防反射膜及其制備方法技術

本發明專利技術公開了一種防反射膜，其包括：高折射率層，所述高折射率層包含第一粘合劑和分散在所述第一粘合劑中的納米二氧化硅粒子，所述第一粘合劑包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的交聯聚合物；和低折射率層，所述低折射率層層合在上述高折射率層上，并包含第二粘合劑以及分散在該第二粘合劑中的中空二氧化硅粒子和表面上涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子，該第二粘合劑包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物和氟基(甲基)丙烯酸酯化合物的交聯共聚物。另外，本發明專利技術公開了一種使用組合物通過更簡化工藝制備防反射膜的方法，該組合物在單層涂布后通過相分離分成至少兩層。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本公開內容涉及一種。
技術介紹
一般而言，顯示裝置例如rop、CRT和IXD等裝備有防反射膜(或防眩光膜)以使從外界進入屏幕的光的反射最小。在現有的防反射膜中，防反射層主要設置在透光基底上，并且廣泛使用的是具有三層結構的防反射層，其中硬涂層、厚度為I μ m或大于I μ m的高折射率層和低折射率層順序沉積(例如，日本專利申請公開第2002-200690號)。近來，為了簡化制造工藝，在防反射層中省去高反射率層，而普遍使用其中沉積硬涂層和低反射率層的雙層結構(例如，日本專利申請公開第2000-233467號)。另外，為了結合防眩光性和抗劃傷性，使用裝備有防眩光硬涂層的防反射膜。就這點而言，已建議通過將防眩光硬涂層的厚度控制在用以形成面層(mat)的透光粒子的平均顆粒直徑的50、0%而使防眩光性和透光性共存的技術(例如，日本專利申請公開第 1996-309910 號)。同時，防反射膜通常由干法或濕法制成。根據干法，將具有低折射率的材料(例如，MgF2和SiO2等)通過沉積或濺射沉積在基底膜上作為薄膜，或者將具有高折射率的材料(例如，ITO (摻錫銦氧化物)、ΑΤ0 (摻錫銻氧化物)、ZnO和TiO2等)和具有低折射率的材料交替沉積。盡管干法可以制備具有強界面粘合的防反射膜，但由于高的制造成本而在商業上沒有廣泛地使用。同時，根據濕法，將包含聚合物樹脂和有機溶劑等的涂料組合物涂布在基底膜上， 干燥并固化。而且，濕法由于相比于干法具有相對低的制造成本而在商業上廣泛使用。然而，由于濕法應單獨進行形成包括在防反射膜中的硬涂層、高折射率層和低折射率層等中每一層的工藝，因此制造工藝復雜，界面粘合差。因此，正在積極研究推進通過單次濕法涂布能夠形成2層或多于2層的防反射涂料組合物。然而，由于相分離不能通過涂布組合物來順利地實現，因此包括每層劣化功能的許多問題仍然存在。
技術實現思路
技術問題因此，本專利技術提供一種使用防反射涂料組合物制成的防反射膜，該防反射涂料組合物可以僅通過單次涂布工藝而順利地相分離成至少兩層。本專利技術還提供一種使用上述組合物以更簡化的工藝制備防反射膜的方法。技術方案根據本專利技術，提供一種防反射膜，包括高折射率層，所述高折射率層包含第一粘合劑和分散在所述第一粘合劑中的納米二氧化硅粒子，所述第一粘合劑包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的交聯聚合物；和低折射率層，所述低折射率層層合在所述高折射率層上，并包含第二粘合劑以及分散在所述第二粘合劑中的中空二氧化硅粒子和表面上涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子，所述第二粘合劑包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物和氟基(甲基)丙烯酸酯化合物的交聯共聚物。在所述低折射率層中所述表面上涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子可以具有朝著離開所述高折射率層的方向增加的分布梯度。而且，所述高折射率層的折射率可以為I. 5 I. 58，所述低折射率層的折射率可以為L I I. 45。另外，涂布在所述中空二氧化硅粒子上的氟基化合物的折射率可以為I. 3 I. 4， 表面張力可以為10 25mN/m。優選地，涂布在所述中空二氧化硅粒子上的氟基化合物可以是含氟的烷氧基硅烷化合物。更優選地，涂布在所述中空二氧化硅粒子上的氟基化合物可以是選自十三氟辛基二乙氧基娃燒、十七氟癸基二甲氧基娃燒和十七氟癸基二異丙氧基娃燒中的至少一種。而且，所述氟基(甲基)丙烯酸酯化合物可以是選自下面化學式I 5中的至少在化學式I中，R1是氫或C1-C6烷基，a是O 7的整數，b是I 3的整數；權利要求1.