一種掩膜板制造技術

本實用新型專利技術實施例提供一種掩膜板，涉及顯示裝置制造領域，可以改善光線的準直角度，抑制或消除光線通過掩膜板圖形開口后的衍射曝光范圍。包括：光柵層，所述光柵層具有至少一個圖形開口區域，還包括：覆蓋所述圖形開口區域的柱狀透鏡；所述柱狀透鏡的一側為圓拱，另一側面向所述光柵層，所述圓拱的圓心指向所述光柵層，且其跨度大于等于所述圖形開口區域的寬度。本實用新型專利技術實施例用于制造掩膜板。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及顯示裝置制造領域，尤其涉及一種掩膜板。
技術介紹
分辨率作為衡量畫面品質的最重要指標之一，不論是對于TFT-IXD(Thin FilmTransistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶體管液晶顯不器)或是 OLED (OrganicLight-Emitting Diode，有機發光二級管)顯示器而言都具有重要的意義。越來越多的人開始嘗試著在提高分辨率的同時不犧牲顯示裝置其他的顯示性能(如開口率、對比度等)，這就要求產品圖形的設計必然向窄線寬方向發展。在采用構圖工藝形成圖形的過程中，光線通過照射光刻膠上方的掩膜板，對掩膜 板開口處的光刻膠進行曝光即可以得到與該掩膜板相應的圖形，因此掩膜板開口的寬度將直接影響圖形的線寬。目前，通常采用平行平板掩膜板進行曝光，這樣一種平行平板掩膜板開口的寬度已能夠達到顯示裝置關鍵尺寸的要求，但在使用掩膜板實際進行曝光顯影的過程中，由于紫外光在平行平板掩膜板圖形開口的邊緣將發生衍射和表面間二次反射等現象，光刻膠實際受到曝光的范圍要比掩膜板開口寬度大得多。如圖Ia所示為現有技術中進行曝光顯影的示意圖，其中基板10的上表面具有光刻膠11，掩膜板12包括掩膜板基板121以及位于掩膜板基板121下表面的光柵結構122,該光柵結構122形成圖形開口，紫外光照射方向如圖中箭頭所示。當紫外光照射掩膜板12時，紫外光在通過掩膜板12的圖形開口區域時將發生衍射，光路方向如圖所示，紫外光實際照射區域形成光刻膠圖形111?？梢郧宄匕l現，光刻膠圖形111的寬度與掩膜板12的圖形開口區域寬度之間存在很大的偏差。需要說明的是，在如圖I所示的曝光示意圖中，紫外光為理想的準直光，但在實際應用中，紫外光的入射方向通常與豎直方向存在夾角Θ，如圖Ib所示，在這樣一種紫外光照射下的光刻膠圖形與掩膜板的圖形開口區域寬度將產生更大的偏差。這種尺寸的偏差在現有技術條件下尚難以避免，這種偏差的存在也成為了窄線寬產品制作的瓶頸。
技術實現思路
本技術的實施例提供一種掩膜板，可以改善光線的準直角度，抑制或消除光線通過掩膜板圖形開口后的衍射曝光范圍。為達到上述目的，本技術的實施例采用如下技術方案本技術實施例提供一種一種掩膜板，包括光柵層，所述光柵層具有至少一個圖形開口區域，還包括覆蓋所述圖形開口區域的柱狀透鏡；所述柱狀透鏡的一側為圓拱，另一側面向所述光柵層，所述圓拱的圓心指向所述光柵層，且其跨度大于等于所述圖形開口區域的寬度。所述柱狀透鏡包括設置于所述光柵層的入光側表面的柱狀透鏡；和/或，設置于所述光柵層的出光側表面的柱狀透鏡。所述掩膜板還包括設置于所述光柵層的入光側表面的透明基板，所述透明基板的厚度小于所述柱狀透鏡的焦距；相應的，所述柱狀透鏡設置于所述透明基板的入光側表面。所述透明基板與所述柱狀透鏡為一體結構。所述圖形開口區域包括關鍵區域和非關鍵區域；所述柱狀透鏡與所述關鍵區域一一對應。所述柱狀透鏡的中心線與所述圖形開口區域的中心線均在與所述光柵層垂直的面內。本技術實施例提供的掩膜板，通過在光柵層上設置覆蓋圖形開口區域的柱狀透鏡，該柱狀透鏡的一側為圓拱，另一側面向該光柵層，該圓拱的圓心指向光柵層，且其跨度大于等于該圖形開口區域的寬度。采用這樣一種柱狀透鏡結構可以使得入射的曝光光線由現有的垂直入射變為斜入射，入射光將向掩膜板圖形開口的中心位置處匯聚。這樣一來，入射光的各級衍射主極大分布將移向圖形開口的中心，從而抑制或消除了光線通過掩膜板圖形開口后的衍射曝光的范圍，減小或消除了由于衍射曝光造成的光刻膠圖形的尺寸偏差，大大提高了窄線寬產品的質量。附圖說明為了更清楚地說明本技術實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。