一種均勻涂布機制造技術

本發明專利技術公開了一種均勻涂布機，包括輸送基材的涂布輥，所述涂布輥輸送的基材的上下方分別設置有連接正負電極的上基板和下基板，所述上基板上均布有涂料霧化機構，所述上基板和下基板之間還設置有涂層濃度監測器,本發明專利技術使涂布的涂層更均勻。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及紡織品加工機械領域，特別地，是一種涂布均勻的涂布機。
技術介紹
涂布機能夠在成卷的基材,如紙張、布匹、皮革、招箔、塑料薄膜等，涂上一層特定功能的膠、涂料或油墨等，并烘干后收卷。普通涂布機是靠調節順轉輥涂布中由兩根轉動方向相同的涂布輥和刮刀之間的間隙來控制，在涂布輥上的形成的需要厚度的涂層。采用刮刀的方式對涂層的厚度進行控制由于基材的彈性或者微觀結構會使涂布效果較差，比如基材彈性過高，刮刀會使基材變形，使涂層的厚度不穩定，如果基材的微觀結構比較疏松，刮刀會使涂料滲入基材，影響涂布效果。
技術實現思路
為了解決上述問題，本專利技術的目的在于提供一種均勻涂布機，該均勻涂布機能夠均勻的對基材進行涂布。本專利技術解決其技術問題所采用的技術方案是 該均勻涂布機包括輸送基材的涂布輥，所述涂布輥輸送的基材的上下方分別設置有連接正負電極的上基板和下基板，所述上基板上均布有涂料霧化機構，所述上基板和下基板之間還設置有涂層濃度監測器。作為優選，所述涂布輥為導電金屬材質，所述涂布輥接地。作為優選，所述涂料霧化機構為超聲波霧化器。作為優選，所述涂層濃度監測器為設置在所述基材下方的電容感應器。作為優選，所述涂層濃度監測器為設置在所述基材與所述上基板之間并平行于所述上基板的一對對射的光發射頭和光接收頭。利用霧化的方式使涂料均勻霧化，利用一對基板形成電場，使霧化后的涂料帶電顆粒形成一定質量后才能克服電場力降落至基材上，使基材上的涂層顆粒大小形狀保持一致增強涂料均勻一致性，以上措施使涂料均勻的對基材進行涂布。本專利技術的優點在于不使用刮刀對基材進行涂布，使基材涂布時不受刮刀的影響。附圖說明圖1是本均勻涂布機實施例一的結構示意 圖2是本均勻涂布機實施例二的結構示意圖。圖中10、20、霧化涂料；100、基材；210、220、涂布輥；310、下基板；320、上基板；350、涂料霧化機構；410、光發射頭；420、光接收頭；500、電容感應器。具體實施例方式下面結合附圖和實施例對本專利技術進一步說明 實施例一 參閱圖1，在本實施例中，該均勻涂布機包括輸送基材100的涂布輥210、220，所述涂布輥210、220輸送的基材100的上下方分別設置有連接正負電極的上基板320和下基板310，所述上基板320上均布有涂料霧化機構350，所述上基板320和下基板310之間還設置有涂層濃度監測器。上述的均勻涂布機，所述涂布輥210、220為導電金屬材質，所述涂布輥210、220接地，對涂布完成的基材進行消電處理，防止所述基材100發生靜電。上述的均勻涂布機，所述涂料霧化機構350為超聲波霧化器，超聲波霧化器具有效率高，霧化均勻的特點，有利于涂布的均勻。上述的均勻涂布機，所述涂層濃度監測器為設置在所述基材下方的電容感應器500，使用電容感應器500對所述基材100上的帶電涂層進行檢測，同時根據實時數據控制所述所述涂料霧化機構350的霧化涂料速度，用于調整涂層的厚度。實施例二 參閱圖2，僅將實施例一中的涂層濃度監測器變化為設置在所述基材100與所述上基板320之間并平行于所述上基板320的一對對射的光發射頭410和光接收頭420，可以使用光發射頭410和光接收頭420來檢測霧化涂料的濃度，當霧化涂料的濃度較高時，所述光接收頭420接收到的光必然較弱，當霧化涂料的濃度較低時，所述光接收頭420接收到的光必然較強，同時根據實時數據控制所述所述涂料霧化機構350的霧化涂料速度，用于調整涂層的厚度。參閱圖1和圖2，圖示標號20及10分別為顆粒較大的霧化涂料和顆粒較小的霧化涂料，利用霧化的方式使涂料均勻霧化(即圖示顆粒較小的霧化涂料10)，利用一對基板形成電場，使霧化后的涂料帶電顆粒形成一定質量后才能克服電場力降落至基材上(即顆粒較大的霧化涂料20)，使基材上的涂層顆粒大小形狀保持一致增強涂料均勻一致性，以上措施使涂料均勻的對基材100進行涂布。以上所述僅為本專利技術的較佳實施例，并不用以限制本專利技術，凡在本專利技術的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本專利技術的保護范圍之內。權利要求1.一種均勻涂布機，包括輸送基材(100)的涂布輥(210、220)，其特征在于所述涂布輥(210、220)輸送的基材(100)的上下方分別設置有連接正負電極的上基板(320)和下基板(310)，所述上基板(320)上均布有涂料霧化機構(350)，所述上基板(320)和下基板 (310)之間還設置有涂層濃度監測器。2.根據權利要求1所述的均勻涂布機，其特征在于所述涂布輥(210、220)為導電金屬材質，所述涂布輥(210、220)接地。3.根據權利要求2所述的均勻涂布機，其特征在于所述涂料霧化機構(350)為超聲波霧化器。4.根據權利要求3所述的均勻涂布機，其特征在于所述涂層濃度監測器為設置在所述基材下方的電容感應器(500 )。5.根據權利要求3所述的均勻涂布機，其特征在于所述涂層濃度監測器為設置在所述基材(100)與所述上基板(320)之間并平行于所述上基板(320)的一對對射的光發射頭 (410)和光接收頭(420)。全文摘要本專利技術公開了一種均勻涂布機，包括輸送基材的涂布輥，所述涂布輥輸送的基材的上下方分別設置有連接正負電極的上基板和下基板，所述上基板上均布有涂料霧化機構，所述上基板和下基板之間還設置有涂層濃度監測器,本專利技術使涂布的涂層更均勻。文檔編號B05B5/08GK102989611SQ20121039567公開日2013年3月27日 申請日期2012年10月18日 優先權日2012年10月18日專利技術者林秀云 申請人:吳江市元通紡織品有限公司本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種均勻涂布機，包括輸送基材（100）的涂布輥（210、220），其特征在于：所述涂布輥（210、220）輸送的基材（100）的上下方分別設置有連接正負電極的上基板（320）和下基板（310），所述上基板（320）上均布有涂料霧化機構（350），所述上基板（320）和下基板（310）之間還設置有涂層濃度監測器。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：林秀云，
申請(專利權)人：吳江市元通紡織品有限公司，
類型：發明
國別省市：