【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及雷達信號處理技術，尤其涉及一種目標雷達散射截面(Radar CrossSection，簡稱RCS)測量與定標處理的方法。
技術介紹
RCS測量技術是研究目標雷達散射特性的重要手段之一。RCS可根據定標體的精確RCS值、不同距離條件下的定標常數和雷達 目標與定標體的回波信號來確定。目前，在測量雷達目標與定標體的回波信號時，通常需要采用金屬支架支撐雷達目標與定標體。現有技術中，RCS測量的步驟為安放測定標體支架，測量此時的測試場背景回波Be(f);安裝定標體，測量定標體回波Se(f);安放目標支架，測量此時的測試場背景回波Bt (f);安裝目標，測量目標回波^⑴;并根據公式(8)計算目標RCSoT(f)權利要求1.一種，其特征在于，包括在時亥Ij，測量獲取安裝定標體支架后的測試場背景回波STC(f，ti)，Sbc (f, t1)=Hc(f, ti) · Bc(^t1)；在t2時刻，測量獲取安裝定標體后的定標體回波Sjf，t2)；在t3時亥lj，測量獲取安裝目標支架后的測試場背景回波Sbt (f，t3)，Sbt (f, t3) =Ht (f, t3) · Bt (f, t3)；在t4時刻，測量獲取安裝目標后的目標回波St (f，t4)；采用公式(I)進行RCS定標處理2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用公式(I)進行RCS定標誤差分析，具體為采用公式(2)、(3)、(4)進行RCS定標處理3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述Ht(f，t)采用公式(5)確定4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述采用公式(2)、(3)...
【技術保護點】
一種目標雷達散射截面測量與定標處理的方法，其特征在于，包括：在t1時刻，測量獲取安裝定標體支架后的測試場背景回波SBC(f,t1)，SBC(f,t1)=HC(f,t1)·BC(f,t1)；在t2時刻，測量獲取安裝定標體后的定標體回波SC(f,t2)；在t3時刻，測量獲取安裝目標支架后的測試場背景回波SBT(f,t3)，SBT(f,t3)=HT(f,t3)·BT(f,t3)；在t4時刻，測量獲取安裝目標后的目標回波ST(f,t4)；采用公式（1）進行RCS定標處理：σT(f)=ST(f,t4)-SBT(f,t3)SC(f,t2)-SBC(f,t1)·σC(f)---(1)其中，所述HT(f,t1)和HC(f,t3)分別表示測目標和測定標體時測量系統?測試場的傳遞函數；所述f為雷達頻率；所述分別表示目標和定標體的寬帶復散射函數；所述BT(f,t3)和BC(f,t3)分別表示測目標和測定標體時的固有背景散射。FDA00002455528000012.jpg,FDA00002455528000013.jpg
【技術特征摘要】
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