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    一種非晶Al2O3包覆超細(xì)納米晶ZrO2復(fù)合涂層材料的制備方法技術(shù)

    技術(shù)編號(hào):8297811 閱讀:261 留言:0更新日期:2013-02-06 22:58
    一種非晶Al2O3包覆超細(xì)納米晶ZrO2復(fù)合涂層材料的制備方法,涉及一種非晶包覆超細(xì)納米晶的復(fù)合涂層材料。提供反應(yīng)磁控濺射沉積與退火處理相結(jié)合,制備出的材料包覆程度可控、厚度可控的一種非晶Al2O3包覆超細(xì)納米晶ZrO2復(fù)合涂層材料的制備方法。基體預(yù)處理;反應(yīng)濺射沉積熱力學(xué)非穩(wěn)定態(tài)ZrAlN先驅(qū)體膜材料;對(duì)ZrAlN先驅(qū)體膜材料進(jìn)行退火處理。通過(guò)各種工藝參數(shù)控制,制備出包覆程度可控、厚度可控的非晶Al2O3包覆超細(xì)納米晶ZrO2復(fù)合涂層材料。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及一種非晶包覆超細(xì)納米晶的復(fù)合涂層材料,尤其是涉及一種在硬質(zhì)合金基體材料表面利用亞穩(wěn)態(tài)ZrAlN先驅(qū)體膜材料制備出包覆程度可控、厚度可控的非晶Al2O3包覆超細(xì)納米晶ZrO2復(fù)合涂層材料的方法。
    技術(shù)介紹
    ZrO2是一種重要的結(jié)構(gòu)材料與功能材料( S. Somiya, N. Yamamoto, H.Yanagina. ‘Science and Technology of Zirconia III’ , in Advances inCeramics, American Ceramic Society, Westerville, OH, 1988, vols. 24A and24B. X ZrO2具有優(yōu)異的物理、化學(xué)性質(zhì)。硬度大,耐高溫,介電系數(shù)大,耐酸堿腐蝕性能強(qiáng),耐磨損性能優(yōu)異,常常作為切削刀具保護(hù)材料,特別是在高溫工作條件下,但是也存在著脆性大的問(wèn)題 ( Journal American Ceramic Society, 70 (1987) 689)。研究發(fā)現(xiàn),應(yīng)力誘導(dǎo)相變機(jī)制以及微裂紋尖端能量吸收機(jī)制可以成為ZrO2陶瓷材料增韌的重要方法,亞穩(wěn)態(tài)的四方相ZrO2成為重要的陶瓷增韌材料(Nature,258 (1975) 703),當(dāng)四方相氧化鋯相向單斜相氧化鋯發(fā)生轉(zhuǎn)變時(shí),相變可以吸收裂紋的生長(zhǎng)能量。同時(shí)相變會(huì)產(chǎn)生微裂紋,區(qū)別于尺寸較大的、因材料缺陷而產(chǎn)生的斷裂裂紋,這些微裂紋可以吸收斷裂裂紋尖端的能量,有效釋放裂紋尖端的應(yīng)力集中狀態(tài)。結(jié)合以上兩種作用機(jī)制,可以有效抑制斷裂裂紋的生長(zhǎng),保護(hù)了基體材料。另外,四方相立方相ZrO2同時(shí)可作為第二相增強(qiáng)材料,從而達(dá)到增強(qiáng)、增韌的目的。納米級(jí)ZrO2相比于塊體ZrO2,其力學(xué)、光學(xué)、電學(xué)性能都得到很大提高,可作為精細(xì)結(jié)構(gòu)部件、光學(xué)器件以及電學(xué)器件。此外,納米級(jí)ZrO2也是一類重要的催化劑(T. Yamaguchi.Catal. Today,20(1994) 199)。Al203/Zr02復(fù)合材料具有優(yōu)異的力學(xué)性能、耐熱性能以及生物適應(yīng)性,目前已經(jīng)應(yīng)用于精細(xì)結(jié)構(gòu)部件、熱障涂層、生物醫(yī)學(xué)材料等領(lǐng)域( JournalAmerican CeramicSociety, 92 (2009) 2751)。在ZrO2基體上引入非互溶相的第二相Al2O3,可以細(xì)化ZrO2晶粒尺寸,增加ZrO2晶粒所受應(yīng)力,達(dá)到低溫下穩(wěn)定四方相或立方相ZrO2的作用。在高溫使用條件下可以穩(wěn)定ZrO2的晶粒尺寸,保持材料的優(yōu)異力學(xué)性能狀態(tài)(ActaMater. 45(1997)3843, Acta Mater. 51 (2003) 3571 )。無(wú)論是四方相還是立方相 ZrO2,其高溫抗蠕變性能差,但是在引入第二相Al2O3后,Al203/Zr02材料具備優(yōu)異的高溫抗蠕變性能(Acta Materialia, 48 (2000) 4691 ),兩相互存的Al2O3與ZrO2之間具有較低的界面能,當(dāng)ZrO2基體被Al2O3大面積包覆之后,原子在高溫下遷移受阻,這樣就有利于在高溫下維持Al2O3ArO2M料的結(jié)構(gòu)特征,晶粒尺寸受到穩(wěn)定的同時(shí),蠕變抗性能力也得到加強(qiáng),大大提高了 Al2CVZrO2材料在高溫條件下的使用性能,這對(duì)航空航天發(fā)動(dòng)機(jī)、汽車發(fā)動(dòng)機(jī)、切削刀具保護(hù)涂層、金屬冶煉等行業(yè)的發(fā)展有著及其重要的意義。目前制備 Al203/Zr02 材料的方法有 mechanical milling (JournalAmerican CeramicSociety,89 (2006) 1280 )、combustion technique (Journalof Materials Research, 13 (1998) 156)、precipitation process (CeramicsInternational, 34(2008) 1797)、sol - gel (JournalAmerican Ceramic Society,90(2007)298)、post doping (Acta Materialia, 50(2002) 1125)。
