勻、高質量的外延層。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及半導體工藝
，特別涉及一種可調節的紅外線燈組及加熱>J-U ρ α裝直。
技術介紹
外延是指在單晶襯底上生長一層新單晶的技術，新單晶的晶向取決于襯底，由襯底向外外延而成。為了保證得到高質量的外延層，必須控制好各種工藝參數，其中最關鍵的 參數就是工藝中襯底的溫度。溫度影響電阻率的均勻性，源氣體反應需要特定的溫度，如果襯底表面溫度改變，不僅外延層不均勻而且晶體性質也不均勻，輕微的溫度不均勻會導致晶體滑移。為了達到反應溫度要求，外延腔室采用雙面燈加熱方式，加熱燈管為上下交叉平行分布。由于外延腔室的特殊結構需求，在旋轉升降軸附近的基座所獲得的熱源較少，容易導致晶體受熱不均勻，影響了外延層的均勻性。
技術實現思路
(一 )要解決的技術問題本技術要解決的技術問題是如何提供一種可調節的紅外線燈組及加熱裝置，以作為雙面燈的補償熱源，使晶體受熱更加均勻。( 二 )技術方案為解決上述技術問題，本技術提供一種可調節的紅外線燈組，其包括固定管、加熱器、角度調節架、縱向調節架；所述固定管固定在外延腔室內；所述加熱器設置在所述固定管的內部；所述角度調節架的中部連接所述加熱器，下部滑動連接所述縱向調節架的下部，用于調節所述加熱器與所述固定管間夾角；所述縱向調節架的上部滑動連接所述固定管，用于調節所述加熱器相對所述固定管的縱向位移。優選地，所述縱向調節架的下部沿橫向設置有弧形槽孔；所述角度調節架的下部通過螺栓與所述弧形槽孔滑動連接；所述弧形槽孔上設置有刻度。優選地，所述固定管上設置有長圓孔，所述縱向調節架的上部通過螺栓與所述長圓孔滑動連接。優選地，所述燈組還包括反光杯和燈座；所述反光杯的下部連接所述角度調節架的上部，所述加熱器設置在所述反光杯的中部；所述加熱器的下部通過所述燈座連接所述角度調節架的中部。優選地，所述固定管和反光杯整體鍍金，并且鍍金膜的厚度不小于2. 5微米。優選地，所述加熱器采用鹵素燈。優選地，所述角度調節架和縱向調節架均采用不銹鋼或者鋁合金。本技術還提供一種采用所述可調節的紅外線燈組的加熱裝置，所述加熱裝置包括至少一對所述燈組，并且每對中的兩個所述燈組呈鏡像對稱設置。優選地，所述加熱裝置包括兩對所述燈組，相鄰所述燈組通過連接架互相連接。優選地，所述加熱裝置通過所述連接架連接外延腔室；所述連接架整體鍍金，并且鍍金膜的厚度不小于2. 5微米。(三)有益效果本技術的可調節的紅外線燈組及加熱裝置，通過所述角度調節架和所述縱向調節架，可以方便地調節所述加熱器與待加熱晶體間的距離和角度，從而可以方便地調節所述加熱器的加熱功率和輻射范圍，能夠作為雙面燈的補償熱源，使晶體受熱更加均勻，從而得到性質均勻、高質量的外延層。附圖說明·圖I是本技術實施例所述可調節的紅外線燈組的前向結構示意圖；圖2是本技術實施例所述可調節的紅外線燈組的后向結構示意圖；圖3是本技術實施例所述可調節的紅外線燈組的局部結構示意圖；圖4是本技術實施例所述可調節的紅外線燈組的剖視圖；圖5是本技術實施例所述加熱裝置的主視圖；圖6是本技術實施例所述加熱裝置的俯視圖；圖7是本技術實施例所述加熱裝置的剖視圖。具體實施方式以下結合附圖和實施例，對本技術的具體實施方式作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本技術，但不用來限制本技術的范圍。娃的化學氣相沉積外延生長原理是,在高溫(大于1100°C )的襯底上輸送娃的化合物(SiHC13、SiH2C12或SiH4等)利用氫(H2)在襯底上通過還原反應淀積硅外延薄膜。為了達到高溫要求，可以通過電阻加熱、感應加熱、光加熱來使晶體溫度升高。在這些加熱方法中，光加熱是一種高效的加熱方式。鹵素加熱管是將鹵素燈管所放射出來的光作為熱加以利用。鹵素加熱管所釋放出來的光基本上都是肉眼看不見的紅外線，作為熱源，這是一種非常高效的能量源。