【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及集成電路封裝領域。
技術介紹
在某些應用中,期望將多個電路或多個電路功能封裝在單個集成電路封裝件中。功率調節中就進行了這種應用,其中開關式調節器的控制元件被期望與由所述控制元件所控制的功率晶體管封裝在一起。在現有技術中已經可以使用多種技術方法來完成這種封裝。特別地,兩個單獨的集成電路可以一起并排地封裝在襯底上以作為多芯片模塊,但是這種方法昂貴、性能不高且浪費印刷電路板面積。第二種方法是將兩個集成電路進行簡單地疊放,但是這種方法也十分昂貴,因為來自上部芯片的電氣連接件必須耦接到底部芯片,以連接到底部芯片的電路上和印刷電路板上。最后,功率晶體管和控制元件可制造成單個的單片式電路。當然,這樣做的優勢是提供了ー種真正的單片 器件,但是這樣做的某些劣勢導致成本明顯偏高,并且還降低了尤其是功率晶體管的性能。特別地,控制元件的芯片面積通常比金屬氧化物半導體場效應晶體管(MOSFET)的芯片面積小得多,同時當然所述控制元件的芯片面積上有更加復雜的電路,因此需要更多的處理步驟來在進行制造。另ー方面,功率晶體管結構簡單,從而與控制元件相比較需要遠少的處理步驟。因此,當制造這種單片電路吋,需要進行完整的控制元件處理過程,但是由每個晶圓所制造出的實際控制元件的數量遠低于由同樣的方法來単獨地制造控制元件所將獲得的控制元件的數量。此外,雖然不需要,但功率晶體管將受到所有附加步驟的影響,所述附加步驟會降低功率晶體管性能。因此,用這種單片電路作為解決方案特另1J昂貴。
技術實現思路
本專利技術公開了ー種進行晶圓級封裝的方法,包括a)制造第一晶圓,其上具有第一電路的重復陣列、且 ...
【技術保護點】
一種進行晶圓級封裝的方法,包括:a)制造第一晶圓,其上具有第一電路的重復陣列、且其第一表面上具有相應圖案的電路觸頭;b)制造引線框架陣列,所述引線框架陣列具有引線框架和引線框架觸頭的重復圖案,所述引線框架觸頭用于電氣連接到第一晶圓上的電路觸頭;c)將引線框架陣列上的引線框架觸頭電氣連接到第一晶圓上的電路觸頭上;d)切割第一晶圓。
【技術特征摘要】
2011.10.10 US 61/545,491;2012.01.09 US 13/346,4431.一種進行晶圓級封裝的方法,包括a)制造第一晶圓,其上具有第一電路的重復陣列、且其第一表面上具有相應圖案的電路觸頭;b)制造引線框架陣列,所述引線框架陣列具有引線框架和引線框架觸頭的重復圖案, 所述弓I線框架觸頭用于電氣連接到第一晶圓上的電路觸頭;c)將引線框架陣列上的引線框架觸頭電氣連接到第一晶圓上的電路觸頭上;d)切割第一晶圓。2.如權利要求1所述的方法,其特征在于還包括在步驟c)之后蝕刻引線框架陣列, 以使引線框架觸頭分離。3.如權利要求1所述的方法,其特征在于還包括將引線框架陣列附連到臨時襯底上, 蝕刻引線框架陣列以使引線框架觸頭分離,然后將引線框架觸頭電氣連接到第一晶圓上的電路觸頭上,并且移除臨時襯底。4.如權利要求1所述的方法,其特征在于還包括在步驟c)之后用聚合物涂覆引線框架陣列。5.如權利要求4所述的方法,其特征在于研磨聚合物的暴露表面,以在切割之前暴露出位于引線框架觸頭相反側上的封裝件觸頭。6.如權利要求5所述的方法,其特征在于還包括在步驟d)之前用焊料合金鍍覆封裝件觸頭。7.如權利要求5所述的方法,其特征在于在步驟b)之后蝕刻通過一部分的引線框架陣列,其中至少部分沒有被蝕刻通過的引線框架陣列的那一部分形成了其中的至少一個封裝件觸頭。8.如權利要求1所述的方法,其特征在于將引線框架陣列制造成具有彈性,以適應引線框架陣列和第一晶圓之間的差異膨脹。9.如權利要求8所述的方法,其特征在于將引線框架陣列上的引線框架觸頭電氣連接到第一晶圓上的電路觸頭上的步驟包括,將引線框架陣列上的引線框架觸頭焊接到第一晶圓上的電路觸頭上,且當引線框架陣列為了焊接而被加熱時其被限制膨脹。10.如權利要求8所述的方法,其特征在于將引線框架制造成使得引線框架觸頭能通過切割而被電氣分隔。11.如權利要求1所述的方法,其特征在于還包括,制造第二晶圓,其上具有第二電路的陣列;制薄第二晶圓;切割第二晶圓以形成各個的第二電路,每個第二電路的面積小于每個第一電路的面積;將第二電路布置到每個第一電路上,并且將第一和第二電路電氣連接。12.如權利要求11所述的方法,其特征在于在步驟c)之前將第二電路布置到第一電路上且電氣連接到第一電路上。13.如權利要求11所述的方法,其特征在于制造引線框架陣列的步驟包括,制造引線框架和引線框架觸頭的重復圖案,所述引線框架觸頭用于在沒有被第二電路占據的面積中電氣連接到第一晶圓上的電路觸頭上。14.如權利要求13所述的方法,其特征在于第一和第二電路通過回流焊接、或施加熱量和壓力而被電氣連接。15.如權利要求13所述的方法,其特征在于還包括在步驟c)之后蝕刻引線框架陣列, 以使引線框架觸頭分離。16.如權利要求13所述的方法,其特征在于在步驟b)之后蝕刻通過一部分的引線框架陣列,至少部分沒有被蝕刻通過的引線框架陣列的那一部分形成了其中的至少一個封裝件觸頭。17.如權利要求16所述的方法,其特征在于還包括在步驟c)之后用聚合物涂覆引線框架陣列,聚合物覆蓋著被蝕刻通過的引線框架陣列的那一部分、并且不覆蓋封裝件觸頭。18.如權利要求17所述的方法,其特征在于還包括用焊料合金鍍覆封裝件觸頭。19.如權利要求16所述的方法,其特征在于還包括在步驟c)之后用聚合物涂覆引線框架陣列,并且研磨所述聚合物以在切割之前暴露出位于引線框架觸頭相反側上的封裝件觸頭。20.如權利要求19所述的方法,其特征在于還包括在步驟d)之前用焊料合金鍍覆封裝件觸頭。21.如權利要求13所述的方法,其...
【專利技術屬性】
技術研發人員:A·R·阿什拉夫扎德,
申請(專利權)人:馬克西姆綜合產品公司,
類型:發明
國別省市:
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