一種防反射膜，包括 高折射率層，所述高折射率層包含第一粘合劑和分散在所述第一粘合劑中的納米二氧化硅粒子，所述第一粘合劑包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的交聯聚合物；和 低折射率層，所述低折射率層層合在所述高折射率層上，并包含第二粘合劑以及分散在所述第二粘合劑中的中空二氧化硅粒子和表面上涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子，所述第二粘合劑包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物和氟基(甲基)丙烯酸酯化合物的交聯共聚物。2.根據權利要求I所述的防反射膜，其中，在所述低折射率層中所述表面上涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子具有朝著離開所述高折射率層的方向增加的分布梯度。3.根據權利要求I所述的防反射膜，其中，所述高折射率層的折射率為I.5 I. 58，所述低折射率層的折射率為I. I I. 45。4.根據權利要求I所述的防反射膜，其中，涂布在所述中空二氧化硅粒子上的氟基化合物的折射率為I. 3 I. 4，表面張力為10 25mN/m。5.根據權利要求I所述的防反射膜，其中，涂布在所述中空二氧化硅粒子上的氟基化合物是含氟的烷氧基硅烷化合物。6.根據權利要求I所述的防反射膜，其中，涂布在所述中空二氧化硅粒子上的氟基化合物是選自十二氟羊基二乙氧基娃燒、十七氟癸基二甲氧基娃燒和十七氟癸基二異丙氧基硅烷中的至少一種。7.根據權利要求I所述的防反射膜，其中，所述氟基(甲基)丙烯酸酯化合物是選自下面化學式I 5中的至少一種 8.根據權利要求I所述的防反射膜，其中，在所述高折射率層中的所述納米二氧化硅粒子的數均顆粒直徑為IOOnm或小于lOOnm。9.根據權利要求I所述的防反射膜，其中，在所述低折射率層中的所述中空二氧化硅粒子和所述涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子的數均顆粒直徑分別為I 200nm。10.根據權利要求I所述的防反射膜，其中，在所述低折射率層中所述涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子與所述中空二氧化硅粒子的重量比是1:0. I 20。11.一種制備防反射膜的方法，包括 制備包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物、氟基(甲基)丙烯酸酯化合物、納米二氧化硅粒子、中空二氧化硅粒子、涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子、溶劑和引發劑的組合物； 在基底膜的至少一面上涂布所述組合物； 干燥經涂布的組合物；和 固化經干燥的組合物。12.根據權利要求11所述的方法，其中，所述組合物基于100重量份的所述多官能(甲基)丙烯酸酯化合物包含， I 30重量份的氟基(甲基)丙烯酸酯化合物； I 30重量份的納米二氧化硅粒子； I 20重量份的中空二氧化硅粒子； I 60重量份的涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子； 100 500重量份的溶劑；和·1 20重量份的引發劑。13.根據權利要求11所述的方法，所述干燥在5 150°C的溫度下進行0.I 60分鐘。14.根據權利要求11所述的方法，其中，所述固化在涂布在基底膜上的組合物根據涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子的分布梯度相分離成至少一層后進行。15.根據權利要求11所述的方法，其中，所述固化通過在20 150°C的溫度下熱處理·1 100分鐘的熱固化，或通過在UV照射量為0. I 2J/cm2下UV照射I 600秒的UV固化來進行。全文摘要本專利技術公開了一種防反射膜，其包括高折射率層，所述高折射率層包含第一粘合劑和分散在所述第一粘合劑中的納米二氧化硅粒子，所述第一粘合劑包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的交聯聚合物；和低折射率層，所述低折射率層層合在上述高折射率層上，并包含第二粘合劑以及分散在該第二粘合劑中的中空二氧化硅粒子和表面上涂布有氟基化合物的中空二氧化硅粒子，該第二粘合劑包含多官能(甲基)本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...

【專利技術屬性】
技術研發人員：金憲，張影來，鄭順和，樸真榮，金芙敬，
申請(專利權)人：LG化學株式會社，
類型：
國別省市：