另外，通過鹵素加熱管進行的加熱具有適應性強，易于操控，清潔安全，裝置體積小且重量輕等優點。根據上述原理，本技術提出一種可調節的紅外線燈組及加熱裝置，以作為補償熱源，為晶體提供集中熱能來補充上下燈組的熱源不足。圖I是本技術實施例所述可調節的紅外線燈組的前向結構示意圖；圖2是本技術實施例所述可調節的紅外線燈組的后向結構示意圖；圖3是本技術實施例所述可調節的紅外線燈組的局部結構示意圖；圖4是本技術實施例所述可調節的紅外線燈組的剖視圖。參見圖1、2、3、4，所述燈組包括固定管I、加熱器2、反光杯3、角度調節架4、縱向調節架5和燈座6。具體地，所述固定管I固定在外延腔室內，用于將所述燈組固定在待加熱晶體的下方。所述加熱器2設置在所述固定管I的內部。所述反光杯3設置在所述固定管I和所述加熱器2之間，下部中央位置設置有開口，所述加熱器2的下部穿過所述開口后連接所述燈座6。所述角度調節架4的上部連接所述反光杯3的下部，中部連接所述燈座6，下部通過螺栓滑動連接所述縱向調節架5，用于調節所述加熱器2與所述固定管I間的夾角。所述縱向調節架5的上部通過螺栓滑動連接所述固定管1，用于調節所述加熱器2相對所述固定管I的縱向位移。參見圖2，所述固定管I的上部設置有缺口 11，以便所述加熱器2對晶體進行熱輻射。所述固定管I的下部設置有長圓孔12，所述縱向調節架5的上部通過螺栓滑動連接所述長圓孔12。當所述縱向調節架5向上滑動時帶動所述加熱器2向上移動，進而所述加熱器2靠近待加熱晶體，提高加熱功率；反之，可以降低加熱功率。所述縱向調節架5的下部設置有弧形槽孔51，所述角度調節架4的下部通過螺栓與所述弧形槽孔51滑動連接，通過調節所述角度調節架4的下部在所述弧形槽孔51中的位置，可以改變所述加熱器2的輻射方向。參見圖I和圖4，所述弧形槽孔51的上方設置有刻度I 6，以便更準確地調節所述角度調節架4。其中，所述固定管I和反光杯3整體鍍金，并且鍍金膜的厚度不小于2. 5微米。所述反光杯3的內表面為曲面，優選為拋物面，可以把紅外光反射成平行光，有利于加熱的均勻性。所述加熱器2采用鹵素燈。所述角度調節架4、所述縱向調節架5和所述燈座6下部的燈座支撐柱均采用不銹鋼或者鋁合金。所述燈座6下部的燈座線夾整體鍍金，鍍金膜厚度不小于I. 5微米。圖5是本技術實施例所述加熱裝置的主視圖；圖6是本技術實施例所述加熱裝置的俯視圖；圖7是本技術實施例所述加熱裝置的剖視圖。參見圖5、圖6和圖7，所述加熱裝置包括兩對所述燈組，并且每對中的兩個所述燈組呈鏡像對稱設置。本領域技術人員容易想到，所述加熱裝置還可以只采用一對所述燈組或者是采用三對及更多對所述燈組。具體地，相鄰所述燈組通過連接架7互相連接；所述加熱裝置還通過所述連接架7連接所述外延腔室，設置在待加熱晶體的下方；所述連接架7整體鍍金，并且鍍金膜的厚度不小于2. 5微米。參見圖7，成對設置的所述燈組中，左側的所述弧形槽孔51和右側的所述弧形槽孔51呈鏡面對稱結構，并且在一條直線上，這樣可以保證調節角度時兩邊刻度可以同時看見。調節左邊所述角度調節架4至左側所述弧形槽孔51的刻度I處，調節右邊所述角度調節架4至右側所述弧形槽孔51的刻度6處時，兩個所述燈組角度最大，所加熱的范圍最窄；調節左邊所述角度調節架4至本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種可調節的紅外線燈組，其特征在于，包括：固定管、加熱器、角度調節架、縱向調節架；所述固定管固定在外延腔室內；所述加熱器設置在所述固定管的內部；所述角度調節架的中部連接所述加熱器，下部滑動連接所述縱向調節架的下部，用于調節所述加熱器與所述固定管間夾角；所述縱向調節架的上部滑動連接所述固定管，用于調節所述加熱器相對所述固定管的縱向位移。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：魏景峰，劉東，龍睿芬，李一吾，
申請(專利權)人：北京七星華創電子股份有限公司，
類型：實用新型
國別省市：