圖Ia為現有技術中一種掩膜板進行曝光顯影的示意圖；圖Ib為現有技術中另一掩膜板進行曝光顯影的示意圖；圖2為本技術實施例提供的一種掩膜板的結構示意圖；圖3為本技術實施例提供的另一掩膜板的結構示意圖；圖4a為本技術實施例提供的一種掩膜板在進行曝光顯影時的俯視圖；圖4b為使用圖4a所示的掩膜板進行曝光顯影之后所得到的圖形示意圖；圖5a為本技術實施例提供的另一掩膜板在進行曝光顯影時的俯視圖；圖5b為使用圖5a所示的掩膜板進行曝光顯影之后所得到的圖形示意圖；圖6為本技術實施例提供的一種掩膜板的原理示意圖；圖7為本技術實施例提供的另一掩膜板的原理示意圖；圖8為本技術實施例提供的另一掩膜板的原理示意圖；圖9為本技術實施例提供的又一掩膜板的原理示意圖；圖10為本技術實施例提供的一種掩膜板的制造方法的流程示意圖；圖11為本技術實施例提供的另一掩膜板的制造方法的流程示意圖。具體實施方式下面將結合本技術實施例中的附圖，對本技術實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本技術一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒炯夹g中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本技術保護的范圍。本技術實施例提供的掩膜板20，如圖2所示，包括光柵層21，該光柵層21具有至少一個圖形開口區域211，還包括覆蓋圖形開口區域211的柱狀透鏡22。該柱狀透鏡22的一側為圓拱221，另一側面向光柵層21，圓拱221的圓心指向光柵層21，且其跨度L大于等于圖形開口區域211的寬度d。需要說明的是，柱狀透鏡22具體可以設置于光柵層21的入光側表面(圖2中光·柵層21的上表面)，或者柱狀透鏡22還可以設置于光柵層21的出光側表面(圖2中光柵層21的下表面)。在如圖2所示的掩膜板20中，是以柱狀透鏡22設置于光柵層21的入光側表面為例進行的說明。本技術實施例提供的掩膜板，通過在光柵層上設置覆蓋圖形開口區域的柱狀透鏡，該柱狀透鏡的一側為圓拱，另一側面向該光柵層，該圓拱的圓心指向光柵層，且其跨度大于等于該圖形開口區域的寬度。采用這樣一種柱狀透鏡結構可以使得入射的曝光光線由現有的垂直入射變為斜入射，入射光將向掩膜板圖形開口的中心位置處匯聚。這樣一來，入射光的各級衍射主極大分布將移向圖形開口的中心，從而抑制或消除了光線通過掩膜板圖形開口后的衍射曝光的范圍，減小或消除了由于衍射曝光造成的光刻膠圖形的尺寸偏差，大大提高了窄線寬產品的質量。在采用掩膜版進行曝光顯影的過程中，由于光柵層的厚度通常較薄，當使用次數較多時，掩膜板極容易出現斷裂等問題，這不僅影響生產進度，重新制作掩膜板還將導致生產成本的大幅度上升，因此掩膜板的堅固性也就顯得尤為重要。為了提高掩膜板20的堅固性，如圖3所示，掩膜板20還可以包括設置于光柵層21的入光側表面的透明基板23，該透明基板23的厚度應當小于柱狀透鏡22的焦距。這樣一來，可以保證通過掩膜板20后的曝光光線向圖形開口的中心位置處匯聚。相應的，柱狀透鏡22可以設置于該透明基板23的入光側表面。由于透明基板23的厚度一般遠大于光柵層21的厚度，這樣一來，大大增加了掩膜板2本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種掩膜板，包括：光柵層，所述光柵層具有至少一個圖形開口區域，其特征在于，還包括：覆蓋所述圖形開口區域的柱狀透鏡；所述柱狀透鏡的一側為圓拱，另一側面向所述光柵層，所述圓拱的圓心指向所述光柵層，且其跨度大于等于所述圖形開口區域的寬度。

【技術特征摘要】
1.一種掩膜板，包括光柵層，所述光柵層具有至少一個圖形開口區域，其特征在于，還包括 覆蓋所述圖形開口區域的柱狀透鏡； 所述柱狀透鏡的一側為圓拱，另一側面向所述光柵層，所述圓拱的圓心指向所述光柵層，且其跨度大于等于所述圖形開口區域的寬度。2.根據權利要求I所述的掩膜板，其特征在于，所述柱狀透鏡包括 設置于所述光柵層的入光側表面的柱狀透鏡；和/或， 設置于所述光柵層的出光側表面的柱狀透鏡。3.根據權利要求I或2所述的掩膜板，其特征在于，所述掩膜板還包括 ...

【專利技術屬性】
技術研發人員：彭川，隆清德，
申請(專利權)人：京東方科技集團股份有限公司，成都京東方光電科技有限公司，
類型：實用新型
國別省市：