    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
    本專利技術(shù)的目的在于提供反應(yīng)磁控濺射沉積與退火處理相結(jié)合,制備出的材料包覆程度可控、厚度可控的一種非晶Al2O3包覆超細(xì)納米晶ZrO2復(fù)合涂層材料的制備方法。本專利技術(shù)包括以下步驟I)基體預(yù)處理;2)反應(yīng)濺射沉積熱力學(xué)非穩(wěn)定態(tài)ZrAlN先驅(qū)體膜材料;3)對(duì)ZrAlN先驅(qū)體膜材料進(jìn)行退火處理。 在步驟I)中,所述基體預(yù)處理,可依次進(jìn)行機(jī)械研磨拋光處理、超聲波清洗、離子源轟擊清洗處理;所述機(jī)械研磨拋光處理,可先將硬質(zhì)合金使用600目金剛石磨盤研磨3 5min,磨盤轉(zhuǎn)速為300r/min,然后使用1200目金剛石磨盤研磨3 5min,磨盤轉(zhuǎn)速為300r/min,再用粒徑為0. 5或I. O μ m的金剛石拋光膏在拋光盤上進(jìn)行拋光處理5 8min,拋光盤轉(zhuǎn)速為600r/min,拋光至表面呈光亮鏡面狀態(tài);之后再用娃膠進(jìn)行拋光,時(shí)間為8 IOmin ;所述離子源轟擊清洗處理,可采用Hall離子源對(duì)基體進(jìn)行清洗10 15min,環(huán)境壓力為2.5 3.0父101^,基體溫度為300141'氣流量為10 15sccm,偏壓為一100 一150V,陰極電流為25 30A,陰極電壓為15 20V,陽(yáng)極電流為6 8A,陽(yáng)極電壓為50 60V。在步驟2)中,所述反應(yīng)濺射沉積熱力學(xué)非穩(wěn)定態(tài)ZrAlN先驅(qū)體膜材料,可將腔體環(huán)境溫度加熱至120 150°C,硬質(zhì)合金基體溫度加熱至30(TC,通入Ar氣,流量設(shè)定在40 50sccm,調(diào)節(jié)腔體內(nèi)工作壓力至0. 8 I. OPaJf ZrAl合金靶材功率調(diào)節(jié)至100W,濺射3 5min ;然后將ZrAl合金靶材功率調(diào)節(jié)至125W,濺射3 5min ;再將ZrAl合金靶材功率調(diào)節(jié)至150W,濺射3 5min ;最后將ZrAl合金靶材功率調(diào)節(jié)至200W,濺射3 5min。該預(yù)濺射處理過(guò)程,用以除去靶材表面氧化物等雜質(zhì)污染,活化靶材表面原子,提高純度的同時(shí)也提高靶材的濺射速率。預(yù)濺射完成之后,先確認(rèn)腔體環(huán)境溫度為120 150°C,硬質(zhì)合金基體溫度為300°C,在通入N2氣,調(diào)節(jié)流量,使得Ar氣與N2氣總流量為50 60sccm,N2氣分壓比為20% 30%。轉(zhuǎn)動(dòng)樣品臺(tái),使得硬質(zhì)合金正對(duì)ZrAl合金靶材,與靶材的距離為8 10cm,打開(kāi)靶材檔板,將ZrAl合金靶材直流濺射功率升至100W,3 5min后升至150W,經(jīng)過(guò)3 5min后升至200W,再經(jīng)過(guò)3 5min后升至250W,最后再經(jīng)過(guò)3 5min后升至300W,在此功率條件下保持適當(dāng)時(shí)間,共計(jì)派射沉積60 90min。在步驟3)中,所述對(duì)ZrAlN先驅(qū)體膜材料進(jìn)行退火處理,可將鍍膜的硬質(zhì)合金置于700 900°C退火爐中,保溫2 3h,處理氣氛為空氣。使ZrAlN先驅(qū)體膜材料發(fā)生氧化,而硬質(zhì)合金沒(méi)有發(fā)生明顯氧化,仍然可以作為基體材料。并且在ZrAlN先驅(qū)體膜材料的氧化產(chǎn)物中,ZrO2為結(jié)晶態(tài),而Al2O3為非晶態(tài),獲得非晶Al2O3包覆超細(xì)納米晶ZrO2復(fù)合涂層材料。通過(guò)工藝參數(shù)調(diào)整以及靶材成分調(diào)節(jié),可制備出包覆程度可控、膜厚可控的非晶Al2O3包覆超細(xì)納米晶ZrO2復(fù)本文檔來(lái)自技高網(wǎng)
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    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
    一種非晶Al2O3包覆超細(xì)納米晶ZrO2復(fù)合涂層材料的制備方法,其特征在于包括以下步驟:1)基體預(yù)處理;2)反應(yīng)濺射沉積熱力學(xué)非穩(wěn)定態(tài)ZrAlN先驅(qū)體膜材料;3)對(duì)ZrAlN先驅(qū)體膜材料進(jìn)行退火處理。

    【技術(shù)特征摘要】

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:王周成吳正濤祁正兵劉濱
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:廈門大學(xué)
    類型:發(fā)明
    國(guó)別省